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题名电镀Ag-Cd合金工艺研究
被引量:4
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作者
安茂忠
张菊香
刘建一
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机构
哈尔滨工业大学应用化学系
柳州市半导体材料厂
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期27-30,共4页
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文摘
研究了氰化物体系电沉积银镉合金的工艺。研究表明,提高镀液Cd^(2+)和Ag^+浓度比、提高电流密度、降低温度、增加镀液中络合剂和辅助络合剂的浓度都能使镀层镉含量提高,从而确定了电沉积含镉15%~18%的Ag-Cd合金镀层的最佳镀液组成和工艺条件。XRD分析表明,镉含量为17%的银镉合金镀层中含有金属间化合物AgCd。AgCd的存在,大大提高了镀层的硬度、耐磨性,但降低了其塑性,使镀层变脆。SEM观察含Cd17%的Ag-Cd合金镀层的形貌发现,镀层结晶细致,颗粒分布均匀。通过对不同镉含量的合金镀层的硬度测试,确定含镉15%~18%的Ag-Cd合金镀层硬度最高。利用阴极极化曲线分析了Ag-Cd合金的共沉积特征。
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关键词
电沉积
ag-cd合金
氰化物镀液
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Keywords
electrodeposition
ag-cd alloy
cyanide bath
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分类号
TQ153.2
[化学工程—电化学工业]
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题名碘化物槽电沉积Ag—Cd合金的主要参数及合金性能
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作者
范宏义
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第12期62-63,共2页
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关键词
碘化物
电沉积
ag-cd合金
主要性参
银镉合金
技术参数
镀合金
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分类号
TQ153.2
[化学工程—电化学工业]
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