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溅射银超细微晶膜分析
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作者 刘存业 李建 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第9期1768-1773,共6页
采用真空溅射沉积技术在硅单晶Si(111)面上制备厚度约为18nm的银超细微晶膜(AgUFCP).用掠入射X射线散射技术分析了AgUFCP的结构和膜与衬底Ag/Si(111)界面形态.用广角X射线衍射和径向分布函数探... 采用真空溅射沉积技术在硅单晶Si(111)面上制备厚度约为18nm的银超细微晶膜(AgUFCP).用掠入射X射线散射技术分析了AgUFCP的结构和膜与衬底Ag/Si(111)界面形态.用广角X射线衍射和径向分布函数探索了AgUFCP的半晶态结构特征.用差热扫描量热法检测分析了银超细微晶粒子的表面原子结构,揭示了超细微晶粒子表面生长的热动力学机理对表面壳层结构的温度依赖性. 展开更多
关键词 溅射 超细微晶 薄膜 硅单晶 agufcp
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