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Electroless deposition of W-doped Ag films onto p-Si(100)from diluted HF solution 被引量:3
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作者 叶为春 马传利 +1 位作者 王春明 周峰 《中国有色金属学会会刊:英文版》 EI CSCD 2009年第6期1474-1478,共5页
Tungsten-doped silver films were prepared by immersing hydrogen-terminated silicon wafers into the solution of 2.5 mmol/L[Ag2WO4]+0.1 mol/L HF at 50℃.Their growth and composition were characterized with atomic force ... Tungsten-doped silver films were prepared by immersing hydrogen-terminated silicon wafers into the solution of 2.5 mmol/L[Ag2WO4]+0.1 mol/L HF at 50℃.Their growth and composition were characterized with atomic force microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy,respectively.The effect of tungstate ions on the deposition of silver was investigated by X-ray diffraction(XRD)and scanning electron microscopy(SEM)by comparing W-doped Ag film with Ag film.It is found that the molar fraction of tungsten in the deposits is about 2.3%and the O to W molar ratio was about 4.0 and W-doped Ag films have good anti-corrosion in air at 350℃.The doping of tungsten cannot change the deposition of silver. 展开更多
关键词 化学沉积 钨掺杂 硅(100) 银膜 X射线光电子能谱 溶液 HF 稀释
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Crystallization behaviors of ultrathin Al-doped HfO2 amorphous films grown by atomic layer deposition 被引量:2
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作者 Xue-Li Ma Hong Yang +6 位作者 Jin-Juan Xiang Xiao-Lei Wang Wen-Wu Wang Jian-Qi Zhang Hua-Xiang Yin, Hui-Long Zhu Chao Zhao 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第2期461-466,共6页
In this work, ultrathin pure HfO_2 and Al-doped HfO_2films(about 4-nm thick) are prepared by atomic layer deposition and the crystallinities of these films before and after annealing at temperatures ranging from 550... In this work, ultrathin pure HfO_2 and Al-doped HfO_2films(about 4-nm thick) are prepared by atomic layer deposition and the crystallinities of these films before and after annealing at temperatures ranging from 550℃ to 750℃ are analyzed by grazing incidence x-ray diffraction. The as-deposited pure HfO_2 and Al-doped HfO_2 films are both amorphous. After550-℃ annealing, a multiphase consisting of a few orthorhombic, monoclinic and tetragonal phases can be observed in the pure HfO_2 film while the Al-doped HfO_2 film remains amorphous. After annealing at 650℃ and above, a great number of HfO_2 tetragonal phases, a high-temperature phase with higher dielectric constant, can be stabilized in the Al-doped HfO_2 film. As a result, the dielectric constant is enhanced up to about 35. The physical mechanism of the phase transition behavior is discussed from the viewpoint of thermodynamics and kinetics. 展开更多
关键词 al-doped HfO2 ultrathin film phase transition thermodynamics kinetics
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Structure distortion, optical and electrical properties of ZnO thin films co-doped with Al and Sb by sol-gel spin coating 被引量:1
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作者 钟文武 刘发民 +3 位作者 蔡鲁刚 周传仓 丁芃 张嬛 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第10期515-519,共5页
ZnO thin films co-doped with A1 and Sb with different concentrations and a fixed molar ratio of AlCl3 to SbCl3 at 1:2, are prepared by a sol-gel spin-coating method on glass annealed at 550 ℃ for 2 h in air. The x-r... ZnO thin films co-doped with A1 and Sb with different concentrations and a fixed molar ratio of AlCl3 to SbCl3 at 1:2, are prepared by a sol-gel spin-coating method on glass annealed at 550 ℃ for 2 h in air. The x-ray diffraction results confirm that the ZnO thin films co-doped with Al distortion, and the biaxial stresses are 1.03× 10^8. 3.26× 10^8 and Sb are of wurtzite hexagonal ZnO with a very small 5.23 × 10^8, and 6.97× 10^8 Pa, corresponding to those of the ZnO thin films co-doped with Al and Sb in concentrations of 1.5, 3.0, 4.5, 6.0 at% respectively. The optical properties reveal that the ZnO thin films co-doped with Al and Sb have obviously enhanced transmittance in the visible region. The electrical properties show that ZnO thin film co-doped with Al and Sb in a concentration of 1.5 at% has a lowest resistivity of 2.5 Ω·cm. 展开更多
关键词 ZnO thin films co-doped with al and Sb sol-gel spin-coating method structure distortion optical and electrical properties
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HIGH ENERGY Xe^+ ENHANCED ADHESION OF Al AND Ag FILMS ON OPTICAL GLASS
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作者 张通和 刘伊犁 +1 位作者 孙寅官 尚世铉 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1991年第4期236-239,共4页
The samples consisting of 100nm Al or Ag film on optical glass substrate were irradiated by a beam of Xe 5×10<sup>15</sup> to 2×10<sup>16</sup> cm<sup>-2</sup> with energy... The samples consisting of 100nm Al or Ag film on optical glass substrate were irradiated by a beam of Xe 5×10<sup>15</sup> to 2×10<sup>16</sup> cm<sup>-2</sup> with energy 320 keV. The adhesion of films on substrates was tested by Xe<sup>+</sup> irradiation. Optical character was measured by spectrophotometer. The ion mixing amount was measured by RBS. The results showed that after ion irradiating the adhesion of the film on the glass is enhanced. The adherent strength is greater than 10 kg/cm<sup>2</sup>. The thermal stability of the films is good. The irradiated film is more optically efficient, the surface is smooth and rendered more corrosion resistance. The mechanism of the film adhesion was discussed. 展开更多
关键词 High energy Xe^+ Bombard al and ag films Ion BEAM ENHANCED ADHESION
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Light scattering effect of submicro-textured Ag/Al composite films prepared at lower substrate temperatures
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作者 唐平林 吴永刚 +4 位作者 童广德 夏子奂 刘仁臣 梁钊铭 周建 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第7期590-595,共6页
We present a new and practical approach for preparing submicro-textured silver and aluminum (Ag/Al) double-structured layers at low substrate temperatures. The surface texturing of silver and aluminum double-structu... We present a new and practical approach for preparing submicro-textured silver and aluminum (Ag/Al) double-structured layers at low substrate temperatures. The surface texturing of silver and aluminum double-structured layers was performed by increasing the deposition temperature of the Al layers to 270℃. The highly submicro-textured silver and aluminum double-structured layers were prepared by thermal evaporation on quartz glasses and their surface microstructure, light scattering properties, and thermal stability were investigated. Results showed that the highly submicro-textured Ag/Al composite films prepared at low substrate temperatures used as back reflectors not only can enhance the light scattering and have good thermal stability, but also have good adhesion properties. In addition, their fabrication is low cost and readily carried out. 展开更多
关键词 random submicro-textured ag/al composite films light scattering
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Fabrication and properties of ZAO powder,sputtering target materials and the related films 被引量:6
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作者 Wei Shao Ruixin Ma Bin Liu 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 CSCD 2006年第4期346-349,共4页
Aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al), abbreviated as ZAO, is a novel and widely used transparent conductive material. The ZAO powder was synthesized by chemical coprecipitation. The ZAO ceramic sputtering target mate... Aluminum-doped zinc oxide (ZnO:Al), abbreviated as ZAO, is a novel and widely used transparent conductive material. The ZAO powder was synthesized by chemical coprecipitation. The ZAO ceramic sputtering target materials were fabricated by sintering in air, and ZAO transparent conductive films were prepared by RF magnetron sputtering on glass substrates. XRD proved that such films had an orientation of (002) crystal panel paralleled to the surface of the glass substrate. The average transmittance of the films in the visible region exceeded 80%. 展开更多
关键词 transparent conductive film al-doped zinc oxide chemical coprecipitation sputtering target materials
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同位靶磁控溅射法制备Al掺杂CdSe薄膜
7
作者 何惠江 宣乐 +2 位作者 毛高翔 刘辉 王春海 《热加工工艺》 北大核心 2024年第16期159-162,共4页
为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻... 为增加掺杂薄膜的元素均匀性,基于磁控溅射技术,设计了靶材同位共溅射制备掺杂薄膜的方法,并用于制备Al掺杂CdSe薄膜,获得了Al均匀掺杂的CdSe薄膜。结果表明:制备的薄膜为富Se状态,呈现明显的(111)择优取向。Al掺杂后的CdSe薄膜方块电阻由5.2 kΩ/□升高至544.5 kΩ/□。随着Al掺杂量的增加,薄膜的方块电阻下降。当共溅射Al片为6片时,薄膜方块电阻为7.7 kΩ/□,薄膜半导体类型由p型转变为n型。掺杂薄膜体电导率分别为192.4(未掺杂)、2.01×10^(4)(Al片数1)、506.9(Al片数2)、384.8(Al片数4)、284.9 mΩ·cm(Al片数6)。掺杂薄膜样品的禁带宽度Eg分别为1.82(未掺杂)、1.97(Al片数1)、1.75(Al片数2)、1.78(Al片数4)、1.82 eV(Al片数6)。 展开更多
关键词 同位靶磁控溅射 al掺杂CdSe薄膜 电学行为
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Al掺杂对β-Ga_(2)O_(3)薄膜光学性质的影响研究
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作者 钟琼丽 王绪 +1 位作者 马奎 杨发顺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第8期1352-1360,共9页
近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_... 近年来,半导体器件向着高散热性、高击穿场强和低能耗的方向发展,因此超宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)具有广阔的应用前景,而有效掺杂是实现β-Ga_(2)O_(3)器件的基础。实验采用磁控溅射法制备Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)/Al/Ga_(2)O_(3)复合结构,经高温退火使Al原子热扩散进入薄膜中,形成Al掺杂的β-Ga_(2)O_(3)薄膜。采用激光区熔法使薄膜区域熔化再结晶,进一步提升掺杂质量。对Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体性质、杂质含量及光学性质进行了测试表征。结果表明:Al掺杂不改变β-Ga_(2)O_(3)薄膜的晶体结构;随着Al层溅射时间延长,掺杂含量逐渐增加;当Al溅射时间为5和10 s时,薄膜紫外吸收率分别为40%和50%;随着Al溅射时间的增加,Al掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜紫外区域光吸收率逐渐增强,Al溅射时间为300 s时,β-Ga_(2)O_(3)薄膜的光吸收率接近90%;低浓度的Al掺杂会导致β-Ga_(2)O_(3)薄膜的禁带宽度变窄。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)薄膜 al掺杂 磁控溅射 Ga_(2)O_(3)/al/Ga_(2)O_(3)/al/Ga_(2)O_(3)复合结构 光吸收 光学带隙
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Influence of La-Mn-Al Co-Doping on Dielectric Properties and Structure of BST Thick Film
9
作者 Mao-Yan Fan Sheng-Lin Jiang 《Journal of Electronic Science and Technology of China》 2009年第3期281-285,共5页
A new sol-gel process is applied to fabricate the BST (BaxSr1-xTiO3) sol and nano-powder of La-Mn-Al co-doping with Ba/Sr ratio 65/35, and the BST thick film is prepared in the Pt/Ti/SiO2/Si substrate. The powder an... A new sol-gel process is applied to fabricate the BST (BaxSr1-xTiO3) sol and nano-powder of La-Mn-Al co-doping with Ba/Sr ratio 65/35, and the BST thick film is prepared in the Pt/Ti/SiO2/Si substrate. The powder and thick film are characterized by X-ray diffraction and transmission electron microscope. The influence of La-Mn-Al co-doping on the dielectric properties and micro-structure of BST thick film is analyzed. The results show that the La, Mn, and Al ions can take an obvious restraint on the growth of BaSrTiO3 grains. The polycrystalline particles come into being during the crystallization of thick film, which may improve the uniformity and compactness of thick film. The influence of unequal-valence and doping amount on the leakage current, dielectric loss, and dielectric property are mainly discussed. The dielectric constant and dielectric loss of thick film are 1200 and 0.03, respectively, in the case of 1mol% La doping, 2mol% Mn doping, and 1mol% Al doping. 展开更多
关键词 BST thick film dielectric property La-Mn-al co-doping sol-gel process
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脉冲激光沉积Al/Ag掺杂功能梯度薄膜 被引量:1
10
作者 胡少六 江超 +1 位作者 何建平 王又青 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期463-465,468,共4页
为了寻找制备梯度金属薄膜的新方法和新工艺 ,采用脉冲准分子激光扫描沉积技术 ,在Si(10 0 )单晶衬底上沉积了Al/Ag掺杂功能梯度薄膜 ,并采用SEM和XPS对制备的薄膜进行了微观分析。分析结果表明 ,运用合适的激光参数和辅助放电 ,在沉积... 为了寻找制备梯度金属薄膜的新方法和新工艺 ,采用脉冲准分子激光扫描沉积技术 ,在Si(10 0 )单晶衬底上沉积了Al/Ag掺杂功能梯度薄膜 ,并采用SEM和XPS对制备的薄膜进行了微观分析。分析结果表明 ,运用合适的激光参数和辅助放电 ,在沉积温度 30 0℃时 ,制备出了Al/Ag组分比近似为 5∶1的掺杂梯度薄膜。该实验方法说明 ,利用脉冲激光与金属掺杂靶相互作用沉积梯度金属薄膜是可行的。 展开更多
关键词 al/ag掺杂薄膜 脉冲激光沉积 微观分析 工艺参数
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应用于FED Al/Ag/Al导电复合薄膜的研究 被引量:1
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作者 杨兰 郭太良 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期2307-2310,共4页
利用Ag的高温抗氧化能力,采用磁控溅射沉积Al/Ag/Al导电复合薄膜,并在480℃下进行热处理。扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)研究表明磁控溅射的Al/Ag/Al导电复合薄膜表面平整,热处理后表面Al膜生成致密的氧化层。溅射沉积和热处理过... 利用Ag的高温抗氧化能力,采用磁控溅射沉积Al/Ag/Al导电复合薄膜,并在480℃下进行热处理。扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)研究表明磁控溅射的Al/Ag/Al导电复合薄膜表面平整,热处理后表面Al膜生成致密的氧化层。溅射沉积和热处理过程中Ag和Al原子的相互扩散,最后形成富Ag的Ag-Al合金和Ag3Al化合物。Al/Ag/Al导电复合薄膜比Ag/Al复合薄膜的电阻率增大了一个数量级,导电复合薄膜热处理后导电性能更优,电阻率约为19.4×10-6Ω.cm。 展开更多
关键词 al/ag/al 导电复合薄膜 热处理 电阻率
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Al/Ag/Al复合薄膜电极的抗氧化性和电性能研究 被引量:1
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作者 林志龙 袁军林 +2 位作者 翁卫祥 杨雄 郭太良 《光电子技术》 CAS 北大核心 2009年第4期231-235,共5页
为开发大尺寸场发射显示器需要的能承受高温热处理的薄膜电极,以Al作为Ag层的保护层和与玻璃衬底的粘附层,采用直流磁控溅射制备了Al/Ag/Al复合薄膜及其电极。采用XRD、AFM、光学显微镜和电性能测试系统,研究不同温度热处理对复合薄膜... 为开发大尺寸场发射显示器需要的能承受高温热处理的薄膜电极,以Al作为Ag层的保护层和与玻璃衬底的粘附层,采用直流磁控溅射制备了Al/Ag/Al复合薄膜及其电极。采用XRD、AFM、光学显微镜和电性能测试系统,研究不同温度热处理对复合薄膜和电极结构、表面形貌和电性能的影响。由于表面致密的Al2O3膜的保护,使得加热退火(<600°C)不会对Al/Ag/Al薄膜和电极造成明显的氧化,然而Al层与Ag层发生的界面扩散和固相反应增大了电极的电阻率(从5.0×10-8Ω.m上升至23.6×10-8Ω.m)。另外热处理温度足够高时(500°C、600°C),Ag原子向表面的扩散一定程度上降低了电极的化学稳定性。尽管如此,与Cr/Cu/Cr薄膜电极相比Al/Ag/Al薄膜电极仍然是一种能够承受高温热处理并且保持较低电阻率的新型电极。 展开更多
关键词 al/ag/al薄膜 薄膜电极 微观结构 界面化学反应
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Al掺杂对TiO_(2)薄膜结构及光学性能的影响
13
作者 王玉新 赵莉 +2 位作者 王禄 王泽文 蔺冬雪 《辽宁师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2023年第1期37-42,共6页
通过溶胶-凝胶法制备了本征TiO_(2)和Al掺杂的Al-TiO_(2)薄膜样品.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、薄膜测厚仪对制备的薄膜样品的性能进行了分析.分析表明:与本征TiO_(2)薄膜相比,Al的掺杂使... 通过溶胶-凝胶法制备了本征TiO_(2)和Al掺杂的Al-TiO_(2)薄膜样品.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、薄膜测厚仪对制备的薄膜样品的性能进行了分析.分析表明:与本征TiO_(2)薄膜相比,Al的掺杂使(101)晶面对应的衍射峰发生了一定角度的偏移,TiO_(2)的基本结构没有发生改变,晶粒尺寸缩小,晶面结构得到细化,扩大了薄膜的比表面积.随着Al掺杂量的增加,Al-TiO_(2)薄膜样品的光吸收度发生不同程度的改变,光学带隙值与本征TiO_(2)薄膜相比有所减小.当Al掺杂量为3at%时,所得薄膜样品结晶质量良好,晶粒分布均匀,吸光度表现最佳,带隙值最小为3.249eV. 展开更多
关键词 TiO_(2)薄膜 溶胶-凝胶法 al掺杂 光学性能 晶体结构
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Al-Ag弱掺杂ZnO薄膜的结构和光学特性 被引量:2
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作者 方来鹏 谭红琳 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2010年第24期128-129,134,共3页
采用溶胶凝胶法制备了Al-Ag共掺杂的ZnO薄膜,研究了该ZnO薄膜的表面形貌、微结构和光学性质。结果表明,通过改变Al、Ag掺杂量与Zn的比值,ZnO薄膜呈现出良好的C轴取向。
关键词 溶胶凝胶法 al-ag掺杂 ZNO薄膜
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Al/Pb-0.2%Ag阳极在氟离子和硫酸体系中的电化学行为
15
作者 宋宏伟 黄惠 +2 位作者 谭宁 陈步明 郭忠诚 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2016年第12期1455-1461,共7页
为了研究铝基铅银合金阳极在含氟离子和硫酸的体系中电化学行为,对含银0.2%的铝基铅银合金阳极(Al/Pb-0.2%Ag)分别在不同氟离子(F-)和硫酸浓度下进行循环伏安测试和恒电流极化曲线进行了测试。结果表明,F-浓度升高时,对阳极表面单质铅... 为了研究铝基铅银合金阳极在含氟离子和硫酸的体系中电化学行为,对含银0.2%的铝基铅银合金阳极(Al/Pb-0.2%Ag)分别在不同氟离子(F-)和硫酸浓度下进行循环伏安测试和恒电流极化曲线进行了测试。结果表明,F-浓度升高时,对阳极表面单质铅氧化成二价铅以及二价铅氧化成四价铅有抑制作用,对四价铅还原为二价铅有抑制作用,但是对二价铅还原为单质铅有促进作用;此时析氧反应受阻,氧化成膜反应将被促进;硫酸浓度升高时,阳极上面铅的氧化和还原程度均先增大后减小;硫酸浓度为20 g/L、F-浓度0.1 g/L时阳极的氧化成膜和析氧反应最为有利。 展开更多
关键词 al/Pb-0.2%ag阳极 电化学行为 氧化成膜 析氧反应
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Al/N共掺杂TiO_(2)薄膜的制备及光学性能
16
作者 王泽文 赵莉 +1 位作者 蔺冬雪 王玉新 《半导体光电》 CAS 北大核心 2023年第1期87-91,共5页
采用溶胶-凝胶旋涂法(Sol-Gel Spin-Coating Method)制备了Al掺杂量为3.00at%,N掺杂量分别为6.00at%,7.00at%,8.00at%和9.00at%的Al/N共掺杂TiO_(2)薄膜样品。对样品测试的结果表明,共掺杂样品依旧保留了TiO_(2)的基本结构,并且Al/N共... 采用溶胶-凝胶旋涂法(Sol-Gel Spin-Coating Method)制备了Al掺杂量为3.00at%,N掺杂量分别为6.00at%,7.00at%,8.00at%和9.00at%的Al/N共掺杂TiO_(2)薄膜样品。对样品测试的结果表明,共掺杂样品依旧保留了TiO_(2)的基本结构,并且Al/N共掺杂样品的晶粒尺寸有不同程度的减小,使样品表面得以修饰,变得更加均匀、平整。共掺杂样品吸收边都出现了不同程度的红移,在紫外光区以及可见光区的吸光性都有所增强。N掺杂量为7.00at%时,(101)衍射峰值最大,峰型最尖锐,所得到的TiO_(2)薄膜的光学性能最好。共掺杂后的样品与本征TiO_(2)相比带隙值都有所减小,且最小值为2.873 eV。以上结果表明Al/N共掺杂TiO_(2)薄膜使其光学性能得到了改善。 展开更多
关键词 al/N共掺杂 TiO_(2)薄膜 光学性能 溶胶-凝胶法
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磁控溅射TiCN薄膜对Al-Cu-Mg-Ag合金组织与性能的影响
17
作者 王艳琴 刘晓艳 +2 位作者 杨鸿儒 张园 朱晓松 《河北工程大学学报(自然科学版)》 CAS 2022年第2期100-105,共6页
基于正交试验设计,在铝合金表面磁控溅射沉积TiCN薄膜,采用盐雾腐蚀、电化学腐蚀、硬度测试等探究磁控溅射工艺参数(钛靶功率、碳靶功率、氮氩比)对Al-Cu-Mg-Ag合金硬度与抗腐蚀性能的影响规律,并结合扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等... 基于正交试验设计,在铝合金表面磁控溅射沉积TiCN薄膜,采用盐雾腐蚀、电化学腐蚀、硬度测试等探究磁控溅射工艺参数(钛靶功率、碳靶功率、氮氩比)对Al-Cu-Mg-Ag合金硬度与抗腐蚀性能的影响规律,并结合扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等对其机理进行探讨。结果表明:磁控溅射工艺参数对合金的膜层硬度、盐雾最大腐蚀深度、腐蚀电流密度、膜基结合力的影响顺序分别为:氮氩比>C靶功率>Ti靶功率;C靶功率>氮氩比>Ti靶功率;C靶功率>氮氩比>Ti靶功率;Ti靶功率>C靶功率=氮氩比。C靶功率200 W、Ti靶功率100 W、氮氩比为1:40时,可以获得耐蚀性、硬度和膜基结合力综合性能优良的TiCN膜层。 展开更多
关键词 al-CU-MG-ag合金 磁控溅射 TiCN薄膜 力学性能 抗腐蚀性能
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Al掺杂量和衬底温度对ALD沉积的ZnMgO∶Al薄膜的影响
18
作者 郭栋豪 唐芝平 +3 位作者 邓陈坤 朱文超 周驰宇 谈晓辉 《西北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2023年第2期67-71,共5页
ZnMgO∶Al具有近紫外透明导电薄膜的应用潜力.使用原子层沉积(ALD)制备了ZnMgO∶Al薄膜,研究了Al掺杂量和衬底温度对ZnMgO∶Al薄膜的物相和光电性能的影响.研究结果表明,在较高Mg含量下,Al重掺杂(>5%)将破坏ZnMgO∶Al的结晶性,迅速... ZnMgO∶Al具有近紫外透明导电薄膜的应用潜力.使用原子层沉积(ALD)制备了ZnMgO∶Al薄膜,研究了Al掺杂量和衬底温度对ZnMgO∶Al薄膜的物相和光电性能的影响.研究结果表明,在较高Mg含量下,Al重掺杂(>5%)将破坏ZnMgO∶Al的结晶性,迅速恶化其电学性能.ZnMgO∶Al的光学性质对衬底温度不敏感,但较高的衬底温度(210℃)能大幅改善薄膜的导电性. 展开更多
关键词 ZnMgO∶al al掺杂 衬底温度 透明导电薄膜
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高温扩散工艺制备带隙可调的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)薄膜
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作者 谭黎 张俊 +3 位作者 张敏 赵荣力 邓朝勇 崔瑞瑞 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第2期281-288,共8页
β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)因其优异的抗击穿及带隙可调节性在现代功率器件及深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用前景,然而传统直接生长工艺的复杂性和难度限制了其进一步的发展。因此,本文采用较为简单的高温扩散工艺在c面蓝宝... β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)因其优异的抗击穿及带隙可调节性在现代功率器件及深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用前景,然而传统直接生长工艺的复杂性和难度限制了其进一步的发展。因此,本文采用较为简单的高温扩散工艺在c面蓝宝石衬底上成功制备了β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)纳米薄膜。利用X射线衍射、原子力显微镜、扫描电子显微镜和紫外-可见分光光度计对其进行了表征。由于高温下蓝宝石衬底中的Al原子向Ga_(2)O_(3)层扩散,β-Ga_(2)O_(3)薄膜将转变为Al、Ga原子比例不同的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)薄膜。实验结果显示:当退火温度从1 010℃增加到1 250℃时,薄膜中Al的平均含量从0.033增加到0.371;当退火温度从950℃增加到1 250℃时,薄膜的厚度从186 nm增加到297 nm,粗糙度从2.31 nm增加到15.10 nm;当退火温度从950℃增加到1 190℃时,薄膜的带隙从4.79 eV增加至5.96 eV。结果表明高温扩散工艺能够有效调节β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)薄膜的光学带隙,为β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)基新型光电子器件提供了实验基础。 展开更多
关键词 β-(al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3) Ga_(2)O_(3) al掺杂 半导体薄膜 高温扩散 可调带隙 磁控溅射
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膜厚对Zr,Al共掺杂ZnO透明导电薄膜结构和光电性能的影响 被引量:12
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作者 袁玉珍 王辉 +2 位作者 张化福 刘汉法 刘云燕 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期169-173,共5页
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌。研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。另外还研究了薄膜... 采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌。研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。另外还研究了薄膜的结构、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系。当薄膜厚度为843nm时,电阻率具有最小值1.18×10-3Ω.cm,在可见光区(500~800nm)平均透过率超过93%。 展开更多
关键词 磁控溅射 Zr al共掺杂ZnO 膜厚 透明导电薄膜
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