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Study on theoretical model for electrical explosion resistivity of Al/Ni reactive multilayer foil
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作者 Zehao Wang Tao Wang +2 位作者 Pengfei Xue Mingyu Li Qingxuan Zeng 《Defence Technology(防务技术)》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第2期348-356,共9页
Al/Ni reactive multilayer foil(RMF)possesses excellent comprehensive properties as a promising substitute for traditional Cu bridge.A theoretical resistivity model of Al/Ni RMF was developed to guide the optimization ... Al/Ni reactive multilayer foil(RMF)possesses excellent comprehensive properties as a promising substitute for traditional Cu bridge.A theoretical resistivity model of Al/Ni RMF was developed to guide the optimization of EFIs.Al/Ni RMF with different bilayer thicknesses and bridge dimensions were prepared by MEMS technology and electrical explosion tests were carried out.According to physical and chemical reactions in bridge,the electrical explosion process was divided into 5 stages:heating of condensed bridge,vaporization and diffusion of Al layers,intermetallic combination reaction,intrinsic explosion,ionization of metal gases,which are obviously shown in measured voltage curve.Effects of interface and grain boundary scattering on the resistivity of film metal were considered.Focusing on variations of substance and state,the resistivity was developed as a function of temperature at each stage.Electrical explosion curves were calculated by this model at different bilayer thicknesses,bridge dimensions and capacitor voltages,which showed an excellent agreement with experimental ones. 展开更多
关键词 al/ni reactive multilayer foil Electrical explosion Resistivity model Phase transition CalCULATION
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Al/Ni反应多层膜的电爆炸及驱动性能研究 被引量:6
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作者 王涛 曾庆轩 +1 位作者 李明愉 张子超 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期1-5,共5页
为了研究Al/Ni反应多层膜在爆炸箔起爆系统上应用的可行性,采用磁控溅射法制备了相同厚度的Cu和Al/Ni多层膜桥箔,利用SU-8光刻胶制备一定厚度的加速膛,研究了两类桥箔在相同放电回路中的沉积能量和驱动飞片的平均速度。结果表明:... 为了研究Al/Ni反应多层膜在爆炸箔起爆系统上应用的可行性,采用磁控溅射法制备了相同厚度的Cu和Al/Ni多层膜桥箔,利用SU-8光刻胶制备一定厚度的加速膛,研究了两类桥箔在相同放电回路中的沉积能量和驱动飞片的平均速度。结果表明:在储能电容电压为1306V的放电回路中,Al/Ni多层膜的沉积能量为0.1205~0.1274J,相比Cu箔提高了近1倍。在电压为1900V时,多层膜沉积能量比Cu箔提升了18%~58%;多层膜驱动的飞片平均速度高于叫占驱动飞片约10%。因此,Al/Ni反应多层膜能降低爆炸箔起爆系统的起爆阈值,提高其冲击起爆的可靠性。 展开更多
关键词 含能材料 al/ni反应多层膜 爆炸箔起爆系统 沉积能量
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多层Al/Ni含能薄膜在电容放电激励下的能量释放特性和规律 被引量:4
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作者 付帅 沈瑞琪 +2 位作者 朱朋 叶迎华 马宏玲 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期155-161,86,共8页
为了研究Al/Ni含能薄膜的能量释放特性和规律,采用微细加工方法制备了双"V"型夹角的Al/Ni含能薄膜换能元。研究了Al/Ni含能薄膜换能元在47μF固体钽电容放电激励下的能量释放特性和规律。电爆炸测试时,用自主研制的ALG-CN1储... 为了研究Al/Ni含能薄膜的能量释放特性和规律,采用微细加工方法制备了双"V"型夹角的Al/Ni含能薄膜换能元。研究了Al/Ni含能薄膜换能元在47μF固体钽电容放电激励下的能量释放特性和规律。电爆炸测试时,用自主研制的ALG-CN1储能放电起爆仪作激励电源。电容器用47μF固体钽电容,充电电压为10~45 V。用高速摄影仪(HG-100K)观察换能元的发火过程。用数字示波器(LeCroy44Xs,4通道)记录换能元发火时电流、电压随时间的变化曲线。结果表明,Al/Ni含能薄膜换能元在电容激励下的电爆过程按照电流变化率(dI/dt)可以分为三个阶段:回路寄生电感的储能,换能元的电爆炸及等离子体加热。与相同桥型的NiCr薄膜换能元比较,所制备的Al/Ni含能薄膜换能元具有输出能量高以及电爆后产生的火花飞溅距离长的特点。发火回路的寄生电感对于换能元的起爆具有重要作用。Al/Ni含能薄膜换能元电爆炸时的输出能量主要来源于两部分:电容的输入能量和含能薄膜释放的化学能。 展开更多
关键词 al/ni含能薄膜 换能元 电爆性能 输出能量
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Al/Ni反应性多层复合膜的燃烧速率实验及计算模型
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作者 王芳 朱艳丽 焦清介 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期18-21,I0002,共5页
采用改进的Mann模型,计算了Al/Ni比例(1∶1,1.5∶1,3∶1)、预混层厚度、反应初始温度对复合膜燃烧速率的影响。通过磁控溅射法制备了相同比例的Al/Ni复合膜,测量了其燃烧反应速度。结果表明:随着Al含量的增加,复合膜燃烧速率减小;存在... 采用改进的Mann模型,计算了Al/Ni比例(1∶1,1.5∶1,3∶1)、预混层厚度、反应初始温度对复合膜燃烧速率的影响。通过磁控溅射法制备了相同比例的Al/Ni复合膜,测量了其燃烧反应速度。结果表明:随着Al含量的增加,复合膜燃烧速率减小;存在一个临界厚度,在临界厚度点复合膜燃烧速率最大。且当调制周期小于临界值时,燃烧速率与调制周期成正比,而当调制周期大于临界厚度时,复合膜燃烧速率与调制周期成反比;随着反应初始温度增高,Al/Ni反应性多层复合膜的燃烧速率增大。实验结果验证了模型的有效性。 展开更多
关键词 al/ni 复合膜 燃烧速率 磁控溅射 调制周期
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Ni/Al纳米金属箔自蔓延焊接钛/铜异种材料 被引量:4
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作者 何金江 徐学礼 +1 位作者 王越 李勇军 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期109-112,118,共5页
以Ni/Al纳米多层自蔓延金属箔代替传统加热设备作为热源对钛和铜进行了钎焊,评价了焊接组件的平面度、焊接结合率、钎缝抗剪强度以及Ni/Al多层自蔓延金属箔与焊料的结合情况.结果表明,采用Ni/Al多层自蔓延金属箔作为热源,焊接组件在焊... 以Ni/Al纳米多层自蔓延金属箔代替传统加热设备作为热源对钛和铜进行了钎焊,评价了焊接组件的平面度、焊接结合率、钎缝抗剪强度以及Ni/Al多层自蔓延金属箔与焊料的结合情况.结果表明,采用Ni/Al多层自蔓延金属箔作为热源,焊接组件在焊接前后温度变化较小,焊后平面度可控制在0.1 mm以内,焊接结合率达到98.3%,钎缝强度达到40.791 MPa.采用带EDX功能的扫描电镜对钎缝微观组织进行了分析,焊料与Ni/Al金属箔之间结合紧密,Ni/Al金属箔在应力作用下发生碎裂,降低了钎缝中残留的焊接应力,金属箔两侧焊料在压力作用下流过裂纹融为一体. 展开更多
关键词 多层金属箔 平面度 焊接结合率 强度 焊缝
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多层膜自持反应的数值模拟
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作者 王亮 蒋小华 +1 位作者 何碧 王丽玲 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期4-7,共4页
采用有限差分法对Al/Ni多层膜的自持反应历程进行了数值模拟,研究了多层膜反应时的反应温度、速度以及反应区形状与宽度。结果表明:Al单层厚度为10nm的Al/Ni多层膜建立自持反应的时间约为0.01ms,且此时间随Al单层厚度增大而增加。稳定... 采用有限差分法对Al/Ni多层膜的自持反应历程进行了数值模拟,研究了多层膜反应时的反应温度、速度以及反应区形状与宽度。结果表明:Al单层厚度为10nm的Al/Ni多层膜建立自持反应的时间约为0.01ms,且此时间随Al单层厚度增大而增加。稳定传播之前的反应速度较快,反应区宽度较之稳定传播后窄;稳定传播后,反应区宽度不再变化;此外,反应区由于预混层的存在呈现U形,与试验结果吻合。 展开更多
关键词 反应多层膜 al/ni 自持传播 数值模拟 反应区
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