退火温度对铝钕薄膜性能的影响

为了研究退火温度对铝钕薄膜性能的影响规律,采用直流磁控溅射法在玻璃上制备了不同溅射功率、Al-0.5at%Nd和Al-2.5 at%Nd的合金薄膜,对薄膜样品分别进行230℃及300℃真空退火1 h。利用SEM、AFM对退火前后的AlNd薄膜的表面形貌、粗糙镀以及颗粒大小进行表征。结果表明:当退火温度达到300℃时,不同条件制备的薄膜表面均出现小丘,且溅射功率大小、掺杂钕(Nd)的浓度均能影响小丘密度。对于铝中掺杂0.5at和2.5%比例的钕在温度达到300℃时也不能抑制小丘的生长。