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硫化铋忆阻器的制备及其图像识别研究
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作者 李振玉 李跃忠 +4 位作者 刘剑 齐娟娟 王一 聂颖 张晓芳 《机电工程技术》 2024年第3期67-71,102,共6页
随着现代信息技术的飞速发展,传统的冯·诺伊曼计算架构存在数据处理与存储分离现象,在数据处理方面出现了瓶颈。基于忆阻器的人工突触阵列具有高的并行计算能力以及存算一体的特点,使得其在神经形态计算和人工神经网络等领域的应... 随着现代信息技术的飞速发展,传统的冯·诺伊曼计算架构存在数据处理与存储分离现象,在数据处理方面出现了瓶颈。基于忆阻器的人工突触阵列具有高的并行计算能力以及存算一体的特点,使得其在神经形态计算和人工神经网络等领域的应用具有显著优势。通过采用溶液旋涂法,在空气环境下成功制备了结构为Ag/Bi_(2)S_(3)/ITO的忆阻器件,并对器件的忆阻特性进行了测试。直流Ⅰ-Ⅴ循环测试结果表明,所制备的忆阻器具有极低的开关电压和良好的一致性。此外,通过设置合适的脉冲测试条件进一步获得了线性的电导调节特性。最后,将具有非易失特性的Ag/Bi_(2)S_(3)/ITO忆阻器作为人工突触和神经元建模,利用Python构建了用于手写数字识别的全连接神经网络,其线性可调节电导特性作为网络的权重更新,获得了高达87.46%的数字识别准确率,该研究结果为新型低功耗类脑芯片提供了一种可行的应用方案。 展开更多
关键词 忆阻器 人工突触 神经形态计算 Bi_(2)S_(3)薄膜 全连接神经网络
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电化学沉积WS_(3)薄膜及其忆阻特性研究
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作者 段尧禹 万茜 《现代信息科技》 2024年第15期24-27,共4页
对基于二维材料的垂直阵列忆阻器进行了研究。面对二维材料生长窗口狭窄,难以制备大面积单晶等挑战,通过可控电化学沉积沉积了大面积WS_(3)薄膜。基于WS_(3)薄膜制备了垂直阵列结构忆阻器件。对2×2的4个忆阻器单元进行I-V特性扫描... 对基于二维材料的垂直阵列忆阻器进行了研究。面对二维材料生长窗口狭窄,难以制备大面积单晶等挑战,通过可控电化学沉积沉积了大面积WS_(3)薄膜。基于WS_(3)薄膜制备了垂直阵列结构忆阻器件。对2×2的4个忆阻器单元进行I-V特性扫描,均展现出了双极性忆阻特性。开关寿命达1.5×10^(4)次,对于仿神经训练脉冲信号有着明显的响应。大面积二维材料的制备与稳定的忆阻性能为高集成度忆阻器件提供了关键的电学参数与广阔的应用前景。 展开更多
关键词 忆阻器 WS_(3)薄膜 阵列 脉冲
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Organic Memristor Based on High Planar Cyanostilbene/Polymer Composite Films 被引量:1
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作者 ZHAO Jinjin LI Wei +8 位作者 WANG Xuechen WEI Xiao ZHU Huiwen QU Wenshan MEN Dandan GAO Zhixiang WEI Bin GAO Hanfei WU Yuchen 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2023年第1期121-126,共6页
Organic memristors with low power consumption,fast write/erasure speed,and complementary metal-oxide-semiconductor(CMOS)compatibility have attracted tremendous attention to mimic biological synapses to realize neuromo... Organic memristors with low power consumption,fast write/erasure speed,and complementary metal-oxide-semiconductor(CMOS)compatibility have attracted tremendous attention to mimic biological synapses to realize neuromorphic computation in recent years.In this paper,organic resistive switching memory(ORSM)based on(Z)-3-(naphthalen-2-yl)-2-(4-nitrophenyl)acrylonitrile(NNA)and polymer poly(N-vinylcarbazole)(PVK)composite film was prepared by spin-coating method.Device performance based on NNA:PVK composite films with different mass fractions of NNA were systematically investigated.The ORSM based on PVK:40%(mass fraction)NNA composite film exhibited non-volatile and bipolar memory properties with a switching ratio(Ion/Ioff)of 24.1,endurance of 68 times and retention time of 104 s,a“SET”voltage(Vset)of−0.55 V and a“RESET”voltage(Vreset)of 2.35 V.The resistive switching was ascribed to the filling and vacant process of the charge traps induced by NNA and the inherent traps in PVK bulk.The holes trapping and de-trapping process occurred when the device was applied with a negative or positive bias,which caused the transforming of the conductive way of charges,that is the resistive behaviors in the macroscopic.This study provides a promising platform for the fabrication of ORSM with high performance. 展开更多
关键词 Organic memristor Resistive switching Polymer/molecule composite film
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银掺杂忆阻器的开关特性和限流调控
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作者 仉佳艺 赵思濛 +2 位作者 杨一鸣 徐娇 唐灵芝 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第10期1691-1701,共11页
为了更好地通过低成本、易操作的方法获得性能优异的忆阻器,解决忆阻器在操作电压和循环次数等方面存在的问题,制备掺杂不同质量AgⅠ的前驱体溶液。采用低成本的低温旋涂工艺完成掺银功能层的制备,再采用蒸镀工艺实现基于Ag/Ag^(+)掺杂... 为了更好地通过低成本、易操作的方法获得性能优异的忆阻器,解决忆阻器在操作电压和循环次数等方面存在的问题,制备掺杂不同质量AgⅠ的前驱体溶液。采用低成本的低温旋涂工艺完成掺银功能层的制备,再采用蒸镀工艺实现基于Ag/Ag^(+)掺杂有机-无机杂化钙钛矿(OIHP)/氧化铟锡(ITO)的忆阻器的制备。掺杂70 mg AgⅠ的忆阻器与未掺杂忆阻器相比,开启电压由0.3 V降至0.13 V,循环次数提升了约20倍,高达100次以上。此外,通过限流调控,器件可同时实现多级存储功能、非易失阻变开关功能以及阈值选通功能,并且选通器双向阈值电压高度对称,开态电流达到100μA以上,泄漏电流在1 nA以下。该研究有效地优化了忆阻器的操作电压和循环次数。 展开更多
关键词 钙钛矿薄膜 忆阻器 低温掺杂 限流调控 AgⅠ
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铝基薄膜忆阻器作为感觉神经系统的习惯化特性 被引量:3
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作者 朱玮 郭恬恬 +1 位作者 刘兰 周荣荣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期291-298,共8页
感觉神经系统可在外界刺激与生物体反应之间建立联系.感觉神经系统中的最小单位神经元可直接将外界刺激传递至中枢神经,再由中枢神经通过控制和调节生物体对外界刺激作出反应.神经突触连接了相邻神经元进行脉冲信息传递功能.习惯化是神... 感觉神经系统可在外界刺激与生物体反应之间建立联系.感觉神经系统中的最小单位神经元可直接将外界刺激传递至中枢神经,再由中枢神经通过控制和调节生物体对外界刺激作出反应.神经突触连接了相邻神经元进行脉冲信息传递功能.习惯化是神经突触在信息传递中过滤外界无关信息时的一个基本特性,可以让感觉神经系统更快速地适应外界环境变化.忆阻器模拟神经突触功能在近年获得进展,然而针对以忆阻器为基础的具有习惯化特性的神经突触以及完整神经系统的研究相对匮乏.本文利用磁控溅射技术制备了厚度约为40 nm且含铝纳米颗粒的氮化铝薄膜忆阻器,并发现这种结构忆阻器对于重复的外界刺激有明显的习惯化行为,该行为与感觉神经系统的习惯化特性极为相似.若将这种具有习惯化的神经突触与感觉神经元串联,可形成LIF(leaky integrate-and-fire)生物模型模拟完整的神经系统行为,也为忆阻器在第三代神经网络(脉冲神经网络)中的应用提供理论参考. 展开更多
关键词 铝基薄膜忆阻器 习惯化 感觉神经系统
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溶胶凝胶法制备TiO_2薄膜忆阻器
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作者 李震 朱记 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第9期75-77,共3页
忆阻器被认为是除电阻、电容、电感元件之外的第四个基本的无源元件,由于它具有非易失记忆在众多领域里有广泛的应用前景。采用溶胶凝胶法在玻璃衬底上制备出TiO2薄膜,用探针法和半导体参数分析仪表征它的I-V特性,用原子力显微镜表征它... 忆阻器被认为是除电阻、电容、电感元件之外的第四个基本的无源元件,由于它具有非易失记忆在众多领域里有广泛的应用前景。采用溶胶凝胶法在玻璃衬底上制备出TiO2薄膜,用探针法和半导体参数分析仪表征它的I-V特性,用原子力显微镜表征它的表面形貌,用台阶仪测量它的厚度。结果表明在两个电极之间的TiO2薄膜具有忆阻器特性,阈值电压约为0.8V,两态电阻分别是53?和5?。 展开更多
关键词 忆阻器 溶胶凝胶法 TIO2薄膜 I-V特性 存储 非线性
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氧空位含量对铝基薄膜忆阻器的影响及稳定性研究 被引量:1
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作者 刘兰 朱玮 +2 位作者 文常保 周荣荣 郭恬恬 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2021年第7期665-669,共5页
忆阻器因其电荷随流经电流变化的特性被认为是重要仿生器件之一。制备性能可控稳定的忆阻器是很有意义的。氧空位含量是影响材料阻变特性的关键因素之一,它对器件运行参数的影响至关重要。本文通过射频磁控溅射和高温退火的方法制备不... 忆阻器因其电荷随流经电流变化的特性被认为是重要仿生器件之一。制备性能可控稳定的忆阻器是很有意义的。氧空位含量是影响材料阻变特性的关键因素之一,它对器件运行参数的影响至关重要。本文通过射频磁控溅射和高温退火的方法制备不同氧空位含量的铝基薄膜忆阻器。氧空位含量增加表明铝基薄膜内含有更多的游离Al原子,使流经器件电流增高。经过测试表明,含有较高氧空位含量的忆阻器拥有较高的开态电流(I_(on))10^(-2 )A、关态电流(I_(off))10^(-6 )A和较低的置位电压(V_(set))1.2 V。另外含有较高氧空位含量的样品同时还具有更短的激发时间0.7 s,其LRS状态的保持时间在85℃温度下可达219.9天。该研究为忆阻器在硬件制备和神经网络电路设计等应用提供了参考。 展开更多
关键词 铝基薄膜忆阻器 铝纳米颗粒 氧空位 单极阻变特性
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低能Ar+刻蚀时间对抛光单晶LiNbO3薄膜忆阻器的影响
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作者 梁翔 帅垚 +2 位作者 潘忻强 乔石珺 吴传贵 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第5期60-66,共7页
调节低能Ar+刻蚀对单晶LiNbO3(LN)的刻蚀时间,制备了不同LN厚度的单晶薄膜忆阻器。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和电子顺磁共振(EPR)对器件的微观形貌与表面氧空位进行了表征。通过电流-电压曲线(IV曲线)、数据保持特性(... 调节低能Ar+刻蚀对单晶LiNbO3(LN)的刻蚀时间,制备了不同LN厚度的单晶薄膜忆阻器。利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和电子顺磁共振(EPR)对器件的微观形貌与表面氧空位进行了表征。通过电流-电压曲线(IV曲线)、数据保持特性(Retention)和抗疲劳特性(Endurance)的测试,探究了刻蚀时长对器件电学行为的影响。结果表明,随刻蚀时间增加,器件表面光滑均匀,氧空位浓度增加,电形成电压显著降低。同时,尽管LN薄膜厚度减小后,器件的开关比(On/Off)略有降低,但其具有更好的数据保持特性。该方法适用于对由离子注入剥离法制备的单晶薄膜进行改性,以调控其阻变特性,使之可在高密度存储、神经形态计算等领域得到应用。 展开更多
关键词 忆阻器 LiNbO3薄膜 阻变 低能离子辐照
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电极材料及偏压极性对氧化物介质击穿行为的影响及机制
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作者 王彦彬 刘倩 +2 位作者 王勇 代波 魏贤华 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第8期341-347,共7页
忆阻器和能量存储电容器具有相同的三明治结构,然而两个器件需要的操作电压有明显差异,因此在同一个器件中,研究操作电压的影响因素并对操作电压进行调控,实现器件在不同领域的应用是十分必要的一个工作.本文利用反应磁控溅射技术在ITO... 忆阻器和能量存储电容器具有相同的三明治结构,然而两个器件需要的操作电压有明显差异,因此在同一个器件中,研究操作电压的影响因素并对操作电压进行调控,实现器件在不同领域的应用是十分必要的一个工作.本文利用反应磁控溅射技术在ITO导电玻璃、Pt/Si基底上生长了多晶ZrO_2和非晶TaO_x薄膜,选用不同金属材料Au, Ag和Al用作上电极构建了多种金属/氧化物介质/金属三明治结构的电容器,研究了器件在不同偏压极性下的击穿强度.结果发现:底电极是ITO的ZrO_2基电容器在负偏压下的击穿电场比Pt电极器件稍大.不管底电极是ITO还是Pt, Ag作为上电极时器件的击穿强度均存在明显的偏压极性依赖性,正偏压下的击穿电场减小了一个数量级;相反,在Al作为上电极的Al/TaO_x/Pt器件中,正向偏压比负向偏压下的击穿电场增加了近2倍.上述器件的不同击穿行为分别可以由氧化物电极和介质界面层间氧的迁移和重排、电化学活性金属电极的溶解迁移和还原以及化学活性金属电极与氧化物界面的氧化还原反应来解释.该实验结果对有不同操作电压要求的器件,如忆阻器和介质储能电容器等在器件设计和操作方面具有指导意义. 展开更多
关键词 氧化物薄膜 电极材料 偏压极性 击穿机理 忆阻器 电容器
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共价有机框架薄膜的界面生长策略及其在忆阻器中的研究进展
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作者 刘磊 邹相龙 +1 位作者 吴凌莉 雷圣宾 《中国科学:化学》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期521-536,共16页
随着大数据和物联网时代数字通信技术的飞速发展,忆阻器在高密度数据存储技术和神经形态计算等应用中扮演着越来越重要的角色.得益于共价有机框架(COF)材料优异的可设计性及独特的光电特性,同时,伴随着液体界面辅助的制备策略不断发展... 随着大数据和物联网时代数字通信技术的飞速发展,忆阻器在高密度数据存储技术和神经形态计算等应用中扮演着越来越重要的角色.得益于共价有机框架(COF)材料优异的可设计性及独特的光电特性,同时,伴随着液体界面辅助的制备策略不断发展与完善,COF材料在存储器件中的应用得到了极大推广.为了开发更高性能的基于COF材料的存储器件,需要全面地了解从材料设计、制备到器件应用的不断发展.因此,本综述系统地总结了COF薄膜的制备策略及其在忆阻器中应用的进展.最后,我们对基于COF存储器件的当前挑战及未来发展进行了总结与展望. 展开更多
关键词 共价有机框架薄膜 液体界面辅助法 忆阻器
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铁电突触器件及其应用的研究进展 被引量:1
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作者 燕少安 臧俊逸 +7 位作者 徐佩 朱颖方 李刚 陈祺来 陈卓俊 张妍 唐明华 郑学军 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期877-894,共18页
类脑计算是后摩尔时代集成电路发展的重要方向,开发能够模拟理想突触行为的人工突触器件是构建神经元-突触-神经元连接方式的类脑计算芯片的关键.铁电薄膜材料具有独特的非易失性极化,极化的可塑性与生物突触的可塑性十分类似,因此铁电... 类脑计算是后摩尔时代集成电路发展的重要方向,开发能够模拟理想突触行为的人工突触器件是构建神经元-突触-神经元连接方式的类脑计算芯片的关键.铁电薄膜材料具有独特的非易失性极化,极化的可塑性与生物突触的可塑性十分类似,因此铁电突触器件近年来受到了广泛关注.本文从器件突触功能模拟和类脑计算应用两个方面对铁电突触器件的研究进展进行了综述.结果表明,铁电突触器件具有两端和三端两种典型结构.除了能有效模拟生物突触功能,铁电突触器件还具有结构简单、功耗低、稳定性高、开关比大及编程速度快等优点.在应用层面,基于铁电突触的神经网络在图像识别方面的研究取得了一系列进展.此外铁电突触还被应用于触觉和视觉仿生.虽然取得了丰富的研究进展,但铁电突触器件目前仍停留在原理的提出和实验验证阶段,在突触性能调控机理、可靠性评价标准、阵列结构优化设计、高密度集成工艺、神经形态计算架构设计、新颖应用场景拓展等方面的研究都存在不小的挑战,这些也是未来铁电突触研究所要聚焦的方向. 展开更多
关键词 类脑计算 非易失性 图像识别 神经网络 视觉仿生 电突触 突触功能 可靠性评价
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