磁控溅射AlCr涂层对电工纯铁防腐性能的影响

为了提高电工纯铁的耐腐蚀性能,基于磁控溅射技术,在电工纯铁表面制备了Al Cr涂层。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜对涂层表面形貌、结构和元素组成进行分析,并通过中性盐雾及电化学测试,分析了电工纯铁基体及Al Cr涂层的耐腐蚀性能。结果表明,适量Cr元素掺杂可以使涂层致密化,在Cr靶功率为75 W时效果最好。随着Cr的加入,Al Cr涂层呈现不同的化合物态,包括Al_(8)Cr_(5)、Al1_(3)Cr_(2)等相。中性盐雾及电化学测试结果均表明Cr-75涂层的耐腐蚀性能最好,在经过158 h的盐雾测试之后涂层依然没有被腐蚀;Cr-75涂层阻抗比纯铁高约2个数量级,腐蚀电流密度为7.4×10^(-9)A/cm^(2),相对于电工纯铁(1.6×10^(-6)A/cm^(2))降低了约3个数量级,点蚀电位与腐蚀电位之间的电位差最大(0.272 V),抗点蚀性能最好,保护效率高达98.8%。

传感器用离子镀Cr/AlCr(Si)N涂层的组织和反射率

以Ni-11Cr合金作为基材,采用多弧离子镀工艺在其表面制备Cr/AlCrN与Cr/AlCrSiN涂层,并对其在700~900℃温度下进行真空热处理,研究热处理温度及Si元素对Cr/AlCr(Si)N涂层组织和红外反射率的影响。结果表明:真空热处理后两涂层形成了Cr_(2)O_(3)与Al_(2)CrO_(3)的特征峰,900℃热处理后,氧化物晶体结构特征衍射峰明显增加。两种涂层的组织呈柱状形态,在Cr/AlCrN涂层中存在许多hcp-CrN纳米晶;Cr/AlCrSiN涂层中形成了粒径尺寸均匀的hcp-AlN纳米晶。真空热处理温度越高,两个涂层红外稳定反射率越大,Ni扩散系数和热处理温度之间呈现单调增加的变化趋势,Cr/AlCrN涂层具有更优异的低红外稳定反射率,Cr/AlCrSiN涂层具备高的红外稳定反射率。