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用液相外延技术制备单异质结AlGaAs/InGaP红色发光LED
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作者 周华 《液晶与显示》 CAS CSCD 1991年第3期38-41,共4页
采用超冷技术的液相外延方法在 n-型GaAs 衬底上生长了高质量掺 Te 的 Al_(0.7)Ga_(0.3)As/掺 Mg 的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 单异质结发光二极管。详细地介绍了未掺杂及 Mg 和Zn 掺杂的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 层的生长条件和特性。当 Mg 掺杂... 采用超冷技术的液相外延方法在 n-型GaAs 衬底上生长了高质量掺 Te 的 Al_(0.7)Ga_(0.3)As/掺 Mg 的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 单异质结发光二极管。详细地介绍了未掺杂及 Mg 和Zn 掺杂的 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 层的生长条件和特性。当 Mg 掺杂层中的空穴浓度为1×10^(18)cm^(-3)时光致发光强度最高。用电子束诱导电流,电流—电压测量,电致发光,光输出功率和外量子效率等评价了用异质结制备的二极管的特性。适当地控制 Mg 掺杂 ln_(0.5)Ga_(0.5)P 有源层的空穴浓度和 Te 掺杂 Al_(0.7)Ga_(0.3)As 窗口层的电子浓度,可使 p—n 结准确地定位在金属结上,p—n 结的定位由电子束诱导电流技术测量。通过电流—电压测量,获得了理想系数为1.65的1.5V 正向导通电压和高于20V 的击穿电压。在20mA 时, 发射峰值波长和电致发光光谱峰值和半最大值时的全宽度分别为6650和250(?)。用100mA DC 驱动时,未封装二极管的光输出功率达150μW,外量子效率为0.085%-0.10%。 展开更多
关键词 algaas/ingap 异质结 LED 外量子效率 液相外延 电致发光 发光二极管 空穴浓度 峰值波长 电压测量
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基于DBR增强的850 nm GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器
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作者 王健 窦志鹏 +10 位作者 李光昊 黄晓峰 于千 郝智彪 熊兵 孙长征 韩彦军 汪莱 李洪涛 甘霖 罗毅 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第1期25-28,共4页
高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/... 高速850 nm GaAs/AlGaAs面入射型单行载流子光电探测器(PD)是短距离光链路中的重要器件,面临着带宽和响应度之间的相互矛盾。报道了一种基于分布布拉格反射器(DBR)增强的GaAs/AlGaAs单行载流子光电探测器(UTC-PD)。DBR由20个周期的高/低Al组分的Al_(x)Ga_(1-x)As三元合金组成,可以在830~870 nm范围内形成大于0.9的反射。在AlGaAs DBR的增强下,将GaAs吸收层所需的厚度降低到1 040 nm,兼顾PD对光的吸收率和光生载流子的渡越时间。采用双台面、聚合物平面化、共面波导电极结构制作了UTC-PD器件。该器件在850 nm波长、-2 V偏压下具有19.26 GHz的-3 dB带宽和0.492 6 A/W的响应度。 展开更多
关键词 GAAS algaas 光电探测器 单行载流子 分布布拉格反射器 850 nm波长
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532 nm响应增强的AlGaAs光电阴极
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作者 王东智 张益军 +8 位作者 李诗曼 童泽昊 唐嵩 石峰 焦岗成 程宏昌 富容国 钱芸生 曾玉刚 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期368-376,共9页
AlGaAs光电阴极具有响应速度快和光谱响应范围可调的特性,可被应用于水下光通信领域.为了解决AlGaAs发射层较低的光吸收限制其量子效率提高的问题,利用分布式布拉格反射镜(DBR)结构对特定波长光的反射作用,将透过光重新反射回发射层进... AlGaAs光电阴极具有响应速度快和光谱响应范围可调的特性,可被应用于水下光通信领域.为了解决AlGaAs发射层较低的光吸收限制其量子效率提高的问题,利用分布式布拉格反射镜(DBR)结构对特定波长光的反射作用,将透过光重新反射回发射层进一步提高吸收率,从而增强阴极在532 nm波长处的响应能力.通过求解一维连续性方程,建立了具有DBR结构的AlGaAs光电阴极光谱响应模型.采用时域有限差分法,分析了DBR结构中子层周期对数、子层材料以及发射层、缓冲层厚度对发射层吸收率的影响,对比了有无DBR结构AlGaAs光电阴极的光吸收分布.结果表明,周期对数为20、子层材料为Al_(0.7)Ga_(0.3)As/AlAs的DBR结构对532 nm光的反射效果最优.基于该DBR结构,发射层和缓冲层厚度分别为495 nm和50 nm时,发射层对532 nm光具有最佳吸收率.通过对外延生长的AlGaAs光电阴极进行激活实验,结果表明具有DBR结构的AlGaAs光电阴极在532 nm波长处的光谱响应率相比无DBR结构的AlGaAs光电阴极光谱响应率提升了约1倍. 展开更多
关键词 algaas光电阴极 分布式布拉格反射镜 光谱响应 光吸收
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C离子对AlGaAs/InGaAs异质结的辐照影响
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作者 王海丽 杨梦婕 +3 位作者 马晓龙 许坤 段向阳 王献立 《郑州航空工业管理学院学报》 2024年第4期66-71,共6页
基于SRIM软件计算了不同能量的C离子在AlGaAs/InGaAs异质结中的平均投影射程和辐照损伤区,仿真了能量为500keV、800keV、1100keV的C离子入射到AlGaAs/InGaAs异质结中的能量损失情况,发现随着入射离子能量的增加,电离能比例增加,非电离... 基于SRIM软件计算了不同能量的C离子在AlGaAs/InGaAs异质结中的平均投影射程和辐照损伤区,仿真了能量为500keV、800keV、1100keV的C离子入射到AlGaAs/InGaAs异质结中的能量损失情况,发现随着入射离子能量的增加,电离能比例增加,非电离能比例降低,入射离子产生的电离能损远大于反冲原子产生的电离能损,反冲原子产生的声子能损远多于入射离子产生的声子能损;通过仿真还发现,当C离子的能量为800keV时,辐照损伤区在异质结处且在异质结处产生的空位缺陷最多。 展开更多
关键词 C离子辐照 algaas/InGaAs异质结 电离能损 非电离能损 空位
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780nm InGaAsP/InGaP/AlGaAs高功率半导体激光器
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作者 曹玉莲 廉鹏 +5 位作者 王青 吴旭明 何国荣 曹青 宋国峰 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1621-1624,共4页
采用MOCVD生长了InGaAsP/InGaP/AlGaAs材料系分别限制异质结构(SCH)的高功率半导体激光器.对于厚度为10nm的单量子阱,通过计算量子阱增益谱优化了器件的激射波长.在室温下外延材料的荧光峰值波长为764nm,由于In原子的记忆效应(Incarry-o... 采用MOCVD生长了InGaAsP/InGaP/AlGaAs材料系分别限制异质结构(SCH)的高功率半导体激光器.对于厚度为10nm的单量子阱,通过计算量子阱增益谱优化了器件的激射波长.在室温下外延材料的荧光峰值波长为764nm,由于In原子的记忆效应(Incarry-overeffect)和As/P的替换作用使材料的InGaP/AlGaAs界面不陡峭,通过在InGaP/AlGaAs间长一层5nm的GaAsP大大改善了界面质量.器件的阈值电流从界面改善前的560mA减小到改善后的450mA,斜率效率也从0.61W/A提高到了0.7W/A,特别是单面最大输出功率已经从370mW增加到了940mW,发生灾变性光学损伤时的工作电流已经由原来的1100mA上升为1820mA. 展开更多
关键词 ingap/algaas 界面 增益 阈值电流 激光器
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AlGaAs基光电阴极光学性质计算模型分析
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作者 赵静 冯琤 +1 位作者 覃翠 郭婧 《南京工程学院学报(自然科学版)》 2023年第3期14-20,共7页
为了分析不同波长响应对光电阴极结构的要求,提出适用于各类响应的AlGaAs基光电阴极的计算模型.通过宽光谱响应GaAs和窄带响应AlGaAs基光电阴极样品试验证实模型的有效性.基于该模型仿真研究AlGaAs基光电阴极组件中GaAs发射层及各子层、... 为了分析不同波长响应对光电阴极结构的要求,提出适用于各类响应的AlGaAs基光电阴极的计算模型.通过宽光谱响应GaAs和窄带响应AlGaAs基光电阴极样品试验证实模型的有效性.基于该模型仿真研究AlGaAs基光电阴极组件中GaAs发射层及各子层、AlGaAs窗口层、Si_(3)N_(4)增透层的厚度与400~900 nm单波长光子吸收情况的分布关系.仿真结果表明,同一波长响应下,GaAs发射层对光电阴极吸收率的影响最大,其次是Si_(3)N_(4)增透层,而AlGaAs窗口层对吸收率的影响不明显.要得到90%以上的吸收率,在600 nm波长响应下GaAs发射层厚度应大于0.5μm,700 nm波长响应下GaAs发射层厚度应大于0.8μm,800 nm波长响应下GaAs发射层厚度应大于1.5μm.400~600 nm波段的光子主要在GaAs发射层表面0.2μm内被吸收,700~800 nm波段的光子主要在GaAs发射层表面0.6μm内被吸收,而850 nm以后的光子在各子层间的吸收比较均匀.该结论对不同响应AlGaAs基光电阴极的优化设计具有一定的参考价值. 展开更多
关键词 algaas基光电阴极 多发射层模型 吸收率 阴极厚度 单波长
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Gate Annealing of an Enhancement-Mode InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT
7
作者 黎明 张海英 +3 位作者 徐静波 李潇 刘亮 付晓君 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1487-1490,共4页
For enhancement-mode InGaP/A1GaAs/InGaAs PHEMTs,gate annealing is conducted between gate structures of Ti/Pt/Au and Pt/Ti/Pt/Au. Comparison is made after thermal annealing and an optimum annealing process is ob- taine... For enhancement-mode InGaP/A1GaAs/InGaAs PHEMTs,gate annealing is conducted between gate structures of Ti/Pt/Au and Pt/Ti/Pt/Au. Comparison is made after thermal annealing and an optimum annealing process is ob- tained. Using the structure of Ti/Pt/Au, about a 200mV positive shift of threshold voltage is achieved by thermal annea- ling at 320℃ for 40min in N2 ambient. Finally, a stable and consistent enhancement-mode PHEMT is produced successfully with higher threshold voltage. 展开更多
关键词 ENHANCEMENT-MODE ingap/A1GaAs/InGaAs PHEMT ANNEAL threshold voltage ring oscillator
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Abstraction of Small Signal Equivalent Circuit Parameters of Enhancement-Mode InGaP/AlGaAs/InGaAs PHEMT
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作者 徐静波 尹军舰 +3 位作者 张海英 李潇 刘亮 叶甜春 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期361-364,共4页
An extraction method of the component parameter values of an enhancement-mode InGaP/AIGaAs/In-GaAs PHEMT small signal equivalent circuit is presented,and these component parameter values are extracted by using the EEH... An extraction method of the component parameter values of an enhancement-mode InGaP/AIGaAs/In-GaAs PHEMT small signal equivalent circuit is presented,and these component parameter values are extracted by using the EEHEMT1 model of IC-CAP software. The extraction results are verified by ADS software,and the DC I-V curves and S parameters simulated by ADS are basically accordant with those of the test results. These results indicate that the EEHEMT1 model can be used for extracting the component parameters of an enhancement-mode PHEMT. 展开更多
关键词 ENHANCEMENT-MODE ingap/AIGaAs/InGaAs PHEMT small signal equivalent circuit parameter extraction
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InGaAsP/InGaP/AlGaAs大光学腔量子阱激光器的优化
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作者 曹玉莲 李慧 +5 位作者 何国荣 王小东 王青 吴旭明 宋国峰 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期2173-2177,共5页
本文对808nmInGaAsP/InGaP/AlGaAs材料的大光学腔结构激光器进行了理论优化.为确保激光器是单横模激射,我们使用传递矩阵的方法,分别计算了限制层和欧姆接触层厚度对TE2和TE0模式损耗的影响,对上下限制层和欧姆接触层的厚度进行了优化,... 本文对808nmInGaAsP/InGaP/AlGaAs材料的大光学腔结构激光器进行了理论优化.为确保激光器是单横模激射,我们使用传递矩阵的方法,分别计算了限制层和欧姆接触层厚度对TE2和TE0模式损耗的影响,对上下限制层和欧姆接触层的厚度进行了优化,其优化后的厚度分别为0·8,0·6和0·11μm.高折射率的欧姆接触层被低折射率的限制层和金属层包围形成了无源的次级波导,泄漏波在次级波导中形成了寄生模式.欧姆接触层厚度对模式损耗的影响是周期性的,当欧姆接触层厚度为该模式的λ1/4时发生第一次共振,发生共振的间隔为其垂直注入的泄漏波波长λ1的一半. 展开更多
关键词 InGaAsP/ingap/A1GaAs 限制层厚度 欧姆接触层厚度 共振
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具有AlGaAs缓变结构的InGaP/GaAs HBT性能改进分析 被引量:1
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作者 周守利 熊德平 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期388-391,共4页
对改进型结构具有零导带势垒尖峰的缓变InGaP/AlGaAs/GaAs HBT器件的直流和高频特性进行了理论探讨,并同传统突变结构的InGaP/GaAs HBT的相应性能作了比较。结果表明:在低于30 nm的一定范围内的缓变层厚度下,与突变的InGaP/GaAs HBT相比... 对改进型结构具有零导带势垒尖峰的缓变InGaP/AlGaAs/GaAs HBT器件的直流和高频特性进行了理论探讨,并同传统突变结构的InGaP/GaAs HBT的相应性能作了比较。结果表明:在低于30 nm的一定范围内的缓变层厚度下,与突变的InGaP/GaAs HBT相比,改进型结构的InGaP/AlGaAs/GaAs HBT具有更低的offset和开启电压、更强的电流驱动能力、更好的伏-安输出特性和高频特性。 展开更多
关键词 铟镓磷/砷化镓 异质结双极晶体管 伏-安输出特性 截止频率
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变组分变掺杂p-i-n型AlGaAs/GaAs微结构中子探测器性能表征 被引量:1
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作者 周青 邹继军 +1 位作者 叶鑫 张明智 《机电工程技术》 2023年第1期14-17,71,共5页
制备了一种在p-i-n型AlGaAs/GaAs材料上刻蚀微沟槽的中子探测器。通过MOCVD技术生长了变组分变掺杂的p-i-n型AlGaAs/GaAs,使用ICP技术在材料上刻出微沟槽,沟槽宽度为25μm,深度为10μm。探测器的探测面积为4 mm^(2),沟槽宽度和间距为1... 制备了一种在p-i-n型AlGaAs/GaAs材料上刻蚀微沟槽的中子探测器。通过MOCVD技术生长了变组分变掺杂的p-i-n型AlGaAs/GaAs,使用ICP技术在材料上刻出微沟槽,沟槽宽度为25μm,深度为10μm。探测器的探测面积为4 mm^(2),沟槽宽度和间距为1∶1,呈周期性排列,在沟槽中填充中子转换材料探测热中子信号。通过对平面和微结构p-i-n型AlGaAs/GaAs探测器的电学特性、α粒子以及中子探测性能的比较分析,发现两者在电学特性和α粒子能量分辨率方面有较大差别。5 V偏压下平面型和微结构AlGaAs/GaAs探测器的漏电流分别是-0.024 1μA、-0.627μA,两者相差近30倍,这是由于微结构刻蚀了部分异质结导致器件表面漏电流增加。0 V偏压下微结构探测器α粒子能量分辨率比平面型也有些许恶化,但在热中子探测上微结构效果更佳,中子总计数微结构比平面型多一倍。微结构降低了探测器的自吸收问题,同时增大了探测器的中子接触面积,在热中子探测上应用前景广阔。 展开更多
关键词 algaas 中子探测器 微结构 6LiF 热中子
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Atomic-scale insights of indium segregation and its suppression by GaAs insertion layer in InGaAs/AlGaAs multiple quantum wells 被引量:1
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作者 马淑芳 李磊 +8 位作者 孔庆波 徐阳 刘青明 张帅 张西数 韩斌 仇伯仓 许并社 郝晓东 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第3期544-548,共5页
The In segregation and its suppression in InGaAs/AlGaAs quantum well are investigated by using high-resolution x-ray diffraction(XRD)and photoluminescence(PL),combined with the state-of-the-art aberration corrected sc... The In segregation and its suppression in InGaAs/AlGaAs quantum well are investigated by using high-resolution x-ray diffraction(XRD)and photoluminescence(PL),combined with the state-of-the-art aberration corrected scanning transmission electron microscopy(Cs-STEM)techniques.To facility our study,we grow two multiple quantum wells(MQWs)samples,which are almost identical except that in sample B a thin GaAs layer is inserted in each of the InGaAs well and AlGaAs barrier layer comparing to pristine InGaAs/AlGaAs MQWs(sample A).Our study indeed shows the direct evidences that In segregation occurs in the InGaAs/AlGaAs interface,and the effect of the Ga As insertion layer on suppressing the segregation of In atoms is also demonstrated on the atomic-scale.Therefore,the atomic-scale insights are provided to understand the segregation behavior of In atoms and to unravel the underlying mechanism of the effect of GaAs insertion layer on the improvement of crystallinity,interface roughness,and further an enhanced optical performance of InGaAs/AlGaAs QWs. 展开更多
关键词 InGaAs/algaas quantum well GaAs insertion layer In segregation scanning transmission electron microscopy
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GaAs插入层对InGaAs/AlGaAs量子阱发光性质的影响
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作者 于海鑫 王海珠 +4 位作者 郎天宇 吕明辉 徐睿良 范杰 邹永刚 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第11期1967-1973,共7页
InGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)作为一种常见的Ⅲ-Ⅴ族外延材料,通常应用于半导体激光器和太阳能电池等领域。然而,由于量子阱的势阱层和势垒层生长温度不同,铟原子的偏析和多量子阱生长质量较差等问题尚未得到很好的解决。本文设计了一... InGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)作为一种常见的Ⅲ-Ⅴ族外延材料,通常应用于半导体激光器和太阳能电池等领域。然而,由于量子阱的势阱层和势垒层生长温度不同,铟原子的偏析和多量子阱生长质量较差等问题尚未得到很好的解决。本文设计了一种砷化镓(GaAs)材料作为插入层(ISL),并用于InGaAs/AlGaAs MQWs的结构。PL、XRD、AFM测试表明,GaAs插入层保证了MQWs结构中更多的辐射复合,阻止了铟原子的偏析。但GaAs插入层的引入也会产生“局域态”,影响量子阱的发光性质。本研究可以加深对InGaAs/AlGaAs多量子阱辐射复合机制的理解,并且对引入GaAs插入层的InGaAs/AlGaAs多量子阱发光性质的研究具有重要意义。 展开更多
关键词 InGaAs/algaas多量子阱 局域态 插入层 金属有机化合物气相外延(MOCVD)
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320×256 GaAs/AlGaAs长波红外量子阱焦平面探测器 被引量:11
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作者 金巨鹏 刘丹 +4 位作者 王建新 吴云 曹菊英 曹妩媚 林春 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期833-837,共5页
量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处... 量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处于起步阶段。研制了基于GaAs/AlxGa1-xAs材料、峰值响应波长为9.9μm的长波320×256 n型QWIP焦平面阵列器件,其像元中心距25μm,光敏元面积为22μm×22μm。GaAs衬底减薄后的QWIP焦平面阵列,与Si基CMOS读出电路(ROIC)通过铟柱倒焊互连,并且在65 K工作温度下进行了室温环境目标成像。该焦平面器件的规模和成像质量相比之前国内报道的结果都有较大提高。焦平面平均峰值探测率达1.5×1010cm.Hz1/2/W。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 GAAS/algaas 焦平面 红外热成像
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基于MOCVD技术的长波AlGaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器 被引量:10
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作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第4期435-438,共4页
采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流... 采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流和傅里叶红外响应光谱对单元测试器件进行了评估,针对不同材料结构,实现了9μm和10.9μm的截止波长;黑体探测率最高达到2.6×109 cm.Hz1/2.W-1。将128×128 AlGaAs/GaAs QWIP阵列芯片与CMOS读出电路芯片倒装焊互连,成功演示了室温环境下目标的红外热成像;并进一步讨论了提高QWIP组件成像质量的途径。 展开更多
关键词 MOCVD algaas/GAAS 量子阱红外探测器 红外热成像
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MOCVD与MBE生长GaAs/AlGaAs量子阱材料的红外探测器特性比较 被引量:5
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作者 李娜 李宁 +9 位作者 陆卫 窦红飞 陈张海 刘兴权 沈学础 H.H.Tan LanFu C.Jagadish M.B.Johnston M.Gal 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期441-444,共4页
用金属有机物化学气相沉积法 ( MOCVD)生长 Ga As/Al Ga As量子阱材料 ,并制成红外探测器 .测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性 ,峰值波长7.9μm,响应率达到 6× 1 0 3V/W,与分子束外延法 ( MBE)生长... 用金属有机物化学气相沉积法 ( MOCVD)生长 Ga As/Al Ga As量子阱材料 ,并制成红外探测器 .测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性 ,峰值波长7.9μm,响应率达到 6× 1 0 3V/W,与分子束外延法 ( MBE)生长的材料和相关器件进行了比较 ,MOCVD法可满足量子阱材料和器件的要求 . 展开更多
关键词 algaas 量子阱 红外探测器 MOCVD 砷化镓
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层内应力的种类及其表征与测量 被引量:6
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作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期88-92,共5页
本文介绍了透射式 Ga As光电阴极 Al Ga As窗层和 Ga As光电发射外延层内应力的种类及其表征方法和测量方法 。
关键词 GAAS/algaas 光电阴极 X射线衍射 应力 外延 测量方法 表征方法 砷化镓 铝砷镓化合物 半导体
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AlAs/AlGaAs的湿氧氧化及其在VCSEL制备中的应用 被引量:3
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作者 黄静 郭霞 +4 位作者 渠红伟 廉鹏 朱文军 邹德恕 沈光地 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期341-343,349,共4页
根据制备垂直腔面发射激光器 (VCSEL)电流限制层的需要 ,通过实验方法研究了氧化温度、Al组分和晶向等条件对AlGaAs氧化速率的影响 ,得到适用于VCSEL的材料参数和氧化条件 ;对氧化后表面分层、欧姆接触特性变差等现象进行分析 ,得到解... 根据制备垂直腔面发射激光器 (VCSEL)电流限制层的需要 ,通过实验方法研究了氧化温度、Al组分和晶向等条件对AlGaAs氧化速率的影响 ,得到适用于VCSEL的材料参数和氧化条件 ;对氧化后表面分层、欧姆接触特性变差等现象进行分析 ,得到解决或改善方案。比较AlAs和Al0 .98Ga0 .0 2 As氧化特性及氧化后的热稳定性 ,结果表明Al0 .98Ga0 .0 2 As较AlAs更适于作VCSEL电流限制层。将优化的氧化条件及材料参数应用于VCSEL制备 ,得到室温连续工作的VCSEL器件 ,其阈值电流为 0 .8mA ,激射波长为 980nm ,工作电流为 15mA时输出功率可达 3.2mW。 展开更多
关键词 VCSEL algaas 氧化
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带有腔面非注入区的大功率808nm GaAs/AlGaAs激光二极管列阵 被引量:4
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作者 方高瞻 肖建伟 +4 位作者 马骁宇 谭满清 刘宗顺 刘素平 冯小明 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第12期9-11,共3页
报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的... 报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的激光二极管列阵高 4 0 %。器件在连续 15W下恒功老化 ,工作寿命超过 50 0 0h。 展开更多
关键词 非注入区 COD GAAS/algaas 激光二级管列阵 腔面 固件激光器
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AlGaAs/GaAs多量子阱红外探测器暗电流特性 被引量:3
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作者 赵永林 李献杰 +3 位作者 蔡道民 周洲 郭亚娜 韩丽丽 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z5期68-71,共4页
介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小... 介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小于40 K 时,随着温度的改变暗电流没有明显的变化;当温度大于40 K 时,暗电流随着温度的升高迅速变大,正、负偏压下 QWIP 暗电流具有不对称特性。 展开更多
关键词 algaas/GAAS 量子阱红外探测器 暗电流
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