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240 nm AlGaN-based deep ultraviolet micro-LEDs:size effect versus edge effect 被引量:2
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作者 Shunpeng Lu Jiangxiao Bai +6 位作者 Hongbo Li Ke Jiang Jianwei Ben Shanli Zhang Zi-Hui Zhang Xiaojuan Sun Dabing Li 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2024年第1期55-62,共8页
240 nm AlGaN-based micro-LEDs with different sizes are designed and fabricated.Then,the external quantum efficiency(EQE)and light extraction efficiency(LEE)are systematically investigated by comparing size and edge ef... 240 nm AlGaN-based micro-LEDs with different sizes are designed and fabricated.Then,the external quantum efficiency(EQE)and light extraction efficiency(LEE)are systematically investigated by comparing size and edge effects.Here,it is revealed that the peak optical output power increases by 81.83%with the size shrinking from 50.0 to 25.0μm.Thereinto,the LEE increases by 26.21%and the LEE enhancement mainly comes from the sidewall light extraction.Most notably,transversemagnetic(TM)mode light intensifies faster as the size shrinks due to the tilted mesa side-wall and Al reflector design.However,when it turns to 12.5μm sized micro-LEDs,the output power is lower than 25.0μm sized ones.The underlying mechanism is that even though protected by SiO2 passivation,the edge effect which leads to current leakage and Shockley-Read-Hall(SRH)recombination deteriorates rapidly with the size further shrinking.Moreover,the ratio of the p-contact area to mesa area is much lower,which deteriorates the p-type current spreading at the mesa edge.These findings show a role of thumb for the design of high efficiency micro-LEDs with wavelength below 250 nm,which will pave the way for wide applications of deep ultraviolet(DUV)micro-LEDs. 展开更多
关键词 algan deep ultraviolet micro-leds light extraction efficiency size effect edge effect
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Realization of high-efficiency AlGaN deep ultraviolet light-emitting diodes with polarization-induced doping of the p-AlGaN hole injection layer 被引量:1
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作者 曹一伟 吕全江 +4 位作者 杨天鹏 米亭亭 王小文 刘伟 刘军林 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第5期690-696,共7页
We investigate the polarization-induced doping in the gradient variation of Al composition in the pAl_(0.75)Ga_(0.25)N/Al_xGa_(1-x)N hole injection layer(HIL)for deep ultraviolet light-emitting diodes(DUV-LEDs)with an... We investigate the polarization-induced doping in the gradient variation of Al composition in the pAl_(0.75)Ga_(0.25)N/Al_xGa_(1-x)N hole injection layer(HIL)for deep ultraviolet light-emitting diodes(DUV-LEDs)with an ultrathin p-GaN(4 nm)ohmic contact layer capable of emitting 277 nm.The experimental results show that the external quantum efficiency(EQE)and wall plug efficiency(WPE)of the structure graded from 0.75 to 0.55 in the HIL reach 5.49%and 5.04%,which are improved significantly by 182%and 209%,respectively,compared with the structure graded from 0.75 to 0.45,exhibiting a tremendous improvement.Both theoretical speculations and simulation results support that the larger the difference between 0.75 and x in the HIL,the higher the hole concentration that should be induced;thus,the DUV-LED has a higher internal quantum efficiency(IQE).Meanwhile,as the value of x decreases,the absorption of the DUV light emitted from the active region by the HIL is enhanced,reducing the light extraction efficiency(LEE).The IQE and LEE together affect the EQE performance of DUV-LEDs.To trade off the contradiction between the enhanced IQE and decreased LEE caused by the decrease in Al composition,the Al composition in the HIL was optimized through theoretical calculations and experiments. 展开更多
关键词 deep ultraviolet light-emitting diode(DUV-LED) polarization-induced doping algan light extraction efficiency
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AlGaN基深紫外LED的可靠性研究及寿命预测 被引量:1
3
作者 宫明峰 孙雪娇 +5 位作者 雷程 梁庭 李丰超 谢宇 李开心 刘乃鑫 《光电子技术》 CAS 2024年第2期106-115,共10页
围绕AlGaN基深紫外LED的外延生长、工艺制备等因素对深紫外LED可靠性的影响以及加速寿命预测等方面开展了系统的研究。探索了量子垒(Quantum Barrier,简称QB)中Al组分、电子阻挡层(Electron Barrier Layer,简称EBL)中Al组分、同尺寸芯... 围绕AlGaN基深紫外LED的外延生长、工艺制备等因素对深紫外LED可靠性的影响以及加速寿命预测等方面开展了系统的研究。探索了量子垒(Quantum Barrier,简称QB)中Al组分、电子阻挡层(Electron Barrier Layer,简称EBL)中Al组分、同尺寸芯片不同台面面积等因素对深紫外LED可靠性的影响,确定QB结构Al组分为74%,EBL结构Al组分为75%,台面面积为P68。对优化后的深紫外LED设计了热、电应力老化试验,结合阿伦纽斯模型、逆幂律模型、指数最小二乘拟合对深紫外LED的寿命进行预测。实验结果表明,随着电、热应力的增加,深紫外LED可靠性随之降低,阿伦纽斯模型预测寿命为5027 h,逆幂律模型预测寿命为5400 h,正常工作电流40 mA下,深紫外LED实际寿命为5582 h,逆幂律模型预测精度较阿伦纽斯模型提升了6.7%。本研究将为提高深紫外LED的可靠性和产品应用普及提供坚实的理论基础。 展开更多
关键词 algan 深紫外发光二极管 可靠性 寿命预测
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基于分离多量子垒电子阻挡层的AlGaN基深紫外发光二极管
4
作者 申国文 鲁麟 +3 位作者 许福军 吕琛 高文根 代广珍 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期1156-1162,共7页
通过分离多量子垒电子阻挡层(EBL)结构,实现了AlGaN基DUV-LED器件性能的提升。由仿真结果可得,与传统的块状EBL相比,采用分离多量子垒结构的EBL可以获得更高的空穴浓度和辐射复合速率。这得益于EBL中间的夹层形成了空穴加速区,使得空穴... 通过分离多量子垒电子阻挡层(EBL)结构,实现了AlGaN基DUV-LED器件性能的提升。由仿真结果可得,与传统的块状EBL相比,采用分离多量子垒结构的EBL可以获得更高的空穴浓度和辐射复合速率。这得益于EBL中间的夹层形成了空穴加速区,使得空穴在加速区获得能量,从而提高了空穴注入效率。另外,多量子势垒结构还能够通过提高电子势垒有效抑制电子泄漏,从而大幅度提升器件性能。综上所述,多量子垒电子阻挡层的引入可以显著提升AlGaN基DUV-LED器件的性能。 展开更多
关键词 algan 深紫外发光二极管 电子阻挡层
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有源区掺杂的AlGaN基深紫外激光二极管性能优化
5
作者 尹孟爽 张傲翔 +4 位作者 张鹏飞 贾李亚 王芳 刘俊杰 刘玉怀 《原子与分子物理学报》 北大核心 2024年第3期170-175,共6页
为了改善深紫外激光二极管的性能,本文提出了有源区量子势垒n掺杂、p掺杂和n-p掺杂三种结构.利用Crosslight软件,对原始结构和有源区掺杂的三种结构进行仿真研究,比较四种结构的P-I特性曲线、V-I特性曲线、载流子浓度、辐射复合速率和... 为了改善深紫外激光二极管的性能,本文提出了有源区量子势垒n掺杂、p掺杂和n-p掺杂三种结构.利用Crosslight软件,对原始结构和有源区掺杂的三种结构进行仿真研究,比较四种结构的P-I特性曲线、V-I特性曲线、载流子浓度、辐射复合速率和能带图.仿真结果表明,有源区量子势垒n-p掺杂结构的性能更优,其阈值电压和阈值电流分别为4.40V和23.8mA;辐射复合速率达到1.64×10^(28)cm^(-3)/s;同一注入电流下电光转换效率达到42.1%,比原始结构增加了3.9%;改善了深紫外激光二极管的工作性能. 展开更多
关键词 algan 有源区 量子势垒 掺杂 深紫外激光二极管
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四层插入层量子垒AlGaN深紫外LED研究
6
作者 方文浚 万垂铭 +2 位作者 李深海 谢子敬 谭礼军 《赣南师范大学学报》 2024年第3期90-94,共5页
本文通过对不同量子垒结构的AlGaN深紫外LED进行数值研究,对比分析了量子垒结构与其发光性能之间的关联.结果表明,相较于传统量子垒结构的样品A,四层插入层量子垒结构的样品B和样品C,内量子效率峰值分别提升了27.04%和18.8%,光输出功率... 本文通过对不同量子垒结构的AlGaN深紫外LED进行数值研究,对比分析了量子垒结构与其发光性能之间的关联.结果表明,相较于传统量子垒结构的样品A,四层插入层量子垒结构的样品B和样品C,内量子效率峰值分别提升了27.04%和18.8%,光输出功率在200 mA下分别提升了31.04%和21.62%.这主要是因为四层插入层量子垒结构可有效增加有源区内量子垒的能带势垒高度,提升量子阱对载流子的束缚能力. 展开更多
关键词 algan深紫外LED 量子垒 插入层 内量子效率 辐射复合率
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氮极性AlGaN基隧道结深紫外LED
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作者 张源涛 邓高强 孙瑜 《吉林大学学报(信息科学版)》 CAS 2023年第5期767-772,共6页
针对AlGaN(Aluminum Gallium Nitride)基深紫外LED(Light Emitting Diode)发光效率低、工作偏压较大的问题,设计了一种带有n^(+)-GaN/Al_(0.4)Ga_(0.6)N/p^(+)-GaN隧道结的氮极性AlGaN基深紫外LED器件结构。该结构由n-Al_(0.65)Ga_(0.3... 针对AlGaN(Aluminum Gallium Nitride)基深紫外LED(Light Emitting Diode)发光效率低、工作偏压较大的问题,设计了一种带有n^(+)-GaN/Al_(0.4)Ga_(0.6)N/p^(+)-GaN隧道结的氮极性AlGaN基深紫外LED器件结构。该结构由n-Al_(0.65)Ga_(0.35)N电子提供层、 Al_(0.65)Ga_(0.35)N/Al_(0.5)Ga_(0.5)N多量子阱、组分渐变p-Al_(x)Ga_(1-x)N和n^(+)-GaN/Al_(0.4)Ga_(0.6)N/p^(+)-GaN隧道结构成。研究结果表明,相比于无隧道结的参考LED,隧道结LED具有更高的内量子效率和光输出功率,同时其具有更低的开启电压。隧道结LED光电特性的改善,归因于隧道结的引入提升了LED的空穴注入效率,提高了LED器件的电流扩展能力。通过模拟软件对半导体器件载流子输运、光电特性的模拟,有助于加深对半导体器件物理特性的理解。若在“半导体器件物理”学习课程加入对半导体器件模拟软件的学习,能有效提升学生对半导体器件物理知识的理解和探索。 展开更多
关键词 深紫外LED 隧道结 铝镓氮 氮化物半导体
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Reduction of Electron Leakage in a Deep Ultraviolet Nitride Laser Diode with a Double-Tapered Electron Blocking Layer 被引量:3
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作者 Yi-Fu Wang Mussaab I.Niass +1 位作者 Fang Wang Yu-Huai Liu 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2019年第5期67-70,共4页
A double-tapered AlGaN electron blocking layer (EBL) is proposed to apply in a deep ultraviolet semiconductor laser diode. Compared with the inverse double-tapered EBL, the laser with the double-tapered EBL shows a hi... A double-tapered AlGaN electron blocking layer (EBL) is proposed to apply in a deep ultraviolet semiconductor laser diode. Compared with the inverse double-tapered EBL, the laser with the double-tapered EBL shows a higher slope efficiency, which indicates that effective enhancement in the transportation of electrons and holes is achieved. Particularly, comparisons among the double-tapered EBL, the inverse double-tapered EBL, the singletapered EBL and the inverse single-tapered EBL show that the double-tapered EBL has the best performance in terms of current leakage. 展开更多
关键词 EBL algan REDUCTION of ELECTRON Leakage in a deep ultraviolet NITRIDE Laser Diode with a Double-Tapered ELECTRON Blocking Layer
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A 10×10 deep ultraviolet light-emitting micro-LED array 被引量:3
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作者 Huabin Yu Muhammad Hunain Memon +8 位作者 Hongfeng Jia Haochen Zhang Meng Tian Shi Fang Danhao Wang Yang Kang Shudan Xiao Shibing Long Haiding Sun 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2022年第6期40-45,共6页
In this work,we design and fabricate a deep ultraviolet(DUV)light-emitting array consisting of 10×10 micro-LEDs(μ-LEDs)with each device having 20μm in diameter.Strikingly,the array demonstrates a significant en... In this work,we design and fabricate a deep ultraviolet(DUV)light-emitting array consisting of 10×10 micro-LEDs(μ-LEDs)with each device having 20μm in diameter.Strikingly,the array demonstrates a significant enhancement of total light output power by nearly 52%at the injection current of 100 mA,in comparison to a conventional large LED chip whose emitting area is the same as the array.A much higher(~22%)peak external quantum efficiency,as well as a smaller efficiency droop forμ-LED array,was also achieved.The numerical calculation reveals that the performance boost can be attributed to the higher light extraction efficiency at the edge of eachμ-LED.Additionally,the far-field pattern measurement shows that theμ-LED array possesses a better forward directionality of emission.These findings shed light on the enhancement of the DUV LEDs performance and provide new insights in controlling the light behavior of theμ-LEDs. 展开更多
关键词 algan deep ultraviolet micro-LED array light extraction efficiency
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利用W形空穴阻挡层降低AlGaN基深紫外激光二极管的空穴泄露
10
作者 贾李亚 张鹏飞 +3 位作者 张傲翔 王芳 刘俊杰 刘玉怀 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2023年第5期105-110,共6页
本文设计了V形和W形的空穴阻挡层(HBL)结构,改善空穴在AlGaN基深紫外激光二极管(DUV-LD)n型区的泄露问题.使用Crosslight软件,将参考型矩形、V形和W形三种空穴阻挡层结构进行仿真研究,分别比较了三种不同结构的DUV-LD能带、n区空穴浓度... 本文设计了V形和W形的空穴阻挡层(HBL)结构,改善空穴在AlGaN基深紫外激光二极管(DUV-LD)n型区的泄露问题.使用Crosslight软件,将参考型矩形、V形和W形三种空穴阻挡层结构进行仿真研究,分别比较了三种不同结构的DUV-LD能带、n区空穴浓度、辐射复合率、电光转换效率、有源区载流子浓度等特性,结果表明,具有W形空穴阻挡层的DUV-LD拥有更高的空穴有效势垒高度、更高的辐射复合率、更低的空穴泄露以及更好的斜率效率,可以有效降低深紫外激光二极管在n型区的空穴泄露,提升其光学和电学性能. 展开更多
关键词 algan 深紫外激光二极管 空穴阻挡层 空穴泄露
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深紫外AlGaN基多量子阱结构中载流子辐射复合的局域特征 被引量:1
11
作者 邓建阳 贺龙飞 +5 位作者 武智波 李睿 徐明升 王成新 徐现刚 冀子武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第11期1974-1980,共7页
利用磁控溅射和金属有机化学气相沉积方法在c面蓝宝石衬底上生长了深紫外Al_(0.38)Ga_(0.62)N/Al_(0.55)Ga_(0.45)N多量子阱结构,并对其荧光(PL)谱进行了测量。其PL谱的激发密度依赖性测量结果表明,该量子阱的辐射过程包含了局域载流子... 利用磁控溅射和金属有机化学气相沉积方法在c面蓝宝石衬底上生长了深紫外Al_(0.38)Ga_(0.62)N/Al_(0.55)Ga_(0.45)N多量子阱结构,并对其荧光(PL)谱进行了测量。其PL谱的激发密度依赖性测量结果表明,该量子阱的辐射过程包含了局域载流子的散射、极化场的屏蔽和局域态的填充效应;其PL谱的温度依赖性测量结果则表明,该量子阱的辐射过程包含了局域载流子的弛豫、局域载流子的热激发和自由载流子的常规热化效应。这个现象(即多种辐射复合过程的存在)在低温和弱激发测试条件下尤为显著,并且表现出该量子阱结构具有显著的局域深度非均一性和载流子的局域效果,是浅局域载流子的散射效应和深局域态的载流子填充效应共同作用所致。在较低的温度范围内,随着温度升高,该量子阱的辐射过程是由浅局域载流子的弛豫效应和深局域载流子的热激发效应共同作用的结果。这些行为被归因于阱宽起伏所诱发的局域深度的非均一性和载流子的局域效果。 展开更多
关键词 深紫外LED algan多量子阱 光致发光 载流子局域效应
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高Al组分AlGaN多量子阱结构材料发光机制探讨 被引量:4
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作者 李金钗 季桂林 +5 位作者 杨伟煌 金鹏 陈航洋 林伟 李书平 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期513-518,共6页
紫外LED的发光功率和效率还远不能令人们满意,波长短于300 nm的深紫外LED的发光效率普遍较低。厘清高Al组分Al Ga N多量子阱结构的发光机制将有利于探索改善深紫外LED的发光效率的新途径、新方法。为此,本文通过金属有机气相外延技术外... 紫外LED的发光功率和效率还远不能令人们满意,波长短于300 nm的深紫外LED的发光效率普遍较低。厘清高Al组分Al Ga N多量子阱结构的发光机制将有利于探索改善深紫外LED的发光效率的新途径、新方法。为此,本文通过金属有机气相外延技术外延生长了表面平整、界面清晰可辨且陡峭的高Al组分AlGa N多量子阱结构材料,并对其进行变温光致发光谱测试,结合数值计算,深入探讨了Al Ga N量子阱的发光机制。研究表明,量子阱中具有很强的局域化效应,其发光和局域激子的跳跃息息相关,而发光的猝灭则与局域激子的解局域以及位错引起的非辐射复合有关。 展开更多
关键词 algan 多量子阱结构 深紫外LED 发光机制
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LED深紫外线杀菌特性及其在草莓保鲜中的应用
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作者 尹国亮 王明明 +3 位作者 刘浩明 陈喆 陆乃彦 唐雪 《食品与发酵工业》 CAS CSCD 北大核心 2024年第22期76-82,共7页
LED深紫外灯作为替代传统汞灯的新兴力量,在未来食品杀菌方向有着广泛的应用前景。该研究首先以大肠杆菌为实验对象,获得合适的LED深紫外灯组合方案。其次通过所得到的LED深紫外灯组合分别对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌、铜绿假单胞菌进... LED深紫外灯作为替代传统汞灯的新兴力量,在未来食品杀菌方向有着广泛的应用前景。该研究首先以大肠杆菌为实验对象,获得合适的LED深紫外灯组合方案。其次通过所得到的LED深紫外灯组合分别对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌、铜绿假单胞菌进行不同时长的深紫外线杀菌处理,探究深紫外线照射时间对不同致病菌杀菌率的影响。最后以草莓为实验材料,通过定期调查其坏果率、腐败指数、失重率及感官变化,探究LED深紫外线照射对草莓保鲜的效果。研究发现染菌平板正上方与侧方各有3个LED深紫外灯时,杀菌效果最好。随着LED深紫外线处理时长的延长,杀菌率逐渐上升,且对LED深紫外线的敏感性:金黄色葡萄球菌<铜绿假单胞菌<大肠杆菌。草莓采摘后进行适当时长的LED深紫外线处理对控制病变、保障品质等具有良好的效果,LED深紫外线处理与密封冷藏对提高草莓保鲜效果具有协同作用。 展开更多
关键词 LED深紫外灯 紫外线杀菌 杀菌率 草莓保鲜
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不规则H形量子势垒增强AlGaN基深紫外发光二极管性能 被引量:1
14
作者 鲁麟 郎艺 +7 位作者 许福军 郎婧 M SADDIQUE A K 吕琛 裴瑞平 王莉 王永忠 代广珍 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期714-718,共5页
针对AlGaN基多量子阱中有效的平衡载流子注入问题,研究了有源区势垒层中Al组分调制形成的非规则H形量子势垒对AlGaN基深紫外发光二极管(LED)器件性能的影响及载流子的输运行为。研究发现,与多量子阱中常用的单Al组分势垒相比,加入Al组... 针对AlGaN基多量子阱中有效的平衡载流子注入问题,研究了有源区势垒层中Al组分调制形成的非规则H形量子势垒对AlGaN基深紫外发光二极管(LED)器件性能的影响及载流子的输运行为。研究发现,与多量子阱中常用的单Al组分势垒相比,加入Al组分较高的双尖峰势垒可以有效地提高内量子效率和光输出功率。进一步研究表明,电子在有源区因凸起的尖峰势垒而得到了有效的阻挡,减少了电子的泄露,而空穴获得更多的动能从而穿过较高的势垒进入有源区。因此,采用非对称H形量子势垒的深紫外LED器件中载流子输运实现了较好的平衡,量子阱中的载流子复合速率远高于普通的深紫外发光二极管。 展开更多
关键词 algan 深紫外发光二极管 量子势垒
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量子阱层和垒层具有不同Al组分的270/290/330nm AlGaN基深紫外LED光电性能 被引量:2
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作者 王福学 叶煊超 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期57-62,共6页
为了研究AlGaN量子阱层和垒层中Al组分不同对AlGaN基深紫外发光二极管(LED)光电性能的影响,本文利用MOCVD生长、光刻和干法刻蚀工艺制备了AlGaN量子阱层和垒层具有不同Al组分的270/290/330nm深紫外LED,通过实验和数值模拟计算方法发现,... 为了研究AlGaN量子阱层和垒层中Al组分不同对AlGaN基深紫外发光二极管(LED)光电性能的影响,本文利用MOCVD生长、光刻和干法刻蚀工艺制备了AlGaN量子阱层和垒层具有不同Al组分的270/290/330nm深紫外LED,通过实验和数值模拟计算方法发现,量子阱层和垒层中具有低Al组分紫外LED的AlGaN材料具有较低的位错密度、较高的光输出功率和外量子效率。通过电流-电压(I-V)曲线拟合出的较大的理想因子(>3.5)和能带结构图表明,AlGaN深紫外LED的电流产生是隧穿机制占据主导作用,这是因为高Al组分AlGaN量子阱中强极化场造成了有源层区域较大的能带弯曲和电势降。 展开更多
关键词 algan 深紫外 发光二极管 数值模拟
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Al组分阶梯型渐变电子阻挡层深紫外LED性能研究
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作者 陈颖 黄丽莹 +2 位作者 张悦 冯镜如 钟伟 《赣南师范大学学报》 2024年第3期85-89,共5页
为减少电子泄漏改善发光性能,本文基于深紫外发光二极管(LED)提出了一种Al组分阶梯型渐变电子阻挡层(EBL)结构.通过数值研究,对比分析了不同EBL结构对深紫外LED发光性能的影响规律.结果表明,相较于传统EBL结构的深紫外LED(样品A),Al组... 为减少电子泄漏改善发光性能,本文基于深紫外发光二极管(LED)提出了一种Al组分阶梯型渐变电子阻挡层(EBL)结构.通过数值研究,对比分析了不同EBL结构对深紫外LED发光性能的影响规律.结果表明,相较于传统EBL结构的深紫外LED(样品A),Al组分阶梯型渐变EBL结构的深紫外LED(样品B、样品C)最大内量子效率(IQE)分别提高了7.9%、14.2%,光输出功率(LOP)在200 mA下分别提升了73.3%、80.1%.这是因为Al组分阶梯型渐变EBL结构有效改善了EBL处极化效应引起的电场强度,进而减少了电子泄漏. 展开更多
关键词 深紫外LED 极化效应 电子泄漏 电子阻挡层 光输出功率
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具有渐变量子垒的氮极性AlGaN基LED实现载流子调控和性能增强(英文) 被引量:3
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作者 陆义 闫建昌 +6 位作者 李晓航 郭亚楠 吴卓辉 张亮 谷文 王军喜 李晋闽 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第7期42-53,共12页
为了获得高效率的AlGaN基深紫外发光二极管,提出了具有渐变量子垒的氮极性结构来调控载流子的传输.通过氮极性结构在p型电子阻挡层中形成的反向极化诱导势垒,改善空穴注入和电子泄漏问题.另外研究了不同的渐变方向和渐变程度对器件性能... 为了获得高效率的AlGaN基深紫外发光二极管,提出了具有渐变量子垒的氮极性结构来调控载流子的传输.通过氮极性结构在p型电子阻挡层中形成的反向极化诱导势垒,改善空穴注入和电子泄漏问题.另外研究了不同的渐变方向和渐变程度对器件性能的影响.模拟结果显示,在12nm的AlGaN量子垒上沿着(000-1)方向从Al组分0.65线性渐变到0.6,可以有效平衡量子垒的势垒高度和斜率,从而极大的增强空穴注入,光输出功率相较于传统结构提高了53.6%.该设计为电子泄漏和空穴注入问题提供了直接而有效的解决方案,在实现更高效率的深紫外发光二极管方面显示出广阔的前景. 展开更多
关键词 深紫外LED algan 氮极性 渐变量子垒 载流子调控
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6H-SiC衬底上AlGaN基垂直结构紫外LED的制备 被引量:3
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作者 刘明哲 李鹏翀 +2 位作者 邓高强 张源涛 张宝林 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期753-759,共7页
利用金属有机物化学气相沉积方法,在n型6H-SiC衬底上制备了15对Si掺杂Al_(0.19)Ga_(0.81)N/Al_(0.37)Ga_(0.63)N DBR,并采用低温AlN缓冲层有效抑制了DBR结构中裂纹的产生,得到了表面均方根粗糙度仅为0.4 nm且导电性能良好的n型DBR,其在3... 利用金属有机物化学气相沉积方法,在n型6H-SiC衬底上制备了15对Si掺杂Al_(0.19)Ga_(0.81)N/Al_(0.37)Ga_(0.63)N DBR,并采用低温AlN缓冲层有效抑制了DBR结构中裂纹的产生,得到了表面均方根粗糙度仅为0.4 nm且导电性能良好的n型DBR,其在369 nm处峰值反射率为68%,阻带宽度为10 nm。在获得导电DBR的基础上,进一步在n型6H-SiC衬底上构建了有、无DBR的垂直结构紫外LED。对比两者电致发光光谱,发现DBR结构的引入有效增强了LED紫外发光强度。 展开更多
关键词 algan 紫外发光二极管 分布式布拉格反射镜 金属有机物化学气相沉积 垂直结构
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AlGaN基深紫外LED的外延生长及光电性能研究 被引量:1
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作者 李路 徐俞 +1 位作者 曹冰 徐科 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第7期1158-1162,共5页
AlGaN基材料作为带隙可调的直接带隙宽禁带半导体材料,是制备紫外光电子器件的理想材料。在无法获得大尺寸、低成本的同质衬底的情况下,高质量AlN薄膜的异质外延是促进紫外光电子器件发展的关键。本文中,通过调节蓝宝石衬底上AlN的金属... AlGaN基材料作为带隙可调的直接带隙宽禁带半导体材料,是制备紫外光电子器件的理想材料。在无法获得大尺寸、低成本的同质衬底的情况下,高质量AlN薄膜的异质外延是促进紫外光电子器件发展的关键。本文中,通过调节蓝宝石衬底上AlN的金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长模式产生高密度纳米级孔洞,利用纳米级孔洞降低AlN的位错,并在此基础上外延了AlGaN量子阱结构,得到了275 nm波段的深紫外LED薄膜,并制备了开启电压约为4.8 V,反向漏电电流仅为2.23μA(-3.0 V电压时)的深紫外LED器件。 展开更多
关键词 ALN薄膜 algan材料 紫外LED 异质外延 纳米级孔洞
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具有M形空穴阻挡层结构的AlGaN基深紫外激光二极管性能优化
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作者 张傲翔 王瑶 +3 位作者 王梦真 魏士钦 王芳 刘玉怀 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第4期583-590,共8页
为有效降低深紫外激光二极管(DUV-LD)在n型区的空穴泄露,优化其工作性能,提出了一种新颖的M形空穴阻挡层(HBL)结构。使用Crosslight软件对矩形、N形和M形三种空穴阻挡层结构进行仿真研究和对比,发现M形空穴阻挡层结构能够更有效地降低n... 为有效降低深紫外激光二极管(DUV-LD)在n型区的空穴泄露,优化其工作性能,提出了一种新颖的M形空穴阻挡层(HBL)结构。使用Crosslight软件对矩形、N形和M形三种空穴阻挡层结构进行仿真研究和对比,发现M形空穴阻挡层结构能够更有效地降低n型区的空穴泄露,增加量子阱内的辐射复合率,同时降低激光二极管的阈值电压与阈值电流,提升激光二极管的电光转换效率与输出功率,表明M形空穴阻挡层结构能够有效降低DUV-LD在n型区的空穴泄露并优化其工作性能。 展开更多
关键词 激光技术 深紫外激光二极管 algan M形空穴阻挡层 空穴泄露
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