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AlGaN基宽禁带半导体光电材料与器件 被引量:3
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作者 贲建伟 孙晓娟 +6 位作者 蒋科 陈洋 石芝铭 臧行 张山丽 黎大兵 吕威 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第11期2046-2067,共22页
AlGaN基材料是带隙可调的直接带隙宽禁带半导体材料,是制备紫外(UV)光电子器件的理想材料。经过数十年的研究,目前已经在异质衬底外延生长AlGaN基材料、高效掺杂等方面取得了巨大进展。以此为基础,AlGaN基紫外光电器件制备领域也得到长... AlGaN基材料是带隙可调的直接带隙宽禁带半导体材料,是制备紫外(UV)光电子器件的理想材料。经过数十年的研究,目前已经在异质衬底外延生长AlGaN基材料、高效掺杂等方面取得了巨大进展。以此为基础,AlGaN基紫外光电器件制备领域也得到长足发展。在本综述中,主要介绍了高质量AlGaN基材料的MOCVD外延生长方法、掺杂方法以及近年来在紫外发光、紫外探测器件方面取得的进展。 展开更多
关键词 algan基材料 外延生长 掺杂 紫外发光器件 紫外探测
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AlGaN/GaN基HEMT器件的研究进展(英文) 被引量:2
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作者 邵庆辉 李蓓 叶志镇 《微纳电子技术》 CAS 2003年第2期10-13,16,共5页
由于AlGaN具有高的击穿电场(3 MV/cm,是GaAs的7.5倍),且在AlGaN/GaN异质结处存在高浓度的极化诱导二维电子气,AlGaN基高电子迁移率晶体管是目前最适合应用于微波大功率放大领域的器件。着重对影响高频大功率AlGaN/GaN性能的材料结构和... 由于AlGaN具有高的击穿电场(3 MV/cm,是GaAs的7.5倍),且在AlGaN/GaN异质结处存在高浓度的极化诱导二维电子气,AlGaN基高电子迁移率晶体管是目前最适合应用于微波大功率放大领域的器件。着重对影响高频大功率AlGaN/GaN性能的材料结构和器件制作进行了阐述。 展开更多
关键词 algan/GaNHEMT器件 电子迁移率 晶体管 二维电子气
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高Al组分AlGaN肖特基二极管研制
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作者 赵鸿燕 司俊杰 +4 位作者 丁嘉欣 成彩晶 张亮 张向锋 陈慧娟 《红外技术》 CSCD 北大核心 2007年第10期570-572,共3页
制备了高Al组分AlxGa1-xN肖特基二极管(x≥0.4),并且研究了该二极管在退火前后I-V特性的变化。计算了退火前后该器件的理想因子、势垒高度。退火后势垒高度由0.995 eV提高到1.1689eV,理想因子由1.699增大为1.934,器件的接触特性得到改善... 制备了高Al组分AlxGa1-xN肖特基二极管(x≥0.4),并且研究了该二极管在退火前后I-V特性的变化。计算了退火前后该器件的理想因子、势垒高度。退火后势垒高度由0.995 eV提高到1.1689eV,理想因子由1.699增大为1.934,器件的接触特性得到改善,在-5V时,暗电流密度减小为1.025×10-6 A/cm2。 展开更多
关键词 algan肖特二极管 理想因子 势垒高度
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功率AlGaN/GaN肖特基二极管结构优化设计
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作者 徐儒 郭伟玲 +4 位作者 孙晓 陈艳芳 李松宇 邹德恕 孙捷 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期553-557,共5页
利用Silvaco-ATLAS软件设计了AlGaN/GaN肖特基二极管(SBD)的基本结构,主要针对功率器件的关键参数—击穿电压进行仿真模拟,分析对比了AlGaN/GaN异质结中Al的组分、二极管阳极与阴极的间距Lac、场板的引入和长度以及FP结构下钝化层Si3N4... 利用Silvaco-ATLAS软件设计了AlGaN/GaN肖特基二极管(SBD)的基本结构,主要针对功率器件的关键参数—击穿电压进行仿真模拟,分析对比了AlGaN/GaN异质结中Al的组分、二极管阳极与阴极的间距Lac、场板的引入和长度以及FP结构下钝化层Si3N4的厚度t对二极管击穿特性的影响。结果显示,Lac的增加、场板的引入和FP结构下钝化层厚度t的变化均对二极管的击穿特性有所优化,但同时,Al组分的增加和Lac的增加对二极管引入了不同程度的负面影响。仿真结果对器件的实际制作具有一定的指导意义。 展开更多
关键词 algan/GaN肖特二极管 击穿特性 结构优化
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AlGaN基紫外分布式布拉格反射镜的结构优化
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作者 张李骊 刘战辉 钟霞 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2018年第6期377-381,共5页
采用传统的相关性分析方法,结合光学传输矩阵理论为基础的商用膜系设计软件,对紫外波段(中心波长314nm)AlGaN基布拉格反射镜的反射光谱进行了一系列模拟,研究了部分结构参数与反射率、中心波长的相关性及相关系数。理论分析结果表明:在... 采用传统的相关性分析方法,结合光学传输矩阵理论为基础的商用膜系设计软件,对紫外波段(中心波长314nm)AlGaN基布拉格反射镜的反射光谱进行了一系列模拟,研究了部分结构参数与反射率、中心波长的相关性及相关系数。理论分析结果表明:在保持周期厚度不变的情况下,分层厚度,尤其是AlGaN分层厚度的变化对最终反射率和中心波长的影响最大,且为负相关,并借此优化得到具有较高反射率、较宽探测波段的紫外AlGaN基布拉格反射镜结构参数。相关性分析和优化结果与实际相符,为紫外AlGaN基布拉格反射镜的设计和应用提供了新的思路和研究手段。 展开更多
关键词 光学设计 分布式布拉格反射镜 结构优化 algan基 相关性分析 紫外
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AlN/蓝宝石衬底上AlGaN-UV-LEDs光学性能改善研究
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作者 王美玉 章国安 +3 位作者 张振娟 施敏 朱晓军 朱友华 《实验技术与管理》 CAS 北大核心 2014年第12期50-52,共3页
通过有机金属化学气相沉积法在AlN/蓝宝石衬底上生长AlGaN基多量子阱结构的发光二极管(LEDs),其对应的发光峰值波长为264nm(UV-C区)。通过在活性区域和p型外延层之间插入1nm厚的本征AlN层(起到电子挡层的作用),可以清楚地观测到有效抑... 通过有机金属化学气相沉积法在AlN/蓝宝石衬底上生长AlGaN基多量子阱结构的发光二极管(LEDs),其对应的发光峰值波长为264nm(UV-C区)。通过在活性区域和p型外延层之间插入1nm厚的本征AlN层(起到电子挡层的作用),可以清楚地观测到有效抑制位于320nm附件的寄生发光峰,推测这是电子溢出或Mg扩散所致。此外,发现了通过改变外延层的结构可以使LEDs的输出功率增长20倍以上。 展开更多
关键词 algan基深紫外发光二极管 AlN衬底 有机金属化学气相沉积法 电子挡层 出光功率
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Study on growing thick AlGaN layer on c-plane sapphire substrate and free-standing GaN substrate 被引量:3
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作者 WANG DangHui ZHOU Hao +5 位作者 ZHANG JinCheng XU ShengRui ZHANG LinXia MENG FanNa AI Shan HAO Yue 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第12期2383-2388,共6页
In this study,the thick AlGaN epilayers have been grown on the c-plane sapphire substrate and the free-standing GaN substrate using low-temperature AlN nucleation layers by low-pressure metal-organic chemical vapor de... In this study,the thick AlGaN epilayers have been grown on the c-plane sapphire substrate and the free-standing GaN substrate using low-temperature AlN nucleation layers by low-pressure metal-organic chemical vapor deposition(LPMOCVD).High resolution X-ray diffraction(HRXRD),atom force microscopy(AFM),scanning electron microscopy(SEM),photoluminescence(PL) and Raman scattering measurements have been employed to study the crystal quality,threading dislocation density,surface morphology,optical properties and phonon properties of thick AlGaN epifilms.The results indicate that AlGaN epifilms crystal quality can be improved greatly when grown on the free-standing GaN substrate.We calculated the threading dislocation density and found that thick AlGaN epifilm grown on the free-standing GaN substrate is much lower in total threading dislocation density than that grown on the sapphire substrate,although the surface morphology is rougher than that of sapphire substrate. 展开更多
关键词 metal-organic chemical vapor deposition crystal quality surface morphology AlN nucleation layer
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