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AlN系硬质薄膜研究的现状和进展
1
作者
张驰
张钧
+1 位作者
彭立静
曲梓萌
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第5期111-116,共6页
AlN是典型的第三代半导体材料,具有良好的介电性能、力学性能及光热性能。AlN系硬质薄膜在光、电以及机械等领域发挥着巨大作用。随着薄膜制备工艺的不断发展,AlN系硬质薄膜展现出了极大的发展潜力和应用前景。通过整理AlN系硬质薄膜的...
AlN是典型的第三代半导体材料,具有良好的介电性能、力学性能及光热性能。AlN系硬质薄膜在光、电以及机械等领域发挥着巨大作用。随着薄膜制备工艺的不断发展,AlN系硬质薄膜展现出了极大的发展潜力和应用前景。通过整理AlN系硬质薄膜的研究成果以及发展的相关资料,对AlN系硬质薄膜的性能进行了全面阐述,指出了AlN系硬质薄膜性能优化的方法,并对AlN系硬质薄膜的研究以及应用方向进行了展望。
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关键词
aln系硬质薄膜
性能
研究
展望
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职称材料
题名
AlN系硬质薄膜研究的现状和进展
1
作者
张驰
张钧
彭立静
曲梓萌
机构
沈阳大学机械工程学院
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第5期111-116,共6页
基金
辽宁省自然科学基金项目(2015020216)资助。
文摘
AlN是典型的第三代半导体材料,具有良好的介电性能、力学性能及光热性能。AlN系硬质薄膜在光、电以及机械等领域发挥着巨大作用。随着薄膜制备工艺的不断发展,AlN系硬质薄膜展现出了极大的发展潜力和应用前景。通过整理AlN系硬质薄膜的研究成果以及发展的相关资料,对AlN系硬质薄膜的性能进行了全面阐述,指出了AlN系硬质薄膜性能优化的方法,并对AlN系硬质薄膜的研究以及应用方向进行了展望。
关键词
aln系硬质薄膜
性能
研究
展望
Keywords
aln
-based hard films
properties
research
prospect
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
AlN系硬质薄膜研究的现状和进展
张驰
张钧
彭立静
曲梓萌
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2020
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