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探究氧气流量对新型高阻隔薄膜材料的制备及性能的影响 被引量:2
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作者 张健 牛夏斌 +2 位作者 孟辉波 齐振华 李建浩 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第7期694-698,共5页
利用真空反应蒸发镀膜技术在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)表面沉积AlO_(x)+Al+AlO_(x)三层镀层,通过改进传统蒸发镀膜设备,增添匀气管,控制氧气通入位置及流量,研究了氧气流量对膜层形貌、膜层结合力和阻隔性的影响。采用扫描电子显微镜... 利用真空反应蒸发镀膜技术在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)表面沉积AlO_(x)+Al+AlO_(x)三层镀层,通过改进传统蒸发镀膜设备,增添匀气管,控制氧气通入位置及流量,研究了氧气流量对膜层形貌、膜层结合力和阻隔性的影响。采用扫描电子显微镜、能谱仪、3M标准胶带、透氧仪等测试仪器对膜层形貌和表层元素进行了表征和分析,并得到最佳工艺条件。结果表明:改进设备后沉积的AlO_(x)+Al+AlO_(x)/PET复合膜,可以有效的提高薄膜的阻隔性、致密性以及镀层与薄膜间的结合力。在本底真空8×10^(-4)Pa、反应气压1×10^(-2)Pa、电流80 A、过渡层氧气流量50 m L/min、盖层充气流量100 m L/min等工艺下蒸镀的AlO_(x)+Al+AlO_(x)/PET复合膜,膜层薄膜的结合力为1.52 N/mm,氧气透过率为1.1 cm^(3)/(m^(2)·day·atm),与传统铝膜相比,结合力提高2倍,阻隔性提高4.5倍。 展开更多
关键词 真空反应蒸发镀膜技术 alox+al+alox/pet复合膜 氧气流量 阻隔性 结合力
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超导磁通量子比特的制备及Al/AlO_x/Al隧道结特性参数
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作者 王林 许伟伟 +3 位作者 翟计全 李晓虎 孙国柱 吴培亨 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第27期2728-2733,共6页
超导量子比特作为利用约瑟夫森结实现量子位的方案之一,具有易集成、易与外界耦合等优点.用双层光刻胶通过深紫外光曝光制备悬空掩膜结构,Al作为超导材料,采用电子束斜蒸发及静态氧化的方法制备了超导磁通量子比特样品.通过对Al薄膜厚... 超导量子比特作为利用约瑟夫森结实现量子位的方案之一,具有易集成、易与外界耦合等优点.用双层光刻胶通过深紫外光曝光制备悬空掩膜结构,Al作为超导材料,采用电子束斜蒸发及静态氧化的方法制备了超导磁通量子比特样品.通过对Al薄膜厚度与平整度关系分析,选取60 nm作为隧道结底层Al厚度,增加蒸发源到样品衬底间的距离,提高了Al薄膜平整度,降低了隧道结漏电流.通过透射电子显微镜分析,观测到Al隧道结三层结构,并得到了势垒层厚度和氧分压的关系. 展开更多
关键词 超导磁通量子比特 al/alox/al超导隧道结 静态氧化 透射电子显微镜分析 势垒层厚度 薄膜平整度 漏电比
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