靶电流对磁控溅射AlSn20/C镀层耐蚀性的影响

采用非平衡磁控溅射技术在铝基轴承合金表面制备AlSn20/C复合镀层,通过扫描电镜形貌观察、交流阻抗和极化曲线的测量研究石墨靶电流对镀层组织与耐蚀性能的影响。结果表明：在电流0.2~0.8 A范围内,薄膜均以层状结构生长,且电流越小,薄膜组织越致密;镀膜后试样的电化学阻抗比基体的高5~6个数量级,石墨靶电流为0.2 A时,可将基体的自腐蚀电位由1.42 V提高到1.18 V,石墨靶电流是影响AlSn20/C复合镀层耐蚀性的一个重要因素,石墨靶电流越小,其耐蚀性越好。

靶电流对磁控溅射减摩复合镀层组织与性能的影响

目前我国溅镀轴瓦依赖进口.采用非平衡磁控溅射在轴承合金表面制备了AlSn20/C复合镀层,分析了碳靶电流的改变对轴承合金表面复合镀层的表面形貌、硬度、耐蚀性、膜基结合力以及摩擦系数等的影响.研究结果表明：当碳靶电流在1.0~1.2A时,非平衡磁控溅射AlSn20/C复合镀层;当碳靶电流为1.0A时,镀层表面组织均匀,铝原子、锡原子和碳原子达到最佳匹配;当碳靶电流在1.0~1.2A时,镀层硬度与碳靶电流成反比,当其为1.0A时,镀层硬度最高为601HV0.025,结合力最高可达33N,镀层的摩擦系数最低达到0.12.