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Alcator C—Mod边缘等离子体的H模坪顶的特征及MHD稳定性
1
作者
D.A.Mossessian
柳柳
等
《国外核聚变》
2003年第1期35-45,共11页
在Alcator C-Mod 中大多数运行条件下,H模的主要类型是稳态增强Da(EDA)模,表征为良好的能量约束,连续降低的杂质约束及没有规则的边缘局域模(ELMs)。在这种工况下,观察到准耦合(QC)电磁模(Rθ-5cm^1,f-100kHz),它位于密度坪顶...
在Alcator C-Mod 中大多数运行条件下,H模的主要类型是稳态增强Da(EDA)模,表征为良好的能量约束,连续降低的杂质约束及没有规则的边缘局域模(ELMs)。在这种工况下,观察到准耦合(QC)电磁模(Rθ-5cm^1,f-100kHz),它位于密度坪顶区域,实验数据表明,这种模对粒子输运的增强负责,实验显示,QC模可以存在于边缘温度-安全因子空间内确定好的区域,有利于边缘高的q值(q95≥3.5)和所要求的适当的坪顶温度Tc^ped≤Tc(Tc-400eV)。因为边缘温度和压力梯度增大,所以QC模被宽带低扰动(f<50kHz)代替。在这些放电中以小而多刺的ELMs,对C-Mod边缘理想气球稳定性的分析表明,如果考虑了边缘自举电流,它因边缘高碰撞性而减小,那么边缘压力梯度也不会受到无限的n 理想气球模的限制,由边缘压力和压力梯度共同驱动的耦合理想剥落/气球中等n模的线性稳定性分析表明,这些模在C-Mod边缘,在压力梯度范围内变得边缘不稳定,在压力梯度范围内,观察到多刺的ELms(p≥1.2×10^7Pa·Wb^-1·rad)。该结果与作为中等模数(n)的剥落/气球模的ELMs模型的结果是一致的。另一方面,已被证明的EDA工况下的理想模的稳定性以及该稳定性存在所要求的低Te^ped的事实,支持表现出QC模电阻特性的理论模型。
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关键词
alcatorc-mod
边缘等离子体
MHD稳定性
H模坪顶特征
托卡马克装置
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职称材料
题名
Alcator C—Mod边缘等离子体的H模坪顶的特征及MHD稳定性
1
作者
D.A.Mossessian
柳柳
等
出处
《国外核聚变》
2003年第1期35-45,共11页
文摘
在Alcator C-Mod 中大多数运行条件下,H模的主要类型是稳态增强Da(EDA)模,表征为良好的能量约束,连续降低的杂质约束及没有规则的边缘局域模(ELMs)。在这种工况下,观察到准耦合(QC)电磁模(Rθ-5cm^1,f-100kHz),它位于密度坪顶区域,实验数据表明,这种模对粒子输运的增强负责,实验显示,QC模可以存在于边缘温度-安全因子空间内确定好的区域,有利于边缘高的q值(q95≥3.5)和所要求的适当的坪顶温度Tc^ped≤Tc(Tc-400eV)。因为边缘温度和压力梯度增大,所以QC模被宽带低扰动(f<50kHz)代替。在这些放电中以小而多刺的ELMs,对C-Mod边缘理想气球稳定性的分析表明,如果考虑了边缘自举电流,它因边缘高碰撞性而减小,那么边缘压力梯度也不会受到无限的n 理想气球模的限制,由边缘压力和压力梯度共同驱动的耦合理想剥落/气球中等n模的线性稳定性分析表明,这些模在C-Mod边缘,在压力梯度范围内变得边缘不稳定,在压力梯度范围内,观察到多刺的ELms(p≥1.2×10^7Pa·Wb^-1·rad)。该结果与作为中等模数(n)的剥落/气球模的ELMs模型的结果是一致的。另一方面,已被证明的EDA工况下的理想模的稳定性以及该稳定性存在所要求的低Te^ped的事实,支持表现出QC模电阻特性的理论模型。
关键词
alcatorc-mod
边缘等离子体
MHD稳定性
H模坪顶特征
托卡马克装置
分类号
TL631.24 [核科学技术—核技术及应用]
TL612 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
Alcator C—Mod边缘等离子体的H模坪顶的特征及MHD稳定性
D.A.Mossessian
柳柳
等
《国外核聚变》
2003
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