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掺杂浓度和温度对δ掺杂的AlxGa1-xAs/GaAs双量子阱系统电子态结构和子带间光学吸收系数的影响
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作者 杨双波 赵恒飞 《南京师大学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期23-29,共7页
在有效质量近似下,通过自洽求解薛定谔方程和泊松方程,计算了在温度不为零时δ掺杂的AlxGa1-x As/Ga As双量子阱系统的电子态结构.研究了温度和掺杂浓度对双量子阱系统子带能级、费米能量、及子带间线性光学吸收系数的影响.研究发现,系... 在有效质量近似下,通过自洽求解薛定谔方程和泊松方程,计算了在温度不为零时δ掺杂的AlxGa1-x As/Ga As双量子阱系统的电子态结构.研究了温度和掺杂浓度对双量子阱系统子带能级、费米能量、及子带间线性光学吸收系数的影响.研究发现,系统的本征能量随温度升高或随掺杂浓度的增大而增加;费米能量随温度升高而减小,随掺杂浓度的增大而增加;子带间总的吸收系数随温度的升高而减小,随掺杂浓度的增大而增加.除子带间跃迁3->6,4->5随温度升高线性光学吸收系数增加外,其他各主要子带间跃迁随温度升高线性光学吸收系数而减小;各子带间线性光学吸收系数随掺杂浓度的增大而增加. 展开更多
关键词 alxga1-xas/ga As双量子阱 掺杂浓度 子带间线性光学吸收系数
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GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中的激子在纵向外电场中的性质 被引量:3
2
作者 张福甲 虎志明 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1994年第3期232-236,共5页
用变分法分别计算了GaAs/AlxGa1-xAs单量子阱和多量子阱在纵向(垂直于异质结界面的方向)外电场作用下激子的基态能级,讨论了电场对激子的峰移、偶极振予强度和交换能的影响。
关键词 量子阱 激子 纵向外电场 砷化镓 alxga1-xas
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高铝含量的AlxGa1—xAs/GaAs层中的Mg掺杂和扩散
3
作者 罗江财 《半导体杂志》 1992年第4期25-29,共5页
关键词 alxga1-xas Mg掺杂 扩散 gaAS
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透射式指数掺杂Al_xGa_(1-x)As/GaAs光电阴极光学性能和量子效率仿真研究 被引量:1
4
作者 冯琤 张益军 钱芸生 《中国科技论文》 CAS 北大核心 2015年第16期1916-1919,1931,共5页
为了更好地了解影响透射式指数掺杂AlxGa1-xAs/GaAs光电阴极性能的因素,利用薄膜光学的矩阵法推导的光学性能函数,以及考虑窗口层光电子贡献作用的透射式指数掺杂AlxGa1-xAs/GaAs光电阴极量子效率公式建模进行仿真,研究了光电阴极中AlxG... 为了更好地了解影响透射式指数掺杂AlxGa1-xAs/GaAs光电阴极性能的因素,利用薄膜光学的矩阵法推导的光学性能函数,以及考虑窗口层光电子贡献作用的透射式指数掺杂AlxGa1-xAs/GaAs光电阴极量子效率公式建模进行仿真,研究了光电阴极中AlxGa1-xAs窗口层、GaAs发射层厚度变化及AlxGa1-xAs窗口层中Al原子数分数的变化对光学性能和量子效率的影响。结果表明:AlxGa1-xAs窗口层厚度的变化和Al原子数分数的变化对光学性能和量子效率的短波区域影响较大,而GaAs发射层的厚度变化对长波和短波区域均有影响。 展开更多
关键词 alxga1-xas/gaAs光电阴极 透射式 光学性能 量子效率
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Al_xGa_(1-x)As选择性湿法氧化技术的研究 被引量:4
5
作者 黄静 郭霞 +6 位作者 渠红伟 廉鹏 董立闽 朱文军 杜金玉 邹德恕 沈光地 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2003年第6期647-650,共4页
详细研究了温度和Al组分与AlxGa1-xAs横向氧化速率的关系,通过分析氧化机制和实验得到的氧化宽度与时间的线性关系,指出在较短时间内的氧化为受AlxGa1-xAs材料与水汽反应速率限制的过程。运用优化的氧化条件,成功制备了氧化孔径为8μm... 详细研究了温度和Al组分与AlxGa1-xAs横向氧化速率的关系,通过分析氧化机制和实验得到的氧化宽度与时间的线性关系,指出在较短时间内的氧化为受AlxGa1-xAs材料与水汽反应速率限制的过程。运用优化的氧化条件,成功制备了氧化孔径为8μm的垂直腔面发射激光器,最大直流光输出功率为3.2mW,激射波长为978nm,工作电流为15mA。 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器 alxga1-xas 氧化
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高铝Al_xGa_(1-x)As氧化层对垂直腔面发射激光器的影响 被引量:6
6
作者 康香宁 宋国峰 +2 位作者 叶晓军 侯识华 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期589-593,共5页
针对可见光垂直腔面发射激光器的制备 ,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分Alx Ga1 - x As的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响 ,结合器件结构设计确定了氧化限制层 Alx Ga1 - x-As的铝组分和最佳位置 ... 针对可见光垂直腔面发射激光器的制备 ,通过湿氮氧化实验和测量微区光致发光谱分别研究了高铝组分Alx Ga1 - x As的氧化特性及氧化产物的收缩应力对有源区的影响 ,结合器件结构设计确定了氧化限制层 Alx Ga1 - x-As的铝组分和最佳位置 ,并制备出了低阈值电流的 Al Ga In 展开更多
关键词 alxga1-xas湿氮选择氧化 微区光致发光谱 垂直腔面发射激光器
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势垒高度对GaAs/Al_xGa_(1-x)As QWIP光谱特性的影响(英文) 被引量:2
7
作者 胡小英 刘卫国 +2 位作者 段存丽 蔡长龙 牛小玲 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第10期2995-2999,共5页
为了确定束缚态到准束缚态工作模式QWIP响应波长与势垒高度关系,采用金属有机物化学气相沉积法生长制备势垒高度不同Ga As/AlxGa1-xAs QWIP样品,采用傅里叶光谱仪对样品进行77 K液氮温度光谱测试。结果显示1#,2#样品峰值响应波长与据薛... 为了确定束缚态到准束缚态工作模式QWIP响应波长与势垒高度关系,采用金属有机物化学气相沉积法生长制备势垒高度不同Ga As/AlxGa1-xAs QWIP样品,采用傅里叶光谱仪对样品进行77 K液氮温度光谱测试。结果显示1#,2#样品峰值响应波长与据薛定谔方程得到峰值波长误差为15.6%,4.6%。结果表明:引起量子阱中子带间距离逐渐扩大与峰值响应波长蓝移的根本原因是势垒高度的增加。高分辨透射扫描电镜实验结果表明量子阱材料生长过程精度控制不够及Al Ga As与Ga As晶格不匹配是造成1#样品误差较大的主要原因。说明调节势垒高度可实现QWIP峰值波长微调的目的。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 高分辨透射扫描电镜 ga As/alxga1-xas 峰值波长
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磁场对GaAs/Al_xGa_(1-x)As异质结系统中束缚极化子的影响 被引量:7
8
作者 张敏 班士良 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1618-1623,共6页
对 Ga As/ Alx Ga1 - x As单异质结系统引入三角势近似异质结势 ,同时考虑体纵光学 (L O)声子和有效近似下两支界面光学 (IO)声子的影响 ,采用变分法讨论了外界恒定磁场对束缚于近界面杂质的光学极化子结合能的影响 .利用改进的 L ee- L... 对 Ga As/ Alx Ga1 - x As单异质结系统引入三角势近似异质结势 ,同时考虑体纵光学 (L O)声子和有效近似下两支界面光学 (IO)声子的影响 ,采用变分法讨论了外界恒定磁场对束缚于近界面杂质的光学极化子结合能的影响 .利用改进的 L ee- L ow- Pines(L L P)中间耦合方法处理电子 -声子和杂质 -声子的相互作用 ,计算了杂质态结合能随杂质位置、磁场强度、电子面密度的变化关系 .结果表明 ,极化子结合能随磁场呈现增加的趋势 ,其中 L O声子对结合能的负贡献受磁场影响显著 ,而 IO声子的负贡献受磁场的影响并不明显 ,但当杂质靠近界面时 ,杂质 - IO声子相互作用对磁场的影响很敏感 .结果还表明 ,导带弯曲作用不容忽略 ;电子像势对结合能的影响很小 ,可以忽略 . 展开更多
关键词 gaAS/alxga1-xas 异质结 磁场 束缚极化子 结合能
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GaAs MISFET制备中柠檬酸/双氧水溶液对GaAs/Al_xGa_(1-x)As结构的选择湿法腐蚀 被引量:1
9
作者 杨瑞霞 陈宏江 +2 位作者 武一宾 杨克武 杨帆 《电子器件》 CAS 2007年第2期384-386,390,共4页
用α台阶仪和原子力显微镜(AFM)研究了不同体积比的柠檬酸(50%)/双氧水溶液对GaAs/AlxGa1-xAs系统的选择湿法腐蚀特性,对AlxGa1-xAs停止层的组分和腐蚀液体积比进行了优化.当腐蚀液体积比在1.5∶1到2∶1范围时获得了最好的选择腐蚀效果.... 用α台阶仪和原子力显微镜(AFM)研究了不同体积比的柠檬酸(50%)/双氧水溶液对GaAs/AlxGa1-xAs系统的选择湿法腐蚀特性,对AlxGa1-xAs停止层的组分和腐蚀液体积比进行了优化.当腐蚀液体积比在1.5∶1到2∶1范围时获得了最好的选择腐蚀效果.在25℃.温度条件下,当腐蚀液体积比为1.5∶1时,对Al摩尔分数x为0.2、0.3和1的GaAs/AlxGa1-xAs系统腐蚀比分别为45、74和大于200,表面腐蚀形貌均匀平整.将这种选择腐蚀技术用于GaAsMISFET的栅槽工艺,获得了良好的阈值电压均匀性. 展开更多
关键词 柠檬酸 gaAs/alxga1-xas系统 选择性湿法腐蚀 gaAS MESFET
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Al_xGa_(1-x)As材料低Al组分PL测试技术的研究
10
作者 许秀娟 巩锋 +2 位作者 折伟林 宋淑芳 周翠 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2013年第8期928-931,共4页
采用激光显微光致发光(PL)光谱仪测试了低Al组分AlxGa1-xAs的室温显微光致发光谱,研究了光致发光测试方法的特点,结合文献中报道的低Al组分的经验计算公式,自主开发了能进行光谱数据处理和Al组分计算的VB应用程序,目前已进入实用化。结... 采用激光显微光致发光(PL)光谱仪测试了低Al组分AlxGa1-xAs的室温显微光致发光谱,研究了光致发光测试方法的特点,结合文献中报道的低Al组分的经验计算公式,自主开发了能进行光谱数据处理和Al组分计算的VB应用程序,目前已进入实用化。结果显示,该程序的开发和应用是获取低Al组分AlxGa1-xAs材料Al组分的非常重要的表征手段,并为研究和优化AlxGa1-xAs材料生长工艺提供指导,同时还成为筛选用于制作器件工艺合格材料的重要依据。 展开更多
关键词 alxga1-xas AL组分 光致发光
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Al_xGa_(1-x)A_s和GaA_s材料的物理参数模型
11
作者 曾峥 吴文刚 罗晋生 《电子器件》 CAS 1995年第1期36-45,共10页
本文较系统和全面地总结了GaA_s和Al_xGa_(1-x)As材料的物理参数模型,包括介电常数、能带参数、载流子迁移率以及复合机制和寿命等,给出了易于应用的数学公式,其中Al_xGa_(1-x)A_s重掺杂能带窄变... 本文较系统和全面地总结了GaA_s和Al_xGa_(1-x)As材料的物理参数模型,包括介电常数、能带参数、载流子迁移率以及复合机制和寿命等,给出了易于应用的数学公式,其中Al_xGa_(1-x)A_s重掺杂能带窄变公式为本文首次推导。这些物理参数模型对于Al_xGa_(1-x)As/GaAs异质结器件的研究有着十分重要的意义。 展开更多
关键词 alxga1-xas 砷化镓 物理 参数 模型
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长周期掺杂超晶格GaAs/Al_xGa_(1-x)As红外吸收的研究
12
作者 杨晓峰 许丽萍 温廷敦 《华北工学院学报》 2000年第3期198-201,共4页
目的 研究长周期掺杂超晶格 Ga As/Alx Ga1 - x As红外吸收的特性 ,尤其在 1 0 .6μm处的红外吸收 .方法 在有效质量的基础上 ,计算 Ga As/Alx Ga1 - x As系列超晶格材料能带及带间光吸收谱 .结果 发现当 Ga As/Al0 .3Ga0 .7As的周... 目的 研究长周期掺杂超晶格 Ga As/Alx Ga1 - x As红外吸收的特性 ,尤其在 1 0 .6μm处的红外吸收 .方法 在有效质量的基础上 ,计算 Ga As/Alx Ga1 - x As系列超晶格材料能带及带间光吸收谱 .结果 发现当 Ga As/Al0 .3Ga0 .7As的周期层厚为 1 8nm,Ga As层厚为 3nm时 ,在 1 0 .6μm处有一强的红外吸收峰 . 展开更多
关键词 红外吸收 gaAS/alxga1-xas TN213 超晶格
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磁场下有限厚势垒GaAs/Al_xGa_(1-x)As量子阱中杂质态结合能
13
作者 张雪枫 班士良 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期376-381,共6页
利用变分法讨论势垒厚度对GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中杂质态结合能的作用以及垂直于界面方向磁场的影响,分别给出结合能随阱宽、垒厚、杂质位置和磁场强度的变化关系,并与无限深势阱量子阱和无限厚势垒量子阱两种情形的结果进行了比较.结... 利用变分法讨论势垒厚度对GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中杂质态结合能的作用以及垂直于界面方向磁场的影响,分别给出结合能随阱宽、垒厚、杂质位置和磁场强度的变化关系,并与无限深势阱量子阱和无限厚势垒量子阱两种情形的结果进行了比较.结果表明,在小阱宽下,有限高势垒时的结合能明显小于无限高势垒情形,有限厚势垒时的结合能大于无限厚势垒情形.随着阱宽增加,三种情形下结合能的差异逐渐减小.磁场的约束显著地影响着杂质态结合能,其值随着外磁场的增大而单调增加.在以后的工作中,应考虑本文对势垒的修正. 展开更多
关键词 有限厚势垒 gaAS alxga1-xas量子阱 杂质态结合能 磁场
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圆柱形GaAs/Al_xGa_(1-x)As量子环中类氢施主杂质态的电场效应
14
作者 何浩 王广新 《唐山学院学报》 2017年第3期18-22,共5页
在有效质量近似理论下,利用变分法研究了外电场下圆柱形GaAs/Al_xGa_(1-x)As量子环中类氢施主杂质束缚能。讨论了施主杂质束缚能与量子环尺寸(径向厚度、高度)、杂质位置以及外电场间的变化规律。结果表明:随着量子环径向厚度(高度)的增... 在有效质量近似理论下,利用变分法研究了外电场下圆柱形GaAs/Al_xGa_(1-x)As量子环中类氢施主杂质束缚能。讨论了施主杂质束缚能与量子环尺寸(径向厚度、高度)、杂质位置以及外电场间的变化规律。结果表明:随着量子环径向厚度(高度)的增大,中心施主杂质束缚能先增大后减小,显示有一极大值;施加的电场明显地改变了量子环中电子波函数的分布,导致施主杂质束缚能相应的改变;施主杂质束缚能随杂质位置的变化呈现出规律性。 展开更多
关键词 圆柱形gaAs/alxga1-xas 量子环 电场效应 施主杂质 束缚能
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Large signal and noise properties of heterojunction Al_xGa_(1-x)As/GaAs DDR IMPATTs 被引量:1
15
作者 suranjana banerjee monojit mitra 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2016年第6期52-59,共8页
Simulation studies are carried out on the large signal and noise properties of heterojunction(HT)Al_xGa_(1-x)As/GaAs double drift region(DDR) IMPATT devices at V-band(60 GHz).The dependence of Al mole fraction... Simulation studies are carried out on the large signal and noise properties of heterojunction(HT)Al_xGa_(1-x)As/GaAs double drift region(DDR) IMPATT devices at V-band(60 GHz).The dependence of Al mole fraction on the aforementioned properties of the device has been investigated.A full simulation software package has been indigenously developed for this purpose.The large signal simulation is based on a non-sinusoidal voltage excitation model.Three mole fractions of Al and two complementary HT DDR structures for each mole fraction i.e.,six DDR structures are considered in this study.The purpose is to discover the most suitable structure and corresponding mole fraction at which high power,high efficiency and low noise are obtained from the device.The noise spectral density and noise measure of all six HT DDR structures are obtained from a noise model and simulation method.Similar studies are carried out on homojunction(HM) DDR GaAs IMPATTs at 60 GHz to compare their RF properties with those of HT DDR devices.The results show that the HT DDR device based on N-Al_xGa_(1-x)As/p-GaAs with 30%mole fraction of Al is the best one so far as large signal power output,DC to RF conversion efficiency and noise level are concerned. 展开更多
关键词 heterojunction alxga1-xas/gaAs mole fraction DDR IMPATTS
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垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺的实验研究 被引量:4
16
作者 李颖 周广正 +1 位作者 兰天 王智勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1714-1721,共8页
在湿法氧化过程中采用一种自制的新型红外光源显微镜和CCD相机俯视成像系统监测被氧化晶圆片上氧化标记点颜色的变化,通过CCD相机得到的氧化标记点尺寸大小与实际氧化标记点尺寸大小的比例计算,由氧化标记点变化颜色的尺寸大小获得实际... 在湿法氧化过程中采用一种自制的新型红外光源显微镜和CCD相机俯视成像系统监测被氧化晶圆片上氧化标记点颜色的变化,通过CCD相机得到的氧化标记点尺寸大小与实际氧化标记点尺寸大小的比例计算,由氧化标记点变化颜色的尺寸大小获得实际晶圆被氧化尺寸大小,反馈调节氧化工艺,保证控制垂直腔面发射激光器(VCSELs)的氧化孔径精度在±1μm。根据氧化实验总结高Al组分含量对氧化孔形状影响、氧化速率随温度变化及氧化深度随时间变化规律,得到在炉温420℃、水浴温度90℃、氧化载气N2流量200m L/min的工艺条件下,氧化速率为0. 31μm/min,实现量产高速调制4×25 Gbit/s的850 nm VCSELs。室温条件下,各子单元器件工作电压为2. 2 V,阈值电流为0. 8 m A,斜效率为0. 8 W/A。在6 m A工作电流下,光功率为4. 6 m W。 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器 alxga1-xas 湿法氧化 氧化规律
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有限势垒量子阱中极化子结合能的压力效应 被引量:1
17
作者 孟建英 班士良 王树涛 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期31-37,共7页
计入流体静压力效应,同时考虑量子阱中三类光学声子模(局域类体光学声子、半空间类体光学声子和界面光学声子模)对单电子基态能量的影响,采用变分法讨论GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中自由极化子的结合能.得到了压力下三类光学声子模对极化子... 计入流体静压力效应,同时考虑量子阱中三类光学声子模(局域类体光学声子、半空间类体光学声子和界面光学声子模)对单电子基态能量的影响,采用变分法讨论GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中自由极化子的结合能.得到了压力下三类光学声子模对极化子结合能影响随阱宽的变化关系.结果表明:极化子结合能随外加压力增加. 展开更多
关键词 极化子 结合能 量子阱 压力效应 gaAS/alxga1-xas
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有限厚势垒量子阱中杂质态结合能 被引量:2
18
作者 王丽 班士良 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期125-130,共6页
利用变分法对有限厚势垒GaAs/AlxGa1-xAs量子阱结构中杂质态结合能进行数值计算,给出杂质态结合能随阱宽、垒厚和杂质位置的变化关系,且与无限厚势垒情形进行比较.结果表明,有限厚势垒杂质态结合能明显小于无限厚势垒情形.同时,在中间... 利用变分法对有限厚势垒GaAs/AlxGa1-xAs量子阱结构中杂质态结合能进行数值计算,给出杂质态结合能随阱宽、垒厚和杂质位置的变化关系,且与无限厚势垒情形进行比较.结果表明,有限厚势垒杂质态结合能明显小于无限厚势垒情形.同时,在中间阱宽时,这两种情形的杂质态结合能差别最大,在宽阱时,差别最小.此外,还考虑电子有效质量、材料介电常数及禁带宽度随流体静压力变化对杂质态结合能的影响. 展开更多
关键词 gaas/alxga1-xas量子阱 有限厚势垒 杂质态结合能
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有限深量子阱中电子迁移率的压力效应
19
作者 郝国栋 班士良 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期520-524,共5页
考虑量子阱中局域类体光学声子模及界面光学声子模的影响,采用介电连续模型,运用力平衡方程研究GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中声子模对电子迁移率影响随阱宽的变化关系及其压力效应.结果表明,在窄阱时迁移率主要受界面光学声子模的影响,随着... 考虑量子阱中局域类体光学声子模及界面光学声子模的影响,采用介电连续模型,运用力平衡方程研究GaAs/AlxGa1-xAs量子阱中声子模对电子迁移率影响随阱宽的变化关系及其压力效应.结果表明,在窄阱时迁移率主要受界面光学声子模的影响,随着阱宽的增加,局域类体光学声子模对迁移率的影响逐渐增加;两种声子模的散射作用均使电子迁移率随外加压力增加而减小,在窄阱时压力效应更加明显. 展开更多
关键词 量子阱 迁移率 压力效应 gaAS/alxga1-xas
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Al_xGa_(1-x)As(100)表面性质的研究
20
作者 黄春晖 卢学坤 丁训民 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1989年第12期1968-1973,共6页
用紫外光电子能谱研究了Al_(0.7)Ga_(0.3)As的表面态结构,观察到Al_(0.7)Ga_(0.3)As在价带中的两个表面态结构。在1500L原子氢吸附后消失。研究了这两个表面态结构在热退火消除表面损伤过程中的变化。结合LEED和XPS的实验结果,确定在45... 用紫外光电子能谱研究了Al_(0.7)Ga_(0.3)As的表面态结构,观察到Al_(0.7)Ga_(0.3)As在价带中的两个表面态结构。在1500L原子氢吸附后消失。研究了这两个表面态结构在热退火消除表面损伤过程中的变化。结合LEED和XPS的实验结果,确定在450℃左右的热退火可以有效地消除损伤,获得一个完整的Al_(0.7)Ga_(0.3)As(100)表面。 展开更多
关键词 alxga1-xas 表面性质 半导体材料
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