溅射Ar^+能量对离子束溅射制备Ge薄膜结晶性的影响

采用离子束溅射技术在不同Ar+能量下溅射Ge单层膜。用Raman光谱和AFM图谱对薄膜进行表征,得到Ge薄膜结晶性和晶粒大小随Ar+能量变化的波动性关系。在0.6keV的Ar+能量下,得到晶粒较小的Ge晶化薄膜,0.8keV能量下,Ge薄膜为非晶结构,1.0keV能量下,得到晶粒较大的Ge晶化薄膜。通过对沉积原子数与沉积原子能量的分析,解释了这一波动性变化。