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Electrical and dielectric characterization of Au/ZnO/n-Si device depending frequency and voltage
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作者 I Orak A Kocyigit S Almdal 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第2期477-483,共7页
Au/Zn O/n-type Si device is obtained using atomic layer deposition(ALD) for Zn O layer, and some main electrical parameters are investigated, such as surface/interface state(Nss), barrier height(Φb), series res... Au/Zn O/n-type Si device is obtained using atomic layer deposition(ALD) for Zn O layer, and some main electrical parameters are investigated, such as surface/interface state(Nss), barrier height(Φb), series resistance(Rs), donor concentration(Nd), and dielectric characterization depending on frequency or voltage. These parameters are acquired by use of impedance spectroscopy measurements at frequencies ranging from 10 k Hz to 1 MHz and the direct current(DC) bias voltages in a range from-2 V to +2 V at room temperature are used. The main electrical parameters and dielectric parameters,such as dielectric constant(ε"), dielectric loss(ε"), loss tangent(tan δ), the real and imaginary parts of electric modulus(M and M), and alternating current(AC) electrical conductivity(σ) are affected by changing voltage and frequency. The characterizations show that some main electrical parameters usually decrease with increasing frequency because charge carriers at surface states have not enough time to fallow an external AC signal at high frequencies, and all dielectric parameters strongly depend on the voltage and frequency especially in the depletion and accumulation regions. Consequently, it can be concluded that interfacial polarization and interface charges can easily follow AC signal at low frequencies. 展开更多
关键词 au/zno/n–si device dielectric properties polarization process frequency and voltage dependence
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ZnO纳米管阵列/p-Si异质结构的低温控制合成及其光电性能 被引量:3
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作者 徐玉睿 田永涛 +5 位作者 王文闯 贺川 陈文丽 赵晓峰 王新昌 李新建 《郑州大学学报(理学版)》 CAS 北大核心 2012年第2期56-61,共6页
通过选择性腐蚀ZnO纳米棒,在p型Si衬底上低温合成了ZnO纳米管阵列,构成ZnO纳米管阵列/p-Si异质结构(n-ZnONT/p-Si).ZnO纳米管阵列光致发光谱显示,在378 nm处出现了很强的紫外发射峰,而在500 nm左右有一个较宽的绿色发光峰,表明ZnO纳米... 通过选择性腐蚀ZnO纳米棒,在p型Si衬底上低温合成了ZnO纳米管阵列,构成ZnO纳米管阵列/p-Si异质结构(n-ZnONT/p-Si).ZnO纳米管阵列光致发光谱显示,在378 nm处出现了很强的紫外发射峰,而在500 nm左右有一个较宽的绿色发光峰,表明ZnO纳米管具有较好的结晶性.电流-电压曲线显示,n-ZnONT/p-Si异质结构在光暗两种条件下都表现出了较好的整流特性.在紫外光照射下,反向偏压区电流出现了较大的变化,反映出n-ZnONT/p-Si异质结构有较强的紫外光响应,有望成为潜在的紫外光探测器件. 展开更多
关键词 zno纳米管阵列 n-znonT/p-si异质结构 光致发光 电流-电压曲线
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Comparative study of the electrical properties of Au/n-Si(MS) and Au/Si_3N_4 /n-Si(MIS) Schottky diodes
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作者 Adem Tataroglu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第6期627-632,共6页
In this paper, the electrical parameters of Au/n-Si (MS) and Au/Si3N4/n-Si (MIS) Schottky diodes are obtained from the forward bias current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) measurements at room temp... In this paper, the electrical parameters of Au/n-Si (MS) and Au/Si3N4/n-Si (MIS) Schottky diodes are obtained from the forward bias current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) measurements at room temperature. Experimental results show that the rectifying ratios of the MS and MIS diodes at ± 5 V are found to be 1.25 ×103 and 1.27 ×104, respectively. The main electrical parameters of the MS and MIS diodes, such as the zero-bias barrier height (rbBo) and ideality factor (n), are calculated to be 0.51 eV (I-V), 0.53 eV (C-V), and 4.43, and 0.65 eV (I-V), 0.70 eV (C-V), and 3.44, respectively. In addition, the energy density distribution profile of the interface states (Nss) is obtained from the forward bias I-V, and the series resistance (Rs) values for the two diodes are calculated from Cheung's method and Ohm's law. 展开更多
关键词 au/n-si and au/si3n4/n-si type diodes I-V and C-V measurements ideality factor barrier height
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Temperature-dependent dielectric properties of Au/Si_3N_4/n-Si (metal insulator semiconductor) structures
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作者 T.Ataseven A.Tataroglu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第11期541-546,共6页
The dielectric properties of Au/Si3N4/n-Si (MIS) structures are studied using the admittance measurements (C–V and G/ω–V) each as a function of temperature in a range from 80 K to 400 K for two frequencies (10... The dielectric properties of Au/Si3N4/n-Si (MIS) structures are studied using the admittance measurements (C–V and G/ω–V) each as a function of temperature in a range from 80 K to 400 K for two frequencies (100 kHz and 1 MHz). Experimental results show that both the dielectric constant (ε’) and the dielectric loss (ε") increase with temperature increasing and decrease with frequency increasing. The measurements also show that the ac conductivity (σac) increases with temperature and frequency increasing. The lnσac versus 1000/T plot shows two linear regions with different slopes which correspond to low (120 K–240 K) and high (280 K–400 K) temperature ranges for the two frequencies. It is found that activation energy increases with frequency and temperature increasing. 展开更多
关键词 au/si3n4/n-si (metal-insulator-semiconductor) structure admittance measurements dielectricproperties ac conductivity
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硼离子掺杂类金刚石薄膜及 C(B)/n-Si 异质结光伏特性 被引量:2
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作者 周之斌 杜先智 +2 位作者 张亚增 杨峰 崔容强 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期197-200,共4页
采用直流弧光放电等离子PCVD法,沉积获得硼掺杂类金刚石薄膜,该材料p型半导体,电阻率5—10Ωcm。俄歇(Auger)电子能谱测试表明,硼离子含量为0.8%,由扫描电镜(SEM)和激光喇曼(Raman)谱分析可知,... 采用直流弧光放电等离子PCVD法,沉积获得硼掺杂类金刚石薄膜,该材料p型半导体,电阻率5—10Ωcm。俄歇(Auger)电子能谱测试表明,硼离子含量为0.8%,由扫描电镜(SEM)和激光喇曼(Raman)谱分析可知,薄膜以非晶为主,观察到许多线径为0.5—1.0μm的金刚石结晶微粒。制备成Au/C(B)/n-Si异质结,其开路电压Voc=580mV,短路电流密度为650μAcm-2,获得暗I-V整流特性和光照I-V工作曲线。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 异质结 光伏特性
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N掺杂ZnO薄膜的接触特性 被引量:1
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作者 单正平 顾书林 +6 位作者 朱顺明 刘伟 刘少波 刘雪冬 汤琨 张荣 郑有炓 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期503-507,共5页
氧化锌(ZnO)是一种直接带隙半导体材料,室温下带隙为3.37eV,激子束缚能为60meV。ZnO因其优越的光电特性在高亮度蓝紫光发光器件、紫外探测器件和短波长激子型激光器等方面具有广阔的应用前景。而要实现大功率的光电器件,稳定可靠的欧姆... 氧化锌(ZnO)是一种直接带隙半导体材料,室温下带隙为3.37eV,激子束缚能为60meV。ZnO因其优越的光电特性在高亮度蓝紫光发光器件、紫外探测器件和短波长激子型激光器等方面具有广阔的应用前景。而要实现大功率的光电器件,稳定可靠的欧姆接触是必需的。研究了氮气氛条件下,不同温度快速退火对氮掺杂ZnO样品的电学性质以及Ni/Au与其接触特性的影响。原生样品表现为弱的肖特基接触,适当温度退火后,由肖特基转成了欧姆接触,650℃退火后得到最小比接触电阻率8×10-4Ω·cm2。霍尔测量表明550℃快速退火后,样品的导电类型由p型转变成了n型。采用AES和GXRD分别研究了不同退火温度下Au、Ni、Zn、O的深度分布变化及退火后所生成的合金相。实验结果表明,退火所导致的薄膜电学性质的变化以及界面态和表面态的增加是接触特性变化的原因。 展开更多
关键词 n掺杂zno nI/au 快速退火 欧姆接触
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Au/HZSM-5催化剂上Si-O(H)-Au的酸性和脱氢性能研究 被引量:4
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作者 高希然 迪丽努尔 +1 位作者 方亚平 艾沙·努拉洪 《分子催化》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期226-234,I0001,共10页
以尿素为沉淀剂,采用负压沉积沉淀法将Au负载于不同载体,分别制备了Au/HZSM-5、 Au/SiO_(2)及Au/Al2O3催化剂.采用X射线粉末衍射、透射电镜、 NH_(3)-程序升温脱附、红外羟基和原位吸附吡啶红外羟基等技术对催化剂进行了表征,探究了Au... 以尿素为沉淀剂,采用负压沉积沉淀法将Au负载于不同载体,分别制备了Au/HZSM-5、 Au/SiO_(2)及Au/Al2O3催化剂.采用X射线粉末衍射、透射电镜、 NH_(3)-程序升温脱附、红外羟基和原位吸附吡啶红外羟基等技术对催化剂进行了表征,探究了Au对不同载体的作用,并用脉冲微反装置评价了催化剂对正丁烷脱氢反应的性能.结果表明,相较于其他载金催化剂, Au/HZSM-5酸性较强, Au与HZSM-5相互作用后会形成Si-O(H)-Au基团,该活性相对正丁烷脱氢起到一定的促进作用. 展开更多
关键词 au/HZSM-5 负压沉积沉淀法 si-O(H)-au基团 脱氢性能 正丁烷
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n-ZnO/p-Si紫外至近红外增强型广谱光探测器 被引量:4
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作者 朱慧群 丁瑞钦 +2 位作者 庞锐 麦开强 吴劲辉 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1173-1175,共3页
采用直流反应溅射法,在一定的溅射功率和衬底温度等条件下控制气体组分,优选Ar:O2—8:1成功研制出高响应度n-ZnO/p-Si紫外至近红外增强型广谱光探测器。实验关键是利用缺O法在n-ZnO薄膜内有效引入O缺位Vo,而Vo可增强紫蓝波段的光... 采用直流反应溅射法,在一定的溅射功率和衬底温度等条件下控制气体组分,优选Ar:O2—8:1成功研制出高响应度n-ZnO/p-Si紫外至近红外增强型广谱光探测器。实验关键是利用缺O法在n-ZnO薄膜内有效引入O缺位Vo,而Vo可增强紫蓝波段的光响应。测试结果显示,ZnO薄膜的光致发光(PL)谱除在388nm处存在紫外带边发射主峰外,还在416nm处出现由O缺位导致的发射峰;X射线衍射(XRD)谱表明,薄膜中的晶体为高C轴取向的纤锌矿结构;n-ZnO/p-Si光探测器在光照时Ⅰ-Ⅴ特性显示,光电流随反向偏压的增加迅速上升;在5V的反向偏压下,紫外区(310-388nm)的光响应高达0.75~1.38A/W,紫蓝光区(400-430nm)的光响应大大增强,400-800nm波段的光谱响应稳定在0.90A/W。 展开更多
关键词 直流反应溅射 n-zno/p-si异质结 光探测器 光响应
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LP-MOCVD法制作n-ZnO/p-Si异质结及其电致发光研究 被引量:3
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作者 李香萍 张宝林 +3 位作者 申人升 张源涛 董鑫 夏晓川 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期601-604,共4页
采用低压-金属有机化学气相沉积法(LP-MOCVD)在(100)p-Si衬底上制备未掺杂n型ZnO薄膜,并制作了相应的n-ZnO/p-Si异质结器件。通过X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)光谱和霍尔测试分别研究了所制备薄膜的结构、光学和电学特性,得到具有较高... 采用低压-金属有机化学气相沉积法(LP-MOCVD)在(100)p-Si衬底上制备未掺杂n型ZnO薄膜,并制作了相应的n-ZnO/p-Si异质结器件。通过X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)光谱和霍尔测试分别研究了所制备薄膜的结构、光学和电学特性,得到具有较高质量的n型ZnO薄膜。在室温条件下,测得了该类异质结器件正向注入电流下可见光和近红外区域的电致发光(EL)。 展开更多
关键词 zno薄膜 n-zno/p-si 异质结 金属有机化学气相沉积(MOCVD) 电致发光(EL)
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Ag/Au与n-ZnO的欧姆接触特性的研究 被引量:1
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作者 邓叶 王晓东 +4 位作者 朱彦旭 曹伟伟 刘飞飞 杜志娟 于宁 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期1511-1515,共5页
为了更好实现ZnO材料在光电器件方面的应用,研究了Ag/Au和n-ZnO薄膜的欧姆接触。通过半导体特性分析系统测出欧姆接触的I-V特性曲线和采用挖补圆盘法测试了欧姆接触的接触电阻率,研究了退火温度对接触特性的影响。利用俄歇电子能谱(AES... 为了更好实现ZnO材料在光电器件方面的应用,研究了Ag/Au和n-ZnO薄膜的欧姆接触。通过半导体特性分析系统测出欧姆接触的I-V特性曲线和采用挖补圆盘法测试了欧姆接触的接触电阻率,研究了退火温度对接触特性的影响。利用俄歇电子能谱(AES)研究了欧姆接触的微观结构,比较了不同的金属电极的反射特性。结果表明,Ag(50nm)/Au(100nm)和n-ZnO薄膜的欧姆接触在退火温度为500℃时最好,欧姆接触电阻率仅为5.2×10-4Ω·cm-2,且其反射特性比其它金属电极好。 展开更多
关键词 AG au n-zno 欧姆接触
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ZnO/n-Si异质结的I-V、C-V特性研究
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作者 熊超 肖进 +6 位作者 丁丽华 陈磊 袁洪春 徐安成 周详才 朱锡芳 潘雪涛 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期443-448,共6页
本文通过磁控溅射Al掺杂的ZnO陶瓷靶,在n-Si片上沉积n型电导的ZnO薄膜而制备的ZnO/n-Si异质结,并通过测试其光照下的I-V、C-V特性对其光电特性以及载流子输运特性与导电机理进行了研究。研究表明ZnO/n-Si异质结存在良好的整流特性与光... 本文通过磁控溅射Al掺杂的ZnO陶瓷靶,在n-Si片上沉积n型电导的ZnO薄膜而制备的ZnO/n-Si异质结,并通过测试其光照下的I-V、C-V特性对其光电特性以及载流子输运特性与导电机理进行了研究。研究表明ZnO/n-Si异质结存在良好的整流特性与光电响应,可以广泛应用在光电探测和太阳能电池等领域。由于在ZnO/n-Si异质结界面处的导带补偿与价带补偿相差太大的缘故,在正向电压超过0.8 V时,导电机理为空间电荷限制电流导电。同时研究表明ZnO/n-Si异质结界面存在大量界面态,可以通过减小界面态可以进一步提高其光电特性。 展开更多
关键词 zno nsi异质结 I—V特性 C—V特性 内建电势 界面态
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