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CuPc修饰Au丝微电极对O_2的敏感特性研究
被引量:
1
1
作者
孙宇峰
黄行九
+2 位作者
刘伟
孟凡利
刘锦淮
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
2004年第6期48-50,共3页
介绍了合成酞菁铜(CuPc)及通过电化学聚合将其以PolyCuPc的形式固定在Au丝微电极的表面,制作高分子聚合物类化学修饰电极的方法。比较了空白电极及修饰电极对O2的敏感特性差异,讨论了PolyCuPc对O2的催化机理和浓度响应关系。通过实验发...
介绍了合成酞菁铜(CuPc)及通过电化学聚合将其以PolyCuPc的形式固定在Au丝微电极的表面,制作高分子聚合物类化学修饰电极的方法。比较了空白电极及修饰电极对O2的敏感特性差异,讨论了PolyCuPc对O2的催化机理和浓度响应关系。通过实验发现:对电极的活化处理可以使O2在电极上反应的"杂峰"减少甚至消失,并使反应的基底电流趋于平坦。
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关键词
酞菁铜
au丝微电极
气敏特性
活化处理
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职称材料
题名
CuPc修饰Au丝微电极对O_2的敏感特性研究
被引量:
1
1
作者
孙宇峰
黄行九
刘伟
孟凡利
刘锦淮
机构
安徽工程科技学院机械系
中科院合肥智能机械研究所
出处
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
2004年第6期48-50,共3页
文摘
介绍了合成酞菁铜(CuPc)及通过电化学聚合将其以PolyCuPc的形式固定在Au丝微电极的表面,制作高分子聚合物类化学修饰电极的方法。比较了空白电极及修饰电极对O2的敏感特性差异,讨论了PolyCuPc对O2的催化机理和浓度响应关系。通过实验发现:对电极的活化处理可以使O2在电极上反应的"杂峰"减少甚至消失,并使反应的基底电流趋于平坦。
关键词
酞菁铜
au丝微电极
气敏特性
活化处理
Keywords
Cu-phthalocyanine
au
-Microelectrode
Gas Sensitivity Characteristic
Activate Transact
分类号
O63 [理学—高分子化学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
CuPc修饰Au丝微电极对O_2的敏感特性研究
孙宇峰
黄行九
刘伟
孟凡利
刘锦淮
《仪表技术与传感器》
CSCD
北大核心
2004
1
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