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CuPc修饰Au丝微电极对O_2的敏感特性研究 被引量:1
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作者 孙宇峰 黄行九 +2 位作者 刘伟 孟凡利 刘锦淮 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2004年第6期48-50,共3页
介绍了合成酞菁铜(CuPc)及通过电化学聚合将其以PolyCuPc的形式固定在Au丝微电极的表面,制作高分子聚合物类化学修饰电极的方法。比较了空白电极及修饰电极对O2的敏感特性差异,讨论了PolyCuPc对O2的催化机理和浓度响应关系。通过实验发... 介绍了合成酞菁铜(CuPc)及通过电化学聚合将其以PolyCuPc的形式固定在Au丝微电极的表面,制作高分子聚合物类化学修饰电极的方法。比较了空白电极及修饰电极对O2的敏感特性差异,讨论了PolyCuPc对O2的催化机理和浓度响应关系。通过实验发现:对电极的活化处理可以使O2在电极上反应的"杂峰"减少甚至消失,并使反应的基底电流趋于平坦。 展开更多
关键词 酞菁铜 au丝微电极 气敏特性 活化处理
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