基于系统回归模型的真空镀膜设备液冷加热盘设计方法研究

晶圆加热盘的设计有两大核心性能指标:工作面温度均匀性和控温能力,晶圆加热盘在设计定型前需要经过多次仿真迭代与测试验证,以确定产品性能满足设计需求。本研究基于有限元计算与系统回归模型,精准预测加热器实际所需长度、功率密度以及对应排布方案,以温度均匀性为优化目标,获取最优设计方案。经不同方案验证,该模型的精度在98%以上,可显著提升加热盘设计效率,为人工智能在加热盘设计领域的应用提供可能性。此外,基于传热学理论,提出了一种加热盘控温能力的设计方法,通过一维计算的方式,为加热盘控温能力的优化设计起到了指导作用。

以太网通信技术在真空断路器合闸自动控制中的应用

随着自动化技术的发展,真空断路器的合闸控制日益依赖于高效、可靠的通信技术。以太网通信技术具有高速传输数据的能力和广泛的兼容性,为真空断路器的自动控制提供了一个有效的解决方案。文章系统探讨以太网通信技术在真空断路器合闸自动控制中的应用,包括自动控制架构的设计、数据传输的效率、系统响应的优化、网络管理和故障诊断机制的建立以及控制策略的实现。通过技术应用测试,验证了以太网技术在提高真空断路器自动控制系统操作效率和可靠性方面的有效性。

基于真空永磁的变压器干式有载分接开关研究

变压器的输出电压由分接开关来控制,通过改变变压器绕组抽头与分接开关的连接来改变绕组的匝数比,实现对变压器输出电压的控制。在直流输电中,有载调压开关尺寸大、价格相对昂贵的特点限制了有载调压方式的应用。针对传统有载分接开关体积大、操作复杂的不足,采用永磁直动型真空有载开关能更好地减小体积并降低成本,且由于直流输电电压电流没有零点,所以相较于交流输电会产生更大的弧光反应。因此文章研制了一种干式真空永磁有载分接开关,实现了负载电流和级间环流全部在真空灭弧室内切换,有效避免了机构失调运行引起的分接间弧光短路事故,实现了对直流系统电压的分级调整与优化处理,减少了换流变压器侧电压变化对整个直流系统造成的不利影响,提高了直流输电系统的运行稳定性及经济效益。

可编程序控制器在建筑玻璃真空镀膜生产上的应用

本文简要地介绍了Ｓ５－１１５Ｕ可编程序控制器操作系统的结构、原理、特点及它在建筑玻璃真空镀膜生产线上的应用，系统组成，程序编制和在应用中注意的问题。

ZDG-160 食品真空冷冻干燥设备

介绍了ZDG－160食品真空冷冻干燥设备及其自动控制系统。该设备可用于生产果蔬、肉类、海产品等食品，营养保健品、中草药等的冻干产品。该设备系统设计合理紧凑、操作简单、运行可靠、自动化程度高、工艺先进、节能显著。

几种热控涂层的真空-紫外辐照试验

无机热控涂层是航天器常用的一类热控涂层。文章采用上海硅酸盐研究所研制的真空-紫外辐照装置,选用合适的加速倍率,对国内几种常用的热控涂层进行了10 000 ESH以上的辐照试验,原位测量了各阶段试验样品的太阳吸收比,获得了这些热控涂层的太阳吸收比变化曲线,验证了热控涂层的"漂白效应"。相关研究结果可以为热控制专家进行热设计时提供参考。

程控式真空规校准装置

程控式真空规校准装置主要用于日常对工作用真空规的校准。它采用动态直接比对法、静态膨胀法和静态直接比对法等三种方法可以对１×１０５～５×１０－４Ｐａ范围内的真空规进行校准。采用可编程控制器对校准全过程实行自动控制，并具有保护、报警、语音提示等功能，提高了工作效率和安全可靠性，避免了由于误操作或真空系统故障造成的经济损失。

包覆燃料颗粒制备的自动化控制系统设计与研制

针对高温气冷堆包覆燃料颗粒生产逐渐规模化大批量发展的趋势,原制备工艺的手动控制体系已不能适应,需发展现代化工业级别的包覆燃料颗粒制备自动化控制系统。针对TRISO型包覆燃料颗粒4层连续包覆工艺进行分析,将包覆炉系统划分为5个子系统,将整个包覆过程分解为9个操作状态,提出建立分布式控制系统(DCS)自动化控制系统的思路。根据对包覆颗粒制备工艺的严格要求提出了控制系统设计原则,包括连锁控制、安全可靠、集成规范、实用易用、开放和易更新原则,并在具体建设过程中实现了这些原则要求,建立起一套完整的包覆燃料颗粒制备工艺自动化控制系统。该系统在我国高温气冷堆示范工程项目辐照样品的生产中投入运行,经实践检验,证明该系统可较好地实现包覆燃料颗粒制备工艺控制,满足工厂规模的生产要求。

自动真空熔压设备的研制

研制了一种用于生产光学纤维面板的真空熔压设备,介绍了该三工位熔压设备的结构、工艺流程及性能指标。该设备由一台移动式压机、三台真空加热炉、液压压下控制系统、水冷系统以及相应的电气控制和数据存储输出等几部分组成。设备控制精度和重复精度高,实现了光学纤维面板的全自动熔压过程。

真空环境对防静电热控涂层导电性能的影响

文章通过试验研究了近紫外辐照前后的真空环境对防静电热控涂层的电学性能影响,探讨了真空环境对防静电热控涂层电学性能影响的机理,给出了地面模拟试验过程中关于数据分析的建议。研究发现:真空环境将引起防静电热控涂层的表面电阻率降低、导电性能增强,而氧空位的增加和吸附氧的释放则是其表面电阻率降低的主要原因。

现代真空镀膜机电气控制系统的设计与实现

真空镀膜机是在真空条件下制备薄膜于基体表面的设备。论述了真空镀膜机的发展趋势和总体构成。结合镀膜工艺流程,对电气控制系统软、硬件结构进行了论证分析和相应的设计。同时介绍了PLC的选型,最终实现了以欧姆龙PLC为核心的现代真空镀膜机控制系统。该电气控制系统具有手动/自动控制、故障报警等功能。系统经过了实验室和现场的两步调试,解决了潜在问题。最终生产实践证实了该系统的可行性,实现了工艺要求,满足了客户需求。

液体轨控发动机真空矢量推力现场校准影响因素分析

针对高空模拟试验受现场多种因素影响,常规矢量推力校准方法校准系数偏差过大的问题,建立了一套矢量推力现场校准系统,通过对发动机热辐射、试验管路及线缆固定安装、管路增压、真空环境及环境振动对矢量推力现场校准影响的分析,提出了一种矢量推力的远程自动现场校准方法,并进行了试验验证。结果表明:该校准方法可有效提高矢量推力测量精度,解决了真空试验环境下矢量推力精确校准的问题。

LGJ—80型冷冻干燥机电子控制系统的研制

介绍了LGJ—80型冷冻干燥机电子控制系统。包括系统组成、硬件系统及软件系统。重点解决了目前国内实验室中试用的中型冻干机上未见的全程自动控制及真空度自动调节功能,并很好地解决了抗干扰问题。

航空制造涂装机器人研究进展

航空大型零部件的自动化涂装集机械、电子、控制、传感器及软硬件系统等技术为一体,是实现航空大型零部件自动化喷涂的关键制造工艺,也是我国争夺国际大飞机市场急需攻克的核心技术之一。总结了涂装机器人的研究现状,介绍了涂装机器人的最新进展,归纳了行业发展中面临的主要问题,探讨了未来机器人的发展趋势。

冷轧HC轧机乳化液系统改造及应用

为提高乳化液的洁净度,进一步提升HC轧机产品的表面质量和板形,对现有乳化液系统进行技术改造,引入了真空带式过滤机和自动反冲洗装置。同时,采用IFIX组态软件的人机界面对现场过程提供了更有效的控制手段。

真空纸浆模塑机自动控制系统研究

阐述了 DZJ- A型全自动纸浆模塑成型机生产工艺中的控制原理及 PL C全自动控制系统的设计方法。并对用FX2 N- 80型 PL C实现工艺流程的程序控制、工艺过程中的温度、机构运动位置、工序时间等工艺参数的计量与控制 ,进行了分析研究。给出了使用 FX2 N- 80型 PL C实现监测控制的程序控制流程图。

变压器油溶解气体分离系统的改进

为了提高变压器油色谱在线监测系统测试结果的可靠性,针对油气分离和混合气体分离装置存在的问题,研制出1种改进装置。该装置主要包括真空脱气系统和自动进样系统2部分,其涉及温度控制和电磁阀控制。试验结果表明,所研制的装置对变压器油色谱在线监测具有很好的辅助作用,真空脱气系统脱气时间短,20 min油气分离即可达到饱和状态,且体积小(100 mm×100 mm×100 mm);混合气体分离效率高,20 min内混合气体分离率可达97.3%,并能快速分离出CH4、C2H6、C2H4、C2H2、H2、CO等多种故障特征气体。2011年6月,该装置已成功投运于高速铁路客运专线牵引变电所,工作状态始终稳定,能够很好满足现场测试需要。

大面积反应溅射技术的最新进展及应用

磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题 ) ,所以它不适宜于在介质膜工业生产中应用。本文介绍了一种新的中频 (MF)电源供电的孪生靶磁控溅射。采用这种技术并结合智能化的工艺控制系统 (IPCS)特别对于反应沉积化合物镀层开辟了许多新的机遇 ,它能够在长期内获得高的沉积速率并处于稳定的镀膜状态。因此 ,大面积镀膜在建筑玻璃、汽车玻璃和显示器方面的应用就有了明显的进展并具有广阔的前景。

基于光纤通讯的真空镀膜控制系统

本文针对镀膜的特殊要求,通过分析传统控制方式的不足,提出了新型的控制方式,即光纤通讯。以成都普斯特真空镀膜控制系统为例,介绍了该系统的软硬件配置,工作原理,主要控制功能,应用效果以及光纤通讯在该系统中的应用。

有机薄膜器件的镀膜自动控制系统设计

设计了用于有机薄膜器件的镀膜自动控制系统;整个自动控制系统以单片机为核心,可分为3个功能模块:人机交互、强弱电转换、样品处理。人机交互由单片机来实现;强弱电转换由固体继电器来完成;样品处理包括镀膜速率自动控制和样品保护两个部分。控制系统体现了弱电控制强电的设计思路,系统采用了单片机、继电器、电磁阀和可调变阻器等器件以及程控可调电阻电路。所设计的控制系统能克服目前有机薄膜器件镀膜系统的一些弊端,实现镀膜和镀膜速率的自动控制,并且能够避免有机半导体材料在真空腔内的相互污染。