热敏BARC显影工艺时长影响因素研究

热敏BARC(Bottom Anti-reflective Coating)是一种新型BARC光刻胶,不仅可以作为抗反射层,具有预防驻波效应的作用,还可以与其他PR或PI光刻胶配合进行显影工艺。通过实验探究热敏BARC光刻胶的显影工艺时长影响因素,尤其是匀胶后热盘烘烤条件变化,对其图形化工艺显影过程消耗时长的影响。实验结果显示:软烘热盘的工艺烘烤温度变化、软烘热盘的腔体中的气流场变化都可以影响热敏BARC光刻胶的显影工艺消耗时间长短。

BARC工艺在亚微米光刻中的应用

在表面强反射膜-多晶硅上进行亚微米光刻时,采用有机BARC(BottomAnti-ReflectiveCoating)工艺,降低了晶片表面的台阶高度,并有效地抑制了驻波效应,获得良好的光刻图形,从而使产品良率提高了6%～7%。

减少底部抗反射涂层(BARC)的缺陷:对优化与分离过滤过程和打胶过程的研究

半导体器件制造业是当今世界上最清洁的制造业之一。在当今最先进的晶圆厂当中,所有的物质都被过滤到最小的粒径。这种做法对气体来说是相当容易的,但是过滤液体时相对较难,特别是光化学物质,如底部抗反射涂层(BARC),过滤器可能会出现堵塞、过滤速率下降的问题,进而导致通过过滤器的压降增加,或者过滤器退化。论文采用三种不同的底部抗反射涂层,基于泵中的不同粒径的过滤介质,并分别采用不同的速率,研究打胶过程和过滤过程的相互作用。

益气止血方治疗PCI术后消化道出血的疗效研究

目的观察基于BARC评分的中药益气止血方治疗经皮冠状动脉介入术后消化道出血的临床疗效、中医证候评分、BARC评分变化。方法收集符合纳入标准的PCI术后消化道出血患者90例,随机分为试验组与对照组各45例,对照组予西医常规治疗,试验组在对照组基础上加用中药益气止血方治疗,两组疗程均为7 d。以BARC评分、止血时间、中医气虚证候评分为观察指标进行疗效评估。结果试验组平均止血时间明显短于对照组,差异具有统计学意义(P<0.05)。中医气虚证候评分方面,治疗第3天、第7天、第30天,试验组气短、神疲、乏力、自汗、懒言及气虚证总分均显著优于对照组,差异具有统计学意义(P<0.05)。治疗第1天两组BARC评分比较无统计学差异(P>0.05)。治疗第7天两组BARC评分差异无统计学意义(P>0.05),但试验组呈现下降趋势。结论中药益气止血方治疗PCI术后消化道出血疗效确切,可明显缩短止血时间,增强止血效果,改善中医气虚证候,缓解临床症状,值得临床推广使用;BARC评分可作为判定中药治疗PCI术后消化道出血临床疗效的可靠指标。

大面积高分辨率光刻技术研究

以NSR1755i7A型投影曝光机为基础,分析了影响大面积精细光刻图形分辨率的主要因素。利用表面平坦化技术、BARC工艺技术和PEB工艺技术,解决了高分辨率和聚焦深度的矛盾,消除了曝光过程中出现的表面反射和因驻波造成曝光图形边缘罗纹状的现象,实现了大面积(17.5mm×17.5mm)、高长宽比(160)、高密集(占空比36%)、高分辨率亚微米(0.5μm)精细线条光刻。同时提出了采用两次曝光技术在NSR1755i7A型投影曝光机上实现了厚胶高分辨率图形的制作。

贵阳某深基坑土钉支护设计研究

分析了深基坑土钉支护的工作原理,归纳了土钉支护技术的优点,通过具体工程实例,详细地介绍了土钉支护的设计和施工积累的深基坑土钉支护施工经验,指出深基坑土钉支护技术是一种可行的、经济效益可观的技术。

现代计算机印前制版技术在遥感图像印制中的应用研究——以《长江经济带可持续发展地图集》为例

利用现代计算机印前制版技术开展遥感图像印制中的应用研究。通过 Barco系统软件功能很好反映遥感图像的信息特征 ,达到了遥感图像在制版印刷中整体性、统一性、实用性。

比伐卢定在高龄患者介入治疗中的临床研究

目的：比较年龄≥75岁的高龄患者在经皮冠状动脉介入治疗中分别接受比伐卢定和普通肝素的疗效及安全性。方法选取2013年10月～2014年12月就诊于我院心内科，符合纳入、排除标准的66例患者作为研究对象，并随机分为观察组（29例）与对照组（37例）。术前给予双联抗血小板药物治疗，观察组与对照组在PCI术中分别给予比伐卢定和普通肝素抗凝，根据术中病情需要，糖蛋白GP IIb／IIIa受体拮抗剂在两组术中紧急加用。术后7d，观察两组BARC出血情况、早期支架内血栓形成（ST）及30d MACCE的发生率。结果观察组与对照组术后7d BARC出血对照差异有显著性（P＜0．05）；观察组与对照组早期支架内血栓形成比例差异有显著性（P＜0．05）；观察组与对照组30d MACCE差异无显著性（P＞0．05）。结论在高龄急性冠状动脉综合征（ ACS）患者介入治疗中，比伐卢定较普通肝素可以降低出血风险，但早期ST风险增高。

“城市翻修”教学系列报告(七):曹妃甸新城概念性城市设计

本文介绍了清华大学研究生建筑设计课程"曹妃甸新城概念性城市设计",包括教学计划、教学重点及教学启示等内容。

不同衬底材料对光刻胶剖面的影响

文章研究了在127 mm硅片上分别生长金属铝和二氧化硅氮化硅叠两种IC常用材料作为衬底对光刻胶形貌的影响,其造成光刻胶形貌差的原因是金属底部反射率高导致光刻胶侧面曝光和入射光通过二氧化硅氮化硅叠层厚度的光程差正好为光源波长的整数倍,从而导致光刻胶底部干涉光同相位。通过增加底部抗反射层和调整最佳膜层厚度解决了在这两种衬底材料下光刻胶形貌差的问题。

椭圆形内撑在软土地基中的应用

结合实际工程,介绍了椭圆形内撑在软土地基基坑中的应用。通过监测椭圆形内撑的位移和立柱的沉降验证了计算模型的正确性,保证了施工的顺利进行,供类似工程参考。

导管架过渡段数值分析

为降低海上风机导管架基础重量,通过SACS有限元软件对斜撑式过渡段导管架、箱梁式过渡段导管架进行对比,分析两种导管架的杆件强度、泥面变形和承载力。提出一种改进的翼缘式过渡段,在极限载荷下,相对前两种过渡段结构而言,翼缘式过渡段结构应力小、重量轻。研究内容为导管架过渡段结构设计提供参考。

用于注入层用途的湿法显影有机抗反射涂层(英文)

底部抗反射涂层(BARCs)和光刻胶已被广泛地用于半导体制造中的光刻加工工艺中。BARCs在光刻中的主要好处就是聚焦?曝光宽容度的改善,提高了关键尺寸的控制,消除了反射凹口,防止远紫外抗蚀剂由基底毒化。过去,BARCs主要被用于关键图层,例如栅和接触孔图层。但是随着集成电路特征尺寸的不断缩小,BARCs在注入层中的应用中由于基片表面形态引起的反射缺口和关键尺寸变化容差也变得更小,从而使BARCs的使用变得更为迫切。我们已成功开发了专门为注入层用途的湿法显影抗反射涂层。传统的干法刻蚀不适合用于注入层,因为它的工艺复杂而且在刻蚀过程中可能导致基片损坏。评述了产生注入光刻图层的工艺并讨论了湿法显影式抗反射涂层的设计标准和要求,同时还将讨论用于注入层光刻的湿法显影抗反射图层及其工艺的挑战。

高数值孔径光刻成像中双层底层抗反膜的优化

在高数值孔径光学光刻中,成像光入射角分布在较大范围内,传统的单底层抗反膜不足以控制抗蚀剂-衬底界面反射率(衬底反射率)。考虑照明光源形状以及掩模的影响,提出了一种新的双层底层抗反膜优化方法,依据各级衍射光光强求衬底反射率的最小权重平均值来配置膜层。针对传统掩模、衰减相移掩模以及交替相移掩模的情况,用该方法优化双层底层抗反膜。结果表明,如果成像时进入物镜光瞳的高阶光越多,高阶光光强越大,则掩模对底层抗反膜优化的影响越大。在某些成像条件下,如使用交替相移掩模实现成像,有必要在底层抗反膜优化中考虑掩模的影响。