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基于B-Ge光纤Bragg光栅紫外曝光修整的研究
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作者 赵志勇 于永森 +3 位作者 卓仲畅 张健 郑伟 张玉书 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期321-323,共3页
 制作了基于B Ge光纤的Bragg光栅,并且提出对光栅进行紫外曝光修整的处理方法。这种方法对光栅的中心波长、光谱形状、边模抑制比具有较好的永久性的修整作用。另外,对B Ge光纤的光敏机理和光栅紫外曝光修整机理做了初步研究。
关键词 bge光纤 BRAGG光栅 紫外曝光
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