多种β射线阻挡层及X射线产额精度对BIXS技术的影响

氚分析在聚变堆与核技术的研究中有着广泛的应用。BIXS技术(β衰变诱发X射线谱技术)是一项无损的氚分析技术,该技术的分析深度对于高原子序数的材料能达到100μm,对低原子序数的材料能达到1 mm。在BIXS技术中,采用金属薄膜作为β射线阻挡层具有排除极化韧致辐射干扰、减少探测器信号堆积等优点。为了研究多种β射线阻挡层材料对BIXS技术的影响,利用Monte Carlo方法 PENELOPE并行模拟程序分别模拟了采用Al、Au金属薄膜和Ar气作为β射线阻挡层的BIXS技术,并使用GENEREG反演程序对模拟结果进行反演计算及比较。还讨论了韧致辐射与特征X射线产额计算精度、韧致辐射谱倾斜对BIXS技术的影响。研究表明Al金属薄膜最适合用作BIXS技术的β射线阻挡层。