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室温下BaWO_4薄膜的电化学制备及其性能表征 被引量:4
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作者 高道江 肖定全 +2 位作者 余萍 赖欣 毕剑 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期18-20,31,共4页
为了研究电化学工艺条件对制备的BaWO4薄膜影响,探讨BaWO_4薄膜的成膜反应机制,采用室温恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的BaWO4晶态薄膜。通过XRD、SEM、XPS技术对制备的BaWO4薄膜进行了表征。结果表明:制备的BaWO4... 为了研究电化学工艺条件对制备的BaWO4薄膜影响,探讨BaWO_4薄膜的成膜反应机制,采用室温恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的BaWO4晶态薄膜。通过XRD、SEM、XPS技术对制备的BaWO4薄膜进行了表征。结果表明:制备的BaWO4薄膜表面均匀致密、为四方单相结构;制备BaWO4薄膜适宜的电化学反应工艺参数为:电流密度1mA/cm2,电解液的pH值为13,电化学处理时间为1h。 展开更多
关键词 bawo4薄膜 电化学制备 室温 表征
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