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室温下BaWO_4薄膜的电化学制备及其性能表征
被引量:
4
1
作者
高道江
肖定全
+2 位作者
余萍
赖欣
毕剑
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期18-20,31,共4页
为了研究电化学工艺条件对制备的BaWO4薄膜影响,探讨BaWO_4薄膜的成膜反应机制,采用室温恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的BaWO4晶态薄膜。通过XRD、SEM、XPS技术对制备的BaWO4薄膜进行了表征。结果表明:制备的BaWO4...
为了研究电化学工艺条件对制备的BaWO4薄膜影响,探讨BaWO_4薄膜的成膜反应机制,采用室温恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的BaWO4晶态薄膜。通过XRD、SEM、XPS技术对制备的BaWO4薄膜进行了表征。结果表明:制备的BaWO4薄膜表面均匀致密、为四方单相结构;制备BaWO4薄膜适宜的电化学反应工艺参数为:电流密度1mA/cm2,电解液的pH值为13,电化学处理时间为1h。
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关键词
bawo4薄膜
电化学制备
室温
表征
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职称材料
题名
室温下BaWO_4薄膜的电化学制备及其性能表征
被引量:
4
1
作者
高道江
肖定全
余萍
赖欣
毕剑
机构
四川师范大学化学学院
四川大学材料科学与工程学院
四川大学材料科学与工程学院
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期18-20,31,共4页
文摘
为了研究电化学工艺条件对制备的BaWO4薄膜影响,探讨BaWO_4薄膜的成膜反应机制,采用室温恒电流电化学方法直接在钨片基体上制备了白钨矿结构的BaWO4晶态薄膜。通过XRD、SEM、XPS技术对制备的BaWO4薄膜进行了表征。结果表明:制备的BaWO4薄膜表面均匀致密、为四方单相结构;制备BaWO4薄膜适宜的电化学反应工艺参数为:电流密度1mA/cm2,电解液的pH值为13,电化学处理时间为1h。
关键词
bawo4薄膜
电化学制备
室温
表征
Keywords
bawo
_(
4
) film
electrochemical preparation
room temperature
characterization
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
O646.542 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
室温下BaWO_4薄膜的电化学制备及其性能表征
高道江
肖定全
余萍
赖欣
毕剑
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2005
4
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职称材料
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