电化学制备Ba_(1-x)Sr_xMoO_4薄膜及其表征

采用恒电流电化学方法于室温条件下在金属钼片上制备白钨矿结构的Ba1-xSrxMoO4晶态薄膜;通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X光电子能谱(XPS)对制备的薄膜进行了分析表征;探讨了Ba1-xSrxMoO4薄膜的成膜机制。结果表明,制备的Ba1-xSrxMoO4表面均匀致密,为四方单相薄膜。适宜的电化学制备工艺条件为电流密度1mA/cm2,电解液的pH为13,电化学处理时间为1h。