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紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚(英文)
1
作者
王乐
刘力宇
+7 位作者
张浩康
樊路嘉
张鲁川
杨勇
黄瑞坤
周昕杰
李栋良
张 平
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期402-406,共5页
在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程...
在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分。文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚。在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin) ,它分别具有50μm和100μm的膜厚。在350 nm时,50μm的薄膜的最大吸收为0 .728 ,而100μm的最大吸收为1 .468 5。而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin)。它的膜厚通常是1 ~5μm。在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403 .8 nm时,5 .93μm厚的薄膜的最大吸收为1 .757 4 ,其膜厚是由扫描电镜测得的。而另一个正胶薄膜在403 .8 nm的最大吸收为0 .982 3 ,其薄膜厚度计算得到为3 .31μm。利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线。
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关键词
紫外可见吸收光谱
beer-lambert's
LAW
光刻胶薄膜厚度
吸收
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职称材料
题名
紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚(英文)
1
作者
王乐
刘力宇
张浩康
樊路嘉
张鲁川
杨勇
黄瑞坤
周昕杰
李栋良
张 平
机构
东南大学集成电路学院
东南大学电子工程系
南京
东南大学化学工程系
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期402-406,共5页
基金
Supported by Southeast University(No .4027001001 ,No .1127000003)
文摘
在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分。文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚。在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin) ,它分别具有50μm和100μm的膜厚。在350 nm时,50μm的薄膜的最大吸收为0 .728 ,而100μm的最大吸收为1 .468 5。而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin)。它的膜厚通常是1 ~5μm。在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403 .8 nm时,5 .93μm厚的薄膜的最大吸收为1 .757 4 ,其膜厚是由扫描电镜测得的。而另一个正胶薄膜在403 .8 nm的最大吸收为0 .982 3 ,其薄膜厚度计算得到为3 .31μm。利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线。
关键词
紫外可见吸收光谱
beer-lambert's
LAW
光刻胶薄膜厚度
吸收
Keywords
UV-vis absorbance spectroscopy
Beer-Lambert's Law
resist film thickness
absorbance
分类号
TN27 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚(英文)
王乐
刘力宇
张浩康
樊路嘉
张鲁川
杨勇
黄瑞坤
周昕杰
李栋良
张 平
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
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