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Nd掺杂Bi_4Ti_3O_(12)铁电单晶的铁电性能、介电性能(英文)
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作者 闫绳贤 叶万能 冯志伟 《青岛大学学报(自然科学版)》 CAS 2018年第3期17-21,共5页
采用助溶剂法使用Bi_2O_3作为助溶剂生长出Bi_4Ti_3O_(12)和Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_3O_(12)单晶。研究了Nd取代对Bi_4Ti_3O_(12)单晶铁电和介电性能的影响。Bi_4Ti_3O_(12)单晶的剩余极化(2Pr)和矫顽场(2Ec)分别约28μC/cm^2和71KV/cm,Bi_(... 采用助溶剂法使用Bi_2O_3作为助溶剂生长出Bi_4Ti_3O_(12)和Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_3O_(12)单晶。研究了Nd取代对Bi_4Ti_3O_(12)单晶铁电和介电性能的影响。Bi_4Ti_3O_(12)单晶的剩余极化(2Pr)和矫顽场(2Ec)分别约28μC/cm^2和71KV/cm,Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_3O_(12)单晶的2Pr和2Ec分别约20μC/cm^2/cm^2和41kV/cm。与Bi_4Ti_3O_(12)单晶相比,Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_3O_(12)单晶具有较低的漏电流约为10^(-8) A/cm^2。Bi_4Ti_3O_(12)单晶介电常数和介电损耗的值分别为73和0.04,Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_3O_(12)单晶的介电常数和介电损耗的值分别为105和0.018。结果表明,Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_3O_(12)单晶的铁电和介电性能均随Nd含量的增加而降低。 展开更多
关键词 bi4ti3o12和bi3.5nd0.5ti3o12单晶 铁电性能 介电性能
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Nd掺杂Bi_4Ti_3O_(12)陶瓷样品的铁电、介电性能
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作者 陆文峰 毛翔宇 陈小兵 《扬州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2005年第4期24-27,共4页
层状钙钛矿铁电体材料Bi4-xNdxTi3O12 (x=0.0~0.9)陶瓷样品适量Nd掺杂可提高Bi4Ti3O12 (BIT)的铁电性能. 当掺杂量为0.6时,样品的剩余极化达到最大值. 样品的相变温度(tc)随掺杂量的增加而降低,当掺杂量大于0.6时, tc下降速率增大. 随... 层状钙钛矿铁电体材料Bi4-xNdxTi3O12 (x=0.0~0.9)陶瓷样品适量Nd掺杂可提高Bi4Ti3O12 (BIT)的铁电性能. 当掺杂量为0.6时,样品的剩余极化达到最大值. 样品的相变温度(tc)随掺杂量的增加而降低,当掺杂量大于0.6时, tc下降速率增大. 随着Nd含量的增加(x>0.6), 样品的弛豫程度明显提高. Nd掺杂降低了样品的氧空位浓度,提高了BIT样品的铁电性能. 展开更多
关键词 bi4ti3o12陶瓷 nd掺杂 剩余极化 介电性能
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Bi_2O_3过量对熔盐法制备Bi_4Ti_3O_(12)粉体的影响 被引量:1
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作者 张昌松 郭晨洁 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期44-46,共3页
以NaCl-KCl熔盐法制备了各向异性的Bi4Ti3O12粉体,研究了w(Bi2O3过量)对粉体的影响,优化了制备Bi4Ti3O12粉体的工艺参数。结果表明:w(Bi2O3过量)为7.5%,1100℃烧结2h所得到的Bi4Ti3O12粉体微观形貌最佳,并探讨了Bi4Ti3O12粉体在熔盐中... 以NaCl-KCl熔盐法制备了各向异性的Bi4Ti3O12粉体,研究了w(Bi2O3过量)对粉体的影响,优化了制备Bi4Ti3O12粉体的工艺参数。结果表明:w(Bi2O3过量)为7.5%,1100℃烧结2h所得到的Bi4Ti3O12粉体微观形貌最佳,并探讨了Bi4Ti3O12粉体在熔盐中的生长机理。 展开更多
关键词 无机非金属材料 无铅压电陶瓷 (Na0.5bi0.5)tio3 bi4ti3o12
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非化学计量Bi_2O_3对制备Bi_4Ti_3O_(12)粉体影响的研究
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作者 张昌松 郭晨洁 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期218-220,共3页
制备晶粒形貌生长各向异性的中间化合物Bi4Ti3O12粉体是采用流延成型和模板晶粒生长(TGG)等工艺方法制备(Na0.5Bi0.5)TiO3基无铅压电织构陶瓷的关键技术.以NaCl-KCl熔盐法制备了生长各向异性的Bi4Ti3O12粉体,利用X射线衍射和扫描... 制备晶粒形貌生长各向异性的中间化合物Bi4Ti3O12粉体是采用流延成型和模板晶粒生长(TGG)等工艺方法制备(Na0.5Bi0.5)TiO3基无铅压电织构陶瓷的关键技术.以NaCl-KCl熔盐法制备了生长各向异性的Bi4Ti3O12粉体,利用X射线衍射和扫描电子显微镜研究了非化学计量Bi2O3对粉体相结构和微观形貌的影响,优化了制备Bi4Ti3O12粉体的工艺参数,并探讨了Bi4Ti3O12粉体在熔盐中的生长机理.研究表明,随着Bi4O3过量程度的增加,所得Bi4Ti3O12粉体颗粒的平均尺寸和均匀程度均增加,当Bi2O3过量7.5%时达到最佳值,其平均粒径为8~10μm. 展开更多
关键词 无铅压电陶瓷 (Na0.5bin5)tio3 bi4ti3o12
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Electrical analysis of inter-growth structured Bi_4Ti_3O_(12)-Na_(0.5)Bi_(4.5)Ti_4O_(15) ceramics 被引量:1
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作者 江向平 江亚林 +3 位作者 江兴安 陈超 涂娜 陈云婧 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第7期386-392,共7页
Inter-growth bismuth layer-structured ferroelectrics(BLSFs), Bi_4Ti_3O_(12)-Na_(0.5)Bi_(4.5)Ti_4O_(15)(BIT-NBT), were successfully synthesized using the traditional solid-state reaction method. X-ray diffr... Inter-growth bismuth layer-structured ferroelectrics(BLSFs), Bi_4Ti_3O_(12)-Na_(0.5)Bi_(4.5)Ti_4O_(15)(BIT-NBT), were successfully synthesized using the traditional solid-state reaction method. X-ray diffraction(XRD) Rietveld refinements were conducted using GSAS software. Good agreement and low residual are obtained. The XRD diffraction peaks can be well indexed into I2 cm space group. The inter-growth structure was further observed in the high-resolution TEM image. Dielectric and impedance properties were measured and systematically analyzed. At the temperature range 763-923 K(below T_c), doubly ionized oxygen vacancies(OVs) are localized and the short-range hopping leads to the relaxation processes with an activation energy of 0.79-1.01 eV. Above T_c, the doubly charged OVs are delocalized and become free ones, which contribute to the long-range dc conduction. The reduction in relaxation species gives rise to a higher relaxation activation energy ~ 1.6 eV. 展开更多
关键词 bi4ti3o12-Na0.5bi4.5ti4o15 impedance spectroscopy oxygen vacancies-related defect dipoles electrical analysis
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Nd掺杂对Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜的微结构和铁电性能的影响 被引量:6
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作者 谭丛兵 钟向丽 +3 位作者 王金斌 廖敏 周益春 潘伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期6084-6089,共6页
利用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了Nd掺杂Bi4Ti3O12(Bi4-xNdxTi3O12,x=0.00,0.30,0.45,0.75,0.85,1.00,1.50)铁电薄膜样品.研究了Nd掺杂对Bi4Ti3O12薄膜的微结构和铁电性能的影响.研究结果表明:Nd掺杂未改变Bi4Ti3O12薄... 利用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了Nd掺杂Bi4Ti3O12(Bi4-xNdxTi3O12,x=0.00,0.30,0.45,0.75,0.85,1.00,1.50)铁电薄膜样品.研究了Nd掺杂对Bi4Ti3O12薄膜的微结构和铁电性能的影响.研究结果表明:Nd掺杂未改变Bi4Ti3O12薄膜的基本晶体结构.在掺杂量x<0.45时,Nd3+只取代类钙钛矿层中的A位Bi3+.当x=0.45时,样品剩余极化强度达最大值,在270kV.cm-1的电场下为32.7μC.cm-2.掺杂量进一步增加时,结构无序度开始明显增大,Nd3+开始进入(Bi2O2)2+层,削弱其绝缘层和空间电荷库的作用,导致材料剩余极化逐渐下降.当掺杂量x达到1.50时,掺杂离子最终破坏(Bi2O2)2+层的结构,材料发生铁电-顺电相变. 展开更多
关键词 nd掺杂 bi4ti3o12 拉曼频移 铁电性能
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LaNiO_3底电极上Bi_4Zr_(0.5)Ti_(2.5)O_(12)薄膜的制备及性能
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作者 郭冬云 李美亚 +6 位作者 刘军 裴玲 于本方 赵兴中 杨斌 王耘波 于军 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2007年第5期667-673,共7页
利用Sol-gel法在p-Si(111)衬底上制备了LaNiO3底电极,再利用Sol-gel法在LaNiO3底电极上制备出Bi4Zr0.5Ti2.5O12(BZT)铁电薄膜,对其微观结构和电学性能进行了研究.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和扫描电镜观测其微观结构,发现制备的BZT... 利用Sol-gel法在p-Si(111)衬底上制备了LaNiO3底电极,再利用Sol-gel法在LaNiO3底电极上制备出Bi4Zr0.5Ti2.5O12(BZT)铁电薄膜,对其微观结构和电学性能进行了研究.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和扫描电镜观测其微观结构,发现制备的BZT薄膜具有单一的钙钛矿晶格结构,并且薄膜表面晶粒尺寸均匀,结晶情况良好.对Pt/BZT/LaNiO3电容结构进行了铁电性能研究,在测试电压为25V时,2Pr和2Vc分别达到28.2μC/cm2和14.7V;经过1×1010次极化反转后,剩余极化值下降了大约13/;室温下,在测试频率1kHz时,薄膜的介电常数为204,介电损耗为0.029;漏电流测试显示制备的BZT薄膜具有良好的绝缘性能;C-V曲线为顺时针方向回滞,存储窗口大约为3.0V,C-V特性测试显示这种Pt/BZT/LaNiO3结构有望实现极化型存储. 展开更多
关键词 bi4Zr0.5ti2.5o12薄膜 SoL-GEL法 LaNio3底电极 铁电性能
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Ferroelectric properties of Bi_4Zr_(0.5)Ti_(2.5)O_(12) thin films prepared on LaNiO_3 bottom electrode by sol-gel method
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作者 GUO DongYun1, LI MeiYa1, LIU Jun1, PEI Ling1, YU BenFang1, ZHAO XingZhong1, YANG Bin2, WANG YunBo2 & YU Jun2 1 Department of Physics, Wuhan University, Wuhan 430072, China 2 Department of Electronic Science and Technology, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2007年第4期472-477,共6页
The Bi4Zr0.5Ti2.5O12 (BZT) thin films were fabricated on the LaNiO3 bottom electrode using sol-gel method. The structure and morphology of the films were character-ized using X-ray diffraction, AFM and SEM. The result... The Bi4Zr0.5Ti2.5O12 (BZT) thin films were fabricated on the LaNiO3 bottom electrode using sol-gel method. The structure and morphology of the films were character-ized using X-ray diffraction, AFM and SEM. The results show that the films have a perovskite phase and dense microstructure. The 2Pr and 2Vc of the Pt/BZT/LaNiO3 capacitor are 28.2 μC/cm2 and 14.7 V respectively at an applied voltage of 25 V. After the switching of 1×1010 cycles, the Pr value decreases to 87% of its pre-fatigue val-ues. The dielectric constant (ε) and the dissipation factor (tanδ) of the BZT thin films are about 204 and 0.029 at 1 kHz, respectively. The films show good insulating behavior according to the test of leakage current. The clockwise C-V hysteresis curve observed shows that the Pt/BZT/LaNiO3 structure has a memory effect be-cause of the BZT film’s ferroelectric polarization. 展开更多
关键词 bi_4Zr_(0.5)ti_(2.5)o_(12) thin film sol-gel method LaNio_3 bottom electrode ferroelectric properties
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织构化钛酸铋钠基无铅压电陶瓷的制备与性能研究 被引量:2
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作者 徐佩韦 张海波 +1 位作者 肖建中 夏风 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2014年第7期8-11,共4页
用熔盐法制备了片状Bi4Ti3O12模板,由Bi4Ti3O12片状前驱体制备了Bi0.5Na0.5TiO3(BNT)模板,由模板晶粒生长法制备了织构化0.91Bi0.5Na0.5TiO3-0.06BaTiO3-0.03K0.5Na0.5NbO3陶瓷。研究了Bi4Ti3O12以及Bi0.5Na0.5TiO3两种模板及模板含量对... 用熔盐法制备了片状Bi4Ti3O12模板,由Bi4Ti3O12片状前驱体制备了Bi0.5Na0.5TiO3(BNT)模板,由模板晶粒生长法制备了织构化0.91Bi0.5Na0.5TiO3-0.06BaTiO3-0.03K0.5Na0.5NbO3陶瓷。研究了Bi4Ti3O12以及Bi0.5Na0.5TiO3两种模板及模板含量对Bi0.5Na0.5TiO3无铅压电体系织构化的影响及织构化陶瓷的压电性能。结果表明Bi0.5Na0.5TiO3模板比Bi4Ti3O12模板更适合用于此体系的织构化,并且,在加入质量分数15%的Bi0.5Na0.5TiO3模板时Bi0.5Na0.5TiO3陶瓷取向度达到87.3%。质量分数5%的BNT模板织构化的陶瓷在6×103 V/mm电场下应变达到0.226%,相较于随机取向陶瓷提高了48.7%。 展开更多
关键词 无铅压电陶瓷 模板晶粒生长法 bi4ti3o12模板 bi0.5Na0.5tio3模板 织构化
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