旋涂法制备掺杂BiOX薄膜及光催化性能研究

采用旋涂的方法在基底材料表面原位生长Bi OX(X=Cl、Br、I)薄膜材料。样品的晶体结构和光学性质等通过X射线粉末衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见漫反射光谱(UV-Vis)进行了表征。结果表明旋涂法制备的Bi OX薄膜是纯净的,无其他杂质,均匀性好。通过对Bi OX薄膜材料的光催化性能和瞬态表面光电压技术(TPV)进行了研究,发现卤素掺杂的Bi OBr0. 48I0. 52具有较好的光催化性能。其结果表明催化性能提高的原因可能是Bi OBr0. 48I0. 52薄膜在光照下可以产生更强的光生载流子并具有更长的光生载流子寿命。