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化学浴沉积法制备高取向钒酸铋薄膜 被引量:14
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作者 刘晶冰 汪浩 +2 位作者 张慧明 张文熊 严辉 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1299-1302,共4页
从20世纪70年代起,钒酸铋(BiVO4)以其优越的性能受到越来越广泛的关注。BiVO4不但具有铁弹性,同时还具有声光转换性、离子导电性以及光催化活性等特性。这使得BiVO4在光催化剂以及离子导电陶瓷等领域都具有良好的应用前景。很多制... 从20世纪70年代起,钒酸铋(BiVO4)以其优越的性能受到越来越广泛的关注。BiVO4不但具有铁弹性,同时还具有声光转换性、离子导电性以及光催化活性等特性。这使得BiVO4在光催化剂以及离子导电陶瓷等领域都具有良好的应用前景。很多制备技术包括固态反应法、液相合成法、 展开更多
关键词 钒酸铋(bivo4)薄膜 化学浴沉积 择优取向
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BiVO_4膜电极的制备及其光电化学性能 被引量:3
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作者 彭天右 柯丁宁 +2 位作者 曾鹏 张晓虎 范科 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第9期2160-2166,共7页
以自制的BiVO4纳米粉制备膜电极, 采用电化学方法较系统地研究了退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电化学行为和电子输运与复合的影响. 结果表明: 退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电特性有显著的影响. 膜厚为6.75 μm时, BiVO4膜电极具... 以自制的BiVO4纳米粉制备膜电极, 采用电化学方法较系统地研究了退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电化学行为和电子输运与复合的影响. 结果表明: 退火温度和膜厚对BiVO4膜电极的光电特性有显著的影响. 膜厚为6.75 μm时, BiVO4膜电极具有最佳的光电化学特性. 退火温度低于500 °C时, 膜电极的光电活性随着温度的升高而增强, 至500 °C时达到最大值; 此后膜电极内的体相缺陷明显增加, 导致其光电活性逐渐降低. BiVO4膜电极有良好的可见光光电转换效率, 并利用其单色光转换效率曲线计算得到BiVO4的带隙为2.36eV, 采用莫特-肖特基电化学法测得其平带电位为-0.7 V (vs Ag/AgCl). 上述结果为BiVO4光催化体系的优化提供了重要的参考. 展开更多
关键词 bivo4膜电极 光电化学性能 瞬态光电流谱 平带电位
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WO_3/BiVO_4薄膜光电极构建及光电转化性能 被引量:3
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作者 张源 卢伟伟 《河南科技大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2019年第4期94-99,10,共7页
分别用聚合物辅助沉积法和金属有机物分解法制备了WO_3和BiVO_4半导体薄膜电极。利用固体紫外-可见漫反射光谱、电化学阻抗和线性扫描伏安法,对WO_3和BiVO_4半导体薄膜电极的能带结构进行了表征。制备了WO_3/BiVO_4异质结复合光电极,并... 分别用聚合物辅助沉积法和金属有机物分解法制备了WO_3和BiVO_4半导体薄膜电极。利用固体紫外-可见漫反射光谱、电化学阻抗和线性扫描伏安法,对WO_3和BiVO_4半导体薄膜电极的能带结构进行了表征。制备了WO_3/BiVO_4异质结复合光电极,并通过扫描电子显微镜、X射线衍射和X射线光电子能谱,对该复合光电极的断面形貌、晶型结构和物质组成进行了分析。最后,对WO_3/BiVO_4复合光电极的光电转化性能进行了研究。研究结果表明:均为单斜晶型的WO_3和BiVO_4之间形成了膜厚约为450 nm的II型异质结;在施加相对于可逆氢电极1.23 V的电势时,WO_3/BiVO_4光电极的光电流密度可以达到1.926 m A/cm^2,表现出了良好的光电转化性能。 展开更多
关键词 聚合物辅助沉积 金属有机物分解 WO3/bivo4异质结薄膜 光电转化性能
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电解液成分、厚度及表面改性对旋涂法制备的BiVO_4膜层光电化学性能的影响(英文)
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作者 隋美蓉 顾修全 +2 位作者 时梅林 刘琳琳 倪中海 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2018年第6期1183-1191,共9页
采用旋涂法在FTO(SnO_2∶F)导电玻璃衬底上沉积得到BiVO_4多孔薄膜用以光解水,改变前驱体的浓度和旋涂次数以调控薄膜的厚度。研究了电解液成分、膜层厚度及表面改性等因素对刚经历过退火处理的BiVO_4薄膜光电化学(PEC)性能的影响。结... 采用旋涂法在FTO(SnO_2∶F)导电玻璃衬底上沉积得到BiVO_4多孔薄膜用以光解水,改变前驱体的浓度和旋涂次数以调控薄膜的厚度。研究了电解液成分、膜层厚度及表面改性等因素对刚经历过退火处理的BiVO_4薄膜光电化学(PEC)性能的影响。结果表明:通过在电解液中添加适量的空穴吞噬剂Na_2SO_3,或对表面进行Co-Pi改性均能有效改善BiVO_4薄膜的PEC活性。这些措施均能有效抑制固液界面处的载流子复合反应。经Co-Pi改性的BiVO_4薄膜在0.6 V(vs SCE)偏压下,0.1 mol·L^(-1) Na_2SO_4+0.1mol·L^(-1)Na_2SO_3的电解液中展现出最高的光电流密度(4.3 m A·cm^(-2))。此外,选用一个代表性BiVO_4薄膜作为光阳极制备了一个PEC生物传感器,在检测谷胱甘肽(GSH)上表现出比较高的灵敏度。本研究证实了BiVO_4薄膜的PEC性能严重依赖着光俘获效率和载流子输运过程。 展开更多
关键词 钒酸铋 光电化学 多孔膜 掺杂 修饰
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BiOBr/BiVO_4异质结薄膜的制备及其光催化性能研究
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作者 马晶晶 田海娜 +3 位作者 杨梅 冷梦婷 李如嫣 赖康荣 《伊犁师范学院学报(自然科学版)》 2017年第2期37-41,共5页
通过浸渍法在普通玻璃上制备了纯BiVO_4薄膜和BiOBr/BiVO_4异质结薄膜,运用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对其晶体结构及形貌进行表征.薄膜光催化剂的XRD图谱显示:纯BiVO_4薄膜为单斜白钨矿结构,BiVO_4与BiOBr复合后,BiVO_4的... 通过浸渍法在普通玻璃上制备了纯BiVO_4薄膜和BiOBr/BiVO_4异质结薄膜,运用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对其晶体结构及形貌进行表征.薄膜光催化剂的XRD图谱显示:纯BiVO_4薄膜为单斜白钨矿结构,BiVO_4与BiOBr复合后,BiVO_4的晶体结构未发生改变,BiOBr为四方氟氯铅矿型,且均具有较高的结晶度和纯度.在模拟太阳光的辐射下,以亚甲基蓝染料为目标污染物,对薄膜光催化剂的光催化性能进行评价.光催化降解结果表明,在光下照射3 h后,纯BiVO_4和BiOBr/BiVO_4异质结薄膜对亚甲基蓝的光催化降解率分别为63.33%和85.14%.与纯BiVO_4薄膜相比,BiOBr/BiVO_4异质结薄膜具有更高的光催化性能. 展开更多
关键词 BiOBr/bivo4 薄膜 浸渍法 光催化
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Fabrication and photoelectrocatalytic properties of nanocrystalline monoclinic BiVO_4 thin-film electrode 被引量:2
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作者 Bin Zhou Jiuhui Qu +1 位作者 Xu Zhao Huijuan Liu 《Journal of Environmental Sciences》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第1期151-159,共9页
Monoclinic bismuth vanadate (BiVO4) thin film was fabricated on indium-tin oxide glass from an amorphous heteronuclear complex via dip-coating. After annealation at 400, 500, and 600℃, the thin films were character... Monoclinic bismuth vanadate (BiVO4) thin film was fabricated on indium-tin oxide glass from an amorphous heteronuclear complex via dip-coating. After annealation at 400, 500, and 600℃, the thin films were characterized by X-ray diffraction, field emission scanning electron microscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, and UV-Vis spectrophotometry. The BiVO4 particles on the ITO glass surface had a monoclinic structure. The UV-Visible diffuse reflection spectra showed the BiVO4 thin film had photoabsorption properties, with a band gap around 2.5 eV. In addition, the thin film showed high visible photocatalytic activities towards 2,4-dichlorophenol and Bisphenol A degradation under visible light irradiation 0. 〉 420 nm). Over 90% of the two organic pollutants were removed in 5 hr. A possible degradation mechanism of 2,4-dichlorophenol were also studied. 展开更多
关键词 bivo4 thin film degradation of pollutants photoelectrochemical process
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Co-BiVO_4薄膜电极光电处理Pb/Cu-EDTA研究 被引量:8
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作者 杨桂蓉 魏连雨 +4 位作者 李静 郭礼宝 张宝锋 王超 赵旭 《环境科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期914-919,共6页
采用非晶态配合物法及浸渍提拉法在导电玻璃基底上制备了Co-BiVO4薄膜电极,并采用此电极进行了光电处理重金属络合物研究.通过X射线衍射对电极的晶体结构进行了表征,发现薄膜中Co-BiVO4为单斜晶晶型.Co-BiVO4电极降解Pb-EDTA实验中,在1.... 采用非晶态配合物法及浸渍提拉法在导电玻璃基底上制备了Co-BiVO4薄膜电极,并采用此电极进行了光电处理重金属络合物研究.通过X射线衍射对电极的晶体结构进行了表征,发现薄膜中Co-BiVO4为单斜晶晶型.Co-BiVO4电极降解Pb-EDTA实验中,在1.5 V、反应时间120 min时,光电催化氧化和电化学作用对Pb-EDTA的降解率分别为75%和65%,Pb的回收率分别为70%与35%;光催化作用基本没有效果.破络合后的Pb2+主要以Pb(II)的形式附着在阳极上.Co-BiVO4电极降解Cu-EDTA实验中,在2.5 V、反应时间120 min时,光电催化氧化与电化学作用对Cu-EDTA的降解率分别为70%与50%,Cu的回收率分别为70%与50%;绝大部分游离态的Cu2+在阴极得电子形成Cu单质. 展开更多
关键词 Co-BiVO 4薄膜电极 光电催化氧化 Pb-EDTA Cu-EDTA
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