期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Nd掺杂对Bi_4Ti_3O_(12)单晶的结构和电学性能的影响
1
作者 梁坤 贺小庆 +1 位作者 谢文明 龙展鹏 《湖北大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2008年第3期277-279,283,共4页
采用高温溶液生长法生长铁电Bi4-xNdxTi3O12(BNdT)单晶,并研究了BNdT的结构和电学性能.XRD结构精修的结果表明Nd掺杂将导致晶格常数和晶胞体积发生变化,铁电性能的测试表明Nd掺杂降低了BNdT单晶的剩余极化,BNdT的自发极化的估算和铁电... 采用高温溶液生长法生长铁电Bi4-xNdxTi3O12(BNdT)单晶,并研究了BNdT的结构和电学性能.XRD结构精修的结果表明Nd掺杂将导致晶格常数和晶胞体积发生变化,铁电性能的测试表明Nd掺杂降低了BNdT单晶的剩余极化,BNdT的自发极化的估算和铁电测量结果有着相同的变化趋势.Nd的A位掺杂同时也导致BNdT单晶沿各个方向漏电流密度的减小,而由于(Bi2O2)2+层的存在,BNdT单晶沿c方向显示出更低的漏电流密度. 展开更多
关键词 bia4-x Ti3O12 单晶生长 铁电材料 漏电流
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部