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Growth of bismuth telluride thin film on Pt by electrochemical atomic layer epitaxy 被引量:3
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作者 朱文 杨君友 +3 位作者 郜鲜辉 侯杰 张同俊 崔昆 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2005年第2期404-409,共6页
An automated thin-layer flow cell electrodeposition system was developed for growing Bi2Te3 thin film by ECALE. The dependence of the Bi and Te deposition potentials on Pt electrode was studied. In the first attempt, ... An automated thin-layer flow cell electrodeposition system was developed for growing Bi2Te3 thin film by ECALE. The dependence of the Bi and Te deposition potentials on Pt electrode was studied. In the first attempt, this reductive Te underpotential deposition (UPD)/reductive Bi UPD cycle was performed to 100 layers. A better linearity of the stripping charge with the number of cycles has been shown and confirmed a layer-by-layer growth mode, which is consistent with an epitaxial growth. The 4∶3 stoichiometric ratio of Bi to Te suggests that the incomplete charge transfer in HTeO+2 reduction excludes the possibility of Bi2Te3 formation. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis also reveals that the incomplete charge transfer in HTeO+2 occurs in Te direct deposition. The effective way of depositing Bi2Te3 on Pt consists in oxidative Te UPD and reductive Bi UPD. The thin film deposited by this procedure was characterized by X-ray diffraction(XRD), scanning electron microscopy(SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS). A polycrystalline characteristic was confirmed by XRD. The 2∶3 stoichiometric ratio was confirmed by XPS. The SEM image indicates that the deposit looks like a series of buttons about (0.30.4 μm) in diameter, which is corresponding with calculated thickness of the epitaxial film. This suggests that the particle growth appears to be linear with the number of cycles, as it is consistent with a layer by layer growth mode. 展开更多
关键词 热电材料 碲化铋 薄膜生长 电化学原子外延附生
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Gas-sensing Properties of Bismuth Iron Molybdate Thin Films
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作者 胡兴定 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1997年第4期73-77,共5页
The thin film gas sensors of bismuth iron molybdate were prepared by ion beam sputtering technique. The prototype gas sensors studied have high sensitivity and selectivity to reducing gases, such as ethanol vapor, s... The thin film gas sensors of bismuth iron molybdate were prepared by ion beam sputtering technique. The prototype gas sensors studied have high sensitivity and selectivity to reducing gases, such as ethanol vapor, show a long term stability of response under most operating conditions and insensitivity to atmospheric humidity, and respond quickly comparing to traditional sintered gas sensors. The crystallographic structure and phase composition of these thin films were investigated with XRD, XPS and SEM techniques. 展开更多
关键词 bismuth iron molybdate Ion beam sputtering thin film Gas sensing properties
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Electrodeposition and characterization of thermoelectric Bi_2Se_3 thin films 被引量:2
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作者 Xiao-long Li Ke-feng Cai Hui Li Ling Wang Chi-wei Zhou 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第1期104-107,共4页
Bi2Se3 thin films were electrochemically deposited on Ti and indium tin oxide-coated glass substrates, respectively, at room temperature, using Bi(NO3)3·5H2O and SeO2 as starting materials in diluted HNO3 solut... Bi2Se3 thin films were electrochemically deposited on Ti and indium tin oxide-coated glass substrates, respectively, at room temperature, using Bi(NO3)3·5H2O and SeO2 as starting materials in diluted HNO3 solution. A conventional three-electrode cell was used with a platinum sheet as a counter electrode, and a saturated calomel electrode was used as a reference electrode. The films were annealed in argon atmosphere. The influence of cold isostatic pressing before annealing on the microstructure and thermoelectric properties of the films was investigated. X-ray diffraction analysis indicates that the film grown on the indium tin oxide-coated glass substrate is pure rhombohedral Bi2Se3, and the film grown on the Ti substrate consists of both rhombohedral and orthorhombic Bi2Se3. 展开更多
关键词 thermoelectric thin films bismuth selenide ELECTRODEPOSITION thermoelectric properties cold isostafic pressing
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Bismuth Substituted Yttrium Iron Garnet Single Crystal Films Prepared by Sol-gel Method
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作者 HUANG Min (Dept.of Inform. and Comput.Sci., City College,Zhejiang University,Hangzhou 310015, CHN ) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2002年第4期259-262,共4页
Magneto-optic Faraday rotation effect and the amount of bismuth substituted in yttrium iron garnet single crystal films prepared by gel-coating on modified gadolinium-gallium garnet substrates are investigated, where ... Magneto-optic Faraday rotation effect and the amount of bismuth substituted in yttrium iron garnet single crystal films prepared by gel-coating on modified gadolinium-gallium garnet substrates are investigated, where the gel is synthesized by a sol-gel reaction of nitrates and ethylene glycol. The coated gel is annealed in air at temperatures up to 660 ℃ for 4 h, which is about 300 ℃ lower than that of liquid-phase epitaxy. The maximum amount of Bi substitution is x =2.7 and the crystallization temperature of garnet phase decreases with the increase of x down to 520 ℃ for x =2.7. In this film, a huge Faraday rotation of -8.1×10 4 (°)/cm at λ =0.633 μm is obtained. 展开更多
关键词 bismuth-substituted GARNET thin filmS FARADAY rotation effect Sol-gel method
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Preparation and Characterization of P-Type Bi<sub>0.45</sub>Sb<sub>1.55</sub>Te<sub>3</sub>Thin Film Using Pulsed CO<sub>2</sub>Laser
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作者 Rakdiaw Muangma Voravit Kosalathip +1 位作者 Taswal Kumpeerapun Pichet Limsuwan 《Materials Sciences and Applications》 2014年第5期285-291,共7页
P-type Bi0.45Sb1.55Te3 thermoelectric material was synthesized using cold pressing process. The obtained sample was prepared in the form of pellet with a diameter of 10 mm and 2 mm thick and used as a target for laser... P-type Bi0.45Sb1.55Te3 thermoelectric material was synthesized using cold pressing process. The obtained sample was prepared in the form of pellet with a diameter of 10 mm and 2 mm thick and used as a target for laser ablation. The laser source was a pulsed CO2 laser working at a wavelength of 10.6 μm with a laser energy density of 2 J/cm2 per pulse. P-type Bi0.45Sb1.55Te3 thermoelectric thin films were deposited on Si substrates for different ablation times of 1, 2 and 3 h. The cross-section and surface morphologies of the thermoelectric films were investigated using field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). The results show that the thickness and average particle size of the films increased from 35 to 58 nm, and 28 to 35 nm, respectively, when the ablation time was increased from 1 to 3 h. The crystalline structure of the TE films was investigated by X-ray diffraction (XRD). 展开更多
关键词 LASER Ablation PULSED CO2 LASER bismuth ANTIMONY TELLURIDE Thermoelectric thin film
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Bi_(2)O_(3)电致变色薄膜的膜厚甄选
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作者 吴浩 赵加栋 +1 位作者 刘春雨 俞圣雯 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第1期43-53,共11页
为了得到能够呈现出合理电致变色性能的Bi_(2)O_(3)薄膜,需要筛选其膜厚.通过磁控溅射法制备得到厚度为20~300 nm的Bi_(2)O_(3)薄膜,并利用UH4150紫外可见(ultravioletvisible,UV-Vis)分光光度计和CHI-660e电化学工作站测试薄膜的电致... 为了得到能够呈现出合理电致变色性能的Bi_(2)O_(3)薄膜,需要筛选其膜厚.通过磁控溅射法制备得到厚度为20~300 nm的Bi_(2)O_(3)薄膜,并利用UH4150紫外可见(ultravioletvisible,UV-Vis)分光光度计和CHI-660e电化学工作站测试薄膜的电致变色性能.采用扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)和X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)分别检测了薄膜的表面形貌和物相结构.对变色对比度(ΔT_(λ=550 nm))、电致变色效率(η)以及性能保留度(R_(ΔT)、R_(η))的表现进行综合甄别,发现膜厚介于60~120 nm之间的Bi_(2)O_(3)薄膜的ΔT和η分别达到25%和10 cm^(2)/C,并且具有较高的电致变色性能保留度(R_(ΔT)=20%、R_(η)=44.6%).这可能与该厚度区间薄膜的主要物相为具有较高离子导电性的δ相有关. 展开更多
关键词 膜厚 氧化铋 电致变色 薄膜
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GaAsBi半导体材料的制备及应用研究进展
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作者 马玉麟 郭祥 丁召 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期25-37,共13页
稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料在电子和光电子领域具有广泛的应用前景,其制备方法主要有分子束外延法(MBE)和金属有机物气相外延法(MOVPE)。本文聚焦于具有较大带隙收缩、温度不敏感以及强自旋轨道分裂等特殊物理特性的GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材... 稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料在电子和光电子领域具有广泛的应用前景,其制备方法主要有分子束外延法(MBE)和金属有机物气相外延法(MOVPE)。本文聚焦于具有较大带隙收缩、温度不敏感以及强自旋轨道分裂等特殊物理特性的GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材料,对其制备方法和研究进展进行了综述。研究人员对GaAsBi材料的研究主要集中在薄膜、多量子阱、纳米线和量子点材料的制备。在薄膜材料方面,侧重于研究制备工艺条件对GaAsBi薄膜的影响,例如低衬底温度、低生长速率和非常规的Ⅴ/Ⅲ束流比;在多量子阱材料方面,采用双衬底温度技术有效减少Bi偏析问题;对于纳米线和量子点材料,金属Bi作为表面活性剂可以改善材料的形貌和光学性能。然而,目前在该材料研究和应用方面仍存在挑战,如薄膜材料的结晶质量恶化和金属Bi分凝团聚,以及量子点材料中Bi的均匀性和形成机制的争议。解决这些问题对于提高GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材料的质量和促进器件发展具有重要意义。 展开更多
关键词 稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料 GaAsBi薄膜 多量子阱材料 量子点材料 MBE MOVPE
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碲化铋基柔性热电器件研究进展
8
作者 顾晓凤 戈镇洲 +2 位作者 舒元春 彭德权 陈金伟 《材料研究与应用》 CAS 2024年第5期695-709,共15页
碲化铋基柔性热电器件具有体积小、质量轻、可变形、可弯折的特点,能够实现高密度阵列集成,契合未来电子信息领域对高性能、微型化、低功耗器件的发展需求。该种器件适用于复杂几何结构和不规则曲率变化的表面,能够满足物联网、可穿戴... 碲化铋基柔性热电器件具有体积小、质量轻、可变形、可弯折的特点,能够实现高密度阵列集成,契合未来电子信息领域对高性能、微型化、低功耗器件的发展需求。该种器件适用于复杂几何结构和不规则曲率变化的表面,能够满足物联网、可穿戴设备、微电子芯片行业对微能源供应、小空间快速制冷、个人热量管理的需求。综述了近年来碲化铋基柔性热电器件研究进展和存在的问题,并对其未来的发展方向进行了展望。虽然碲化铋基柔性热电器件的研究取得了一定的进展,但整体上仍处于实验室阶段,实现大规模商用应用还有一段距离,今后应侧重于输出功率的提升、穿戴舒适性和美观性、服役稳定性和使用寿命,以及降低制造难度方面的研究。碲化铋基柔性热电器件主要分为块体型、薄膜型和纺织物型3大类型。块体型器件的输出功率一般可达1×10^(-5)W·cm^(-2),但其柔韧性和穿戴舒适性不足,可通过提高碲化铋基热电材料本身的ZT值、优化负载电阻、选择热导率低的封装材料,以及合理设计封装元件尺寸和热电臂的形状、数目和连接方式等方法来持续提高其热电性能,可通过开发柔韧性更高、甚至具备自愈能力的封装材料和连接材料来提升其柔韧性和穿戴舒适性。薄膜型器件的输出功率一般在1×10-6—1×10^(-9)W·cm^(-2)之间,还达不到实际应用需求,通过提升碲化铋基薄膜制备技术并优化工艺参数来提高薄膜本身热电性能,开发热稳定性、电阻率、导热系数更优的热电界面材料,从而降低接触热阻导致的界面热损失,提高输出功率和转换效率,通过选择柔韧性和机械稳定性更高的基底材料来其使用寿命。纺织物型器件具有较好的拉伸、弯曲和剪切性能,能满足穿戴的舒适性要求,但热电性能较差,输出功率也普遍在1×10-6—1×10^(-9)W·cm^(-2)之间,且稳定性不足,可通过改进涂印和浸渍工艺来提高纱线表面碲化铋基热电材料的均匀性,创新热电纱线组装的结构以在织物厚度方向上更好地建立温差,从而提高其热电性能。本研究为碲化铋基柔性热电器件的应用提供了理论参考。 展开更多
关键词 碲化铋 柔性 热电 器件 块体型 薄膜型 纺织物型 性能
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Si(111)邻位面衬底上InSb薄膜的外延生长及其可见光电导特性
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作者 杜绍增 方晨旭 +1 位作者 刘婷 李含冬 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第5期811-816,共6页
锑化铟(InSb)因其在红外探测、高速电子学和量子计算等领域的卓越性能备受关注。文章探索了Si(111)邻位面衬底上InSb薄膜的异质外延生长,并研究了其光电导特性。尝试采用Bi缓冲层结合InSb两步法生长策略解决Si与InSb晶格失配和热膨胀系... 锑化铟(InSb)因其在红外探测、高速电子学和量子计算等领域的卓越性能备受关注。文章探索了Si(111)邻位面衬底上InSb薄膜的异质外延生长,并研究了其光电导特性。尝试采用Bi缓冲层结合InSb两步法生长策略解决Si与InSb晶格失配和热膨胀系数差异大的问题,在平坦Si(111)衬底上获得了高质量InSb(111)单晶薄膜。然而,在具有高密度台阶结构特征的Si(111)斜切衬底表面上生长得到的Bi(001)缓冲层存在大量倒反畴缺陷,在该表面上进一步生长得到的InSb薄膜均为多晶结构。所制备的InSb/Bi/Si异质结构在模拟日光辐照条件下显示出负光电导效应,应与异质结构界面态对InSb层光生载流子的捕获效应有关。 展开更多
关键词 INSB薄膜 SI衬底 临位面外延 Bi缓冲层
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Additive-aided electrochemical deposition of bismuth telluride in a basic electrolyte
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作者 Wu-jun Qiu Sheng-nan Zhang Tie-jun Zhu Xin-bing Zhao 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第4期489-493,共5页
A new basic electrolyte with two cationic plating additives, polydiaminourea and polyaminosulfone, was investigated for the electrochemical deposition of the bismuth telluride film on a nickel-plated copper foil. Tell... A new basic electrolyte with two cationic plating additives, polydiaminourea and polyaminosulfone, was investigated for the electrochemical deposition of the bismuth telluride film on a nickel-plated copper foil. Tellurium starts to deposit at a higher potential (-0.35 V) than bismuth (-0.5 V) in this electrolyte. The tellurium-to-bismuth ratio increases while the deposition potential declines from -1 to -1.25 V, indicating a kinetically quicker bismuth deposition at higher potentials. The as-deposited film features good adhesion to the substrate and smooth morphology, and has a nearly amorphous crystal structure disclosed by X-ray diffraction patterns. 展开更多
关键词 thin films thermoelectric materials electrochemical deposition bismuth telluride basic electrolyte
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La^(3+)、Co^(2+)掺杂对多铁薄膜BiFeO_(3)漏电流性能的影响
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作者 张文政 王趱 《沈阳化工大学学报》 CAS 2023年第6期518-523,共6页
在550℃、退火20 min的条件下,采用溶胶-凝胶法分别在Pt(111)/Ti/SiO_(2)/Si(100)衬底上制备La^(3+)、Co^(2+)摩尔分数(x、y)分别为0.05、0.10、0.15和0.20的Bi_(1-x)La_(x)FeO_(3)(BL_(x)FO)和BiFe_(1-y)Co_(y)O_(3)(BFC_(y)O)系列薄膜... 在550℃、退火20 min的条件下,采用溶胶-凝胶法分别在Pt(111)/Ti/SiO_(2)/Si(100)衬底上制备La^(3+)、Co^(2+)摩尔分数(x、y)分别为0.05、0.10、0.15和0.20的Bi_(1-x)La_(x)FeO_(3)(BL_(x)FO)和BiFe_(1-y)Co_(y)O_(3)(BFC_(y)O)系列薄膜,并对其进行XRD、铁电性、漏电性等测试.结果表明:La^(3+)、Co^(2+)元素的掺杂没有改变薄膜BFO钙钛矿的晶体结构,但是明显改善了薄膜的铁电性和漏电性,尤其是当x、y值分别为0.15时,薄膜Bi_(0.85)La_(0.15)FeO_(3)和BiFe_(0.85)Co_(0.15)O_(3)均达到了最优性能.在此基础上,制备Bi_(0.85)La_(0.15)Fe_(0.85)Co_(0.15)O_(3)(BLFCO)薄膜.结果表明:复合元素掺杂比单元素掺杂获得更为理想的效果,其中剩余极化2 P_(r)从单元素掺杂的0.0718 C/m^(2)提高到复合元素掺杂的0.7070 C/m^(2),漏电流密度也比单元素掺杂降低了1个数量级. 展开更多
关键词 掺杂 铁酸铋 多铁薄膜 铁电性 漏电性
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Optical characterization of antimony-based bismuth-doped thin films with different annealing temperatures
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作者 逯鑫森 吴谊群 +1 位作者 王阳 魏劲松 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第10期67-70,共4页
Antimony-based bismuth-doped thin film, a new kind of super-resolution mask layer, is prepared by magnetron sputtering. The structures and optical constants of the thin films before and after annealing axe examined in... Antimony-based bismuth-doped thin film, a new kind of super-resolution mask layer, is prepared by magnetron sputtering. The structures and optical constants of the thin films before and after annealing axe examined in detail. The as-deposited film is mainly in an amorphous state. After annealing at 170- 370 ℃, it is converted to the rhombohedral-type of structure. The extent of crystallization increased with the annealing temperature. When the thin film is annealed, its refractive index decreased in the most visible region, whereas the extinction coefficient and reflectivity are markedly increased. The results indicate that the optical parameters of the film strongly depend on its microstructure and the bonding of the atoms. 展开更多
关键词 Amorphous films Annealing bismuth Optical constants Refractive index thin films
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铁酸铋薄膜的溶胶-凝胶法制备及电性能研究进展 被引量:9
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作者 雷天宇 孙远洋 +3 位作者 任红 张玉 蔡苇 符春林 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期129-136,174,共9页
铁酸铋是唯一一种在室温下存在的单相多铁材料,因其具有较高的铁电居里温度、较大的剩余极化强度、较小的禁带宽度和多铁特性,受到国内外的广泛关注。溶胶-凝胶法是制备铁酸铋薄膜的一种常见方法。综述了近年来溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄... 铁酸铋是唯一一种在室温下存在的单相多铁材料,因其具有较高的铁电居里温度、较大的剩余极化强度、较小的禁带宽度和多铁特性,受到国内外的广泛关注。溶胶-凝胶法是制备铁酸铋薄膜的一种常见方法。综述了近年来溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了制备工艺参数(前驱液、退火温度、退火气氛、底电极)与掺杂对铁酸铋薄膜电性能的影响;分析了不同制备工艺导致薄膜电性能出现差异的原因;归纳、总结出了目前溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的较佳工艺条件;最后,指出了亟待解决的问题。 展开更多
关键词 铁酸铋 薄膜 溶胶-凝胶法 电学性能
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BiFeO_3多铁薄膜掺杂改性研究进展 被引量:7
14
作者 张玉 雷天宇 +3 位作者 任红 孙远洋 蔡苇 符春林 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期83-90,122,共9页
铁酸铋是目前发现的唯一的室温单相多铁性的材料,其禁带宽度较小,剩余极化强度较大,居里温度较高,在光电器件、自旋电子器件、铁电随机存储器、磁电存储单元等领域有着广阔的应用前景。但铁酸铋薄膜存在漏电流较大、磁电耦合性较弱等问... 铁酸铋是目前发现的唯一的室温单相多铁性的材料,其禁带宽度较小,剩余极化强度较大,居里温度较高,在光电器件、自旋电子器件、铁电随机存储器、磁电存储单元等领域有着广阔的应用前景。但铁酸铋薄膜存在漏电流较大、磁电耦合性较弱等问题,制约了在实际中的应用。离子掺杂具有操作方便、易于实现薄膜的微结构及性能调控等优点,因而受到广泛关注。综述了国内外近年来关于铁酸铋薄膜电性能掺杂改性的相关工作,阐述了不同种类的掺杂,包括A位(三价镧系元素与二价碱金属元素)、B位(过渡金属元素等)以及AB位共掺杂,同时根据掺杂对铁酸铋薄膜的漏电流、铁电性以及介电性能的影响,对A位掺杂和B位掺杂中的元素进行了分类,系统总结了各类元素掺杂改性的效果及其机理。最后,提出了铁酸铋薄膜亟待解决的问题。 展开更多
关键词 铁酸铋 薄膜 漏电流 铁电性 掺杂改良
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制备工艺对溶胶-凝胶法制备BeFeO_3薄膜的影响 被引量:4
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作者 李三喜 宋德智 +2 位作者 张文政 王趱 李天生 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2016年第8期43-45,59,共4页
利用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/Si O2/Si基体上制备了BiFeO_3薄膜,构架了Pt/BiFeO_3/Pt电容器。对不同退火温度和保温时间制备薄膜的微观形貌和铁电性能做了研究。X射线衍射仪(XRD)结果显示,不同的退火温度和保温时间并没有改变BiFeO_3(BFO)... 利用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/Si O2/Si基体上制备了BiFeO_3薄膜,构架了Pt/BiFeO_3/Pt电容器。对不同退火温度和保温时间制备薄膜的微观形貌和铁电性能做了研究。X射线衍射仪(XRD)结果显示,不同的退火温度和保温时间并没有改变BiFeO_3(BFO)的钙钛矿结构,但温度的改变会产生不同的晶相。通过扫描电子显微镜(FE-SEM)可以观察到,随着烧结保温时间的延长,薄膜晶粒有减小的趋势。P-E曲线结果表明,BFO薄膜在外加电场较高时易击穿,难以得到清晰饱和的电滞回线。 展开更多
关键词 铁酸铋薄膜 退火温度 保温时间 微观形貌 铁电性能
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化学溶液沉积法制备掺镧Bi_2Ti_2O_7薄膜及其特性的研究 被引量:3
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作者 杨雪娜 王弘 +4 位作者 尚淑霞 姚伟峰 张寅 刘延辉 周静涛 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期251-254,共4页
采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该... 采用化学溶液沉积法 ,在Si(10 0 )衬底上制备了 (Bi0 .92 5La0 .0 75) 2 Ti2 O7薄膜。通过对其X射线衍射图谱分析表明 :用一定量的La3+ 来代替部分Bi3+ ,提高了Bi2 Ti2 O7相薄膜的稳定性。研究发现 :经过高温 (85 0℃ )退火处理后 ,该薄膜的结晶性和取向性都很好 ,[111]方向取向率为 90 %。根据XRD谱图中的 (4 4 4)衍射峰 ,计算出晶格常数a≈ 2 0 .66 。薄膜的电流电压和电容电压特性的测量结果表明 ,该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数。 展开更多
关键词 掺镧钛酸铋 薄膜 化学溶液沉积法 X射线衍射
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Bi_2Te_3热电薄膜的电化学原子层外延制备 被引量:7
17
作者 侯杰 杨君友 +1 位作者 朱文 郜鲜辉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1054-1056,共3页
采用电化学原子层外延法(ECALE)在Au电极上成功地制备了Bi2Te3化合物热电薄膜。通过循环伏安扫描研究Te和Bi在Au衬底上的电化学特性,使用自动沉积系统交替欠电位沉积Te、Bi原子层200个循环获得沉积物。XRD、EDX和FESEM测试结果表明循环... 采用电化学原子层外延法(ECALE)在Au电极上成功地制备了Bi2Te3化合物热电薄膜。通过循环伏安扫描研究Te和Bi在Au衬底上的电化学特性,使用自动沉积系统交替欠电位沉积Te、Bi原子层200个循环获得沉积物。XRD、EDX和FESEM测试结果表明循环沉积200层后得到的沉积物Bi和Te的化学计量比为2∶3,且是Bi2Te3薄膜化合物,而非单质Bi和Te的简单混合;薄膜均匀、致密、平整且可重复性好,以(015)为最优取向外延生长的。 展开更多
关键词 电化学原子层外延 欠电位 BI2TE3 热电材料 薄膜
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脉冲激光沉积制备氧化铋薄膜的电致变色性质 被引量:2
18
作者 储艳秋 吴波 +2 位作者 吴梁 水青 傅正文 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1787-1791,共5页
通过电位阶跃和循环伏安结合现场电感偶合分光光度计(CCD)测量了脉冲激光沉积的四方结构Bi_2O_3薄膜的电致变色性质.结果表明,在波长为630 nm处出现一个明显的吸收峰,Bi_2O_3薄膜电极的着色时间为30s.吸光度-电位谱图表明,当电位在3.5-0... 通过电位阶跃和循环伏安结合现场电感偶合分光光度计(CCD)测量了脉冲激光沉积的四方结构Bi_2O_3薄膜的电致变色性质.结果表明,在波长为630 nm处出现一个明显的吸收峰,Bi_2O_3薄膜电极的着色时间为30s.吸光度-电位谱图表明,当电位在3.5-0.7 V之间变化时,Bi_2O_3薄膜的颜色可明显地呈现由透明到暗棕色的可逆变化,重复次数可达50次,在630 nm测得的着色效率约为15 cm^2·C^(-1). 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 氧化铋薄膜 循环伏安 电位阶跃 电致变色性质
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基于BiFeO_3/ITO复合膜表面钝化的黑硅太阳电池性能研究 被引量:2
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作者 檀满林 周丹丹 +6 位作者 符冬菊 张维丽 马清 李冬霜 陈建军 张化宇 王根平 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第16期264-273,共10页
采用金属银辅助化学刻蚀法在制绒的硅片表面刻蚀纳米孔形成微纳米双层结构,以期获得高吸收率的太阳能电池用黑硅材料.鉴于微纳米结构会在晶硅表面引入大量的载流子复合中心,利用磁控溅射技术在黑硅太阳电池表面制备了BiFeO_3/ITO复合膜... 采用金属银辅助化学刻蚀法在制绒的硅片表面刻蚀纳米孔形成微纳米双层结构,以期获得高吸收率的太阳能电池用黑硅材料.鉴于微纳米结构会在晶硅表面引入大量的载流子复合中心,利用磁控溅射技术在黑硅太阳电池表面制备了BiFeO_3/ITO复合膜,并对其表面性能和优化效果进行了探索.实验制备的具有微纳米双层结构的黑硅纳米线长约180—320 nm,在300—1000 nm波长范围内入射光反射率均在5%以下.沉积BiFeO_3/ITO复合薄膜后的黑硅太阳能电池反射率略有提高,但仍然具有较强的光吸收性能;采用BiFeO_3/ITO复合膜的黑硅太阳能电池开路电压和短路电流密度分别由最初的0.61 V和28.42 mA/cm^2提升至0.68 V和34.57 mA/cm^2,相应电池的光电转化效率由13.3%上升至16.8%.电池综合性能的改善主要是因为沉积BiFeO_3/ITO复合膜提高了电池光生载流子的有效分离,从而增强了黑硅太阳电池短波区域的光谱响应,表明具有自发极化性能的BiFeO_3薄膜对黑硅太阳能电池的表面性能可起到较好的优化作用. 展开更多
关键词 黑硅太阳电池 铁酸铋薄膜 表面钝化
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掺钕钛酸铋薄膜的金属有机溶液分解法制备和性能研究 被引量:3
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作者 王月花 徐国定 朱永元 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期221-225,229,共6页
以无机盐为原料 ,采用金属有机溶液分解法在石英衬底上制备了不同钕含量的掺钕钛酸铋 (Bi4 -xNdxTiO1 2 ,BNT)薄膜。用X射线衍射和Raman光谱研究了薄膜的相组成和结构特征 ,用原子力显微镜对薄膜表面形貌和结晶颗粒度大小进行了分析。... 以无机盐为原料 ,采用金属有机溶液分解法在石英衬底上制备了不同钕含量的掺钕钛酸铋 (Bi4 -xNdxTiO1 2 ,BNT)薄膜。用X射线衍射和Raman光谱研究了薄膜的相组成和结构特征 ,用原子力显微镜对薄膜表面形貌和结晶颗粒度大小进行了分析。经过光学透射谱研究得到了薄膜的光学常数。结果表明 :不同钕含量的薄膜经 70 0℃退火处理后 ,都结晶为铋系层状钙钛矿结构 ,薄膜表面平整、无裂纹和空洞 ,颗粒大小为 80~ 10 0nm。Raman光谱分析发现 :当薄膜中钕含量 (x值 )小于 1时 ,钕离子只取代钙钛矿层中A位铋离子 ;而当钕含量超过 1以后 ,Bi2O2 层中的铋离子也被部分取代。透射谱分析得到了Bi3.2 5Nd0 .75Ti3O1 2 薄膜的线性折射率、线性吸收系数和光学带隙分别为 1.92 ,1.98× 10 2cm- 1 和 3 .5 6eV。 展开更多
关键词 掺钕钛酸铋 薄膜 金属有机溶液分解法 透射谱
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