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Experimental Observation of Cubic C_3N_4 Compound in Carbon Nitride Thin Films 被引量:1
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作者 Furen XIAO Dongli YU +2 位作者 Yongjun TIAN Julong HE Dongchun LI and Wenkui WANG(College of Materials Science and Chemical Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, China To whom correspondence should be addressed E-mail: fhcl@ysu.edu.cn ) 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第5期480-482,共3页
Cubic C3N4 compound in the C-N thin films on Si and NaCl substrates was prepared by ion beam sputtering of a pure graphite target with discharge gas of pure N2. X-ray photoelectron spectroscopy indicated that nitrogen... Cubic C3N4 compound in the C-N thin films on Si and NaCl substrates was prepared by ion beam sputtering of a pure graphite target with discharge gas of pure N2. X-ray photoelectron spectroscopy indicated that nitrogen atoms combined with sp2- and sp3- coordinated C atoms in the film, respectively. X-ray diffraction, selected area electron diffraction and high-resolution electron microscopy were used to identify the cubic C3N4 phase. The results reconfirm the ab initio calculations on metastable structure in C-N compounds 展开更多
关键词 Thin Experimental Observation of cubic c3n4 compound in carbon Nitride Thin films Rev
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Research on C_3N_4 Superhard Compound Thin Film and Its Application
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作者 Wu Da-wei +2 位作者 Peng Li-li 《Wuhan University Journal of Natural Sciences》 CAS 2003年第01A期54-58,共5页
By combination of DC reactive magnetron sputter i ng with multiple arcplating, the alternating C 3 N 4 /TiN compo und film is deposited onto HSS. The core level binding energy and the contents o f carbon and n... By combination of DC reactive magnetron sputter i ng with multiple arcplating, the alternating C 3 N 4 /TiN compo und film is deposited onto HSS. The core level binding energy and the contents o f carbon and nitrogen are characterized by X\|ray photoelectron spectrum. X\|ray diffraction(XRD) shows that compound thin film contains hard crystalline phases of α \|C 3 N 4 and β \|C 3 N 4 . The Knoop microhardne ss in the load range of 50.5\|54.1 GPa is measured. According to acoustic emissi on scratch test, the critical load values for the coatings on HSS substrates are in the range of 40\|80 N. The metal coated with C 3 N 4 /TiN compound f ilms has a great improvement in the resistance against corrosion. Many tests sho w that such a coating has a very high wearability. Compared with the uncoated an d TiN coated tools, the C 3 N 4 /TiN coated tools have a much longer cut ting life. 展开更多
关键词 c 3n 4 superhard thin film High Speed Steel (HSS) coated cutting tool
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超硬薄膜β-C_3N_4的制备和表征 被引量:4
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作者 张永平 顾有松 +4 位作者 常香荣 田中卓 时东霞 张秀芳 袁磊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期172-174,共3页
本文采用微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶硅和多晶铂基片上沉积 β -C3N4薄膜。X射线能谱 (EDX)分析了这种晶态C -N膜的化学成分 ,对不同样品的分析结果表明 ,N/C原子比在... 本文采用微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶硅和多晶铂基片上沉积 β -C3N4薄膜。X射线能谱 (EDX)分析了这种晶态C -N膜的化学成分 ,对不同样品的分析结果表明 ,N/C原子比在 1.1~ 2 .0范围内。X射线衍射结构分析结果与计算的α -和 β -C3N4单相X射线的峰位和强度相比较 ,说明它是α -和 β -C3N4的混合物。FT -IR和Raman谱支持C -N共价键的存在。薄膜的体弹性模量达到 349GPa。 展开更多
关键词 β-c3n4 超硬薄膜 MPcVD 制备 表征
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热丝辅助射频CVDC_3N_4薄膜(英文) 被引量:1
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作者 吴现成 贺德衍 +2 位作者 王博 严辉 陈光华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期275-279,共5页
采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积 (CVD)方法直接在Si(10 0 )衬底上制备了多晶C3N4 薄膜。X射线衍射 (XRD)测试表明薄膜同时含有α C3N4 和 β C3N4 晶相以及未知结构。傅立叶变换红外吸收谱 (FTIR)表明薄膜内的C—N ,CN和CN... 采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积 (CVD)方法直接在Si(10 0 )衬底上制备了多晶C3N4 薄膜。X射线衍射 (XRD)测试表明薄膜同时含有α C3N4 和 β C3N4 晶相以及未知结构。傅立叶变换红外吸收谱 (FTIR)表明薄膜内的C—N ,CN和CN键的吸收峰分别位于 12 37,16 2 5和2 191cm- 1。利用扫描电子显微镜 (SEM)观测到线度约为 2 μm、横截面为六边形的 β C3N4 晶粒。纳米压痕法测得薄膜的硬度最高可达 72 .6 6GPa。 展开更多
关键词 X射线衍射 硬度 cVD 氮化碳薄膜 热丝辅助射频
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微波等离子体化学气相沉积β-C_3N_4超硬膜的研究 被引量:1
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作者 张永平 顾有松 +5 位作者 常香荣 田中卓 时东霞 马立平 张秀芳 袁磊 《河北科技大学学报》 CAS 1999年第4期1-4,共4页
采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),用高纯氮气(99.999% )和甲烷(99.9% )作反应气体,在多晶铂(Pt)基片上沉积C3N4 薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)和扫描隧道显微镜(STM)观察薄膜形貌... 采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),用高纯氮气(99.999% )和甲烷(99.9% )作反应气体,在多晶铂(Pt)基片上沉积C3N4 薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)和扫描隧道显微镜(STM)观察薄膜形貌表明,薄膜由针状晶体组成。X射线能谱(EDX)分析了这种晶态C-N膜的化学成分。对不同样品不同区域的分析结果表明,N/C比接近于4/3。X射线衍射结构分析说明该膜主要由β-C3N4 和α-C3N4 组成。利用Nano indenter Ⅱ测得C3N4 膜的体弹性模量B达到349 GPa,接近c-BN(367 GPa)的体弹性模量,证明C3N4 化合物是超硬材料家族中的一员。 展开更多
关键词 微波 等离子体 化学气相沉积法 薄膜 沉积
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动态催化聚合C_3N_4膜的研究
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作者 陈剑瑄 刘仲阳 +2 位作者 张大忠 孙官清 罗伯诚 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期118-121,共4页
The C 3N 4 film on Al 2O 3 formed by dynamic catalytic at low energy Ar + ion sputtering C 3H 6N 6+Ni target. The ratio of nitroge atoms to carbon in the films is 4∶3. C(1 s ) peakes for graphite, diamond and C≡N no... The C 3N 4 film on Al 2O 3 formed by dynamic catalytic at low energy Ar + ion sputtering C 3H 6N 6+Ni target. The ratio of nitroge atoms to carbon in the films is 4∶3. C(1 s ) peakes for graphite, diamond and C≡N not have observed. above results are obtained by XPS. The main peak appears at 1275cm -1 in the Raman spectrum. Results of SEM cant observed that sample is consist of cluter type crystal, but is no needle type. The colour is yellow but is no white. The experimental result indicated films consist of inorganic cavalent solid carbon nitride. The results from XRF observed sample contain Fe and Ni elements. It has been illustrated that Fe and Ni responsible for one C 3N 4 polymerization. 展开更多
关键词 c3n4 c3H6N6晶体 催化 聚合
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MPCVD制备β-C_3N_4薄膜的成分和结构研究
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作者 张永平 顾有松 +4 位作者 常香荣 田中卓 时东霞 张秀芳 袁磊 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第S1期142-,共1页
M .L .Cohcn和A .Y .Liu利用半经验公式和第一性原理计算表明 ,如果C和N能够结合成类似于 β Si3 N4结构的化合物 β C3 N4,由于C N的键长比C C的键长短和键的离子性小 ,它的体弹性模量B约为 483GPa至 42 7GPa ,接近甚至超过金刚石的体... M .L .Cohcn和A .Y .Liu利用半经验公式和第一性原理计算表明 ,如果C和N能够结合成类似于 β Si3 N4结构的化合物 β C3 N4,由于C N的键长比C C的键长短和键的离子性小 ,它的体弹性模量B约为 483GPa至 42 7GPa ,接近甚至超过金刚石的体弹性模量。这是人类第一次从理论上预言一种超硬性能的新材料 ,β C3 N4的实验合成不仅可以为人类提供一种全新的材料 ,而且能够进一步检验理论预言的正确性。本文采用微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD) ,用高纯氮气 ( 99.999% )和甲烷 ( 99.9% )作反应气体 ,在单晶Si( 1 0 0 )基片上沉积C3 N4薄膜。利用扫描电子显微镜 (SEM)观察薄膜形貌表明 ,薄膜由密排的六棱晶棒组成。X射线能谱 (EDX)分析了这种晶态C N膜的化学成分 ,对不同样品不同区域的分析结果表明 ,N/C比接近于 4/3。X射线衍射 (XRD)结构分析说明该膜主要由 β C3 N4和α C3 N4组成。利用XPS分析说明薄膜为C+ N-极性键结合 ,FT IR和Raman谱支持C N公价键的存在。 展开更多
关键词 c_3n_4 微波等离子体化学气相沉积法 弹性模型
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结晶β-C_3N_4薄膜的制备和特性研究(英文)
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作者 陈光华 张阳 +1 位作者 朱鹤孙 杨宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期224-228,共5页
用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积 (ECRCVD)法 ,在单晶硅 (10 0 )衬底上沉积生长出了具有 { 2 2 1}结构特性的连续的结晶态 β C3N4 薄膜。使用扫描电镜 (SEM)观测了沉积薄膜的形态 ;采用X射线光电子光谱 (XPS) ,X射线衍射 (XRD)和... 用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积 (ECRCVD)法 ,在单晶硅 (10 0 )衬底上沉积生长出了具有 { 2 2 1}结构特性的连续的结晶态 β C3N4 薄膜。使用扫描电镜 (SEM)观测了沉积薄膜的形态 ;采用X射线光电子光谱 (XPS) ,X射线衍射 (XRD)和拉曼散射表征薄膜的结构。研究表明 ,沉积结晶态 β C3N4 薄膜具有 { 2 2 1}结构特性。 展开更多
关键词 薄膜结构 结晶 氮化碳薄膜
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生成β-C_3N_4的热力学与化学动力学计算
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作者 史兴键 姚合宝 +3 位作者 贺庆丽 王文秀 汪颖梅 何大韧 《扬州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2000年第4期7-10,共4页
提出了磁控溅射法合成碳化氮实验中 β C3N4 ,P C3N4 ,— ( C2 N2 ) n— 3种结构的最可能生长模式 ,采用化学热力学方法计算了生成这 3种结构的反应在不同温度下的平衡常数 ,并用化学动力学方法计算了各中间产物和β C3N4 ,P C3N4 ,— (... 提出了磁控溅射法合成碳化氮实验中 β C3N4 ,P C3N4 ,— ( C2 N2 ) n— 3种结构的最可能生长模式 ,采用化学热力学方法计算了生成这 3种结构的反应在不同温度下的平衡常数 ,并用化学动力学方法计算了各中间产物和β C3N4 ,P C3N4 ,— ( C2 N2 ) n—的化学反应速率常数 .这些结论对β C3N4 晶体生长于非晶相中这一普遍实验现象给予一种可能的解释 . 展开更多
关键词 磁控溅射法 碳化氮薄膜 化学热力学 平衡常数
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热丝辅助射频CVDC3N4薄膜(英文)
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作者 吴现成 贺德衍 +2 位作者 王博 严辉 陈光华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期275-279,共页
采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积 (CVD)方法直接在Si(10 0 )衬底上制备了多晶C3N4 薄膜。X射线衍射 (XRD)测试表明薄膜同时含有α C3N4 和 β C3N4 晶相以及未知结构。傅立叶变换红外吸收谱 (FTIR)表明薄膜内的C—N ,CN和CN... 采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积 (CVD)方法直接在Si(10 0 )衬底上制备了多晶C3N4 薄膜。X射线衍射 (XRD)测试表明薄膜同时含有α C3N4 和 β C3N4 晶相以及未知结构。傅立叶变换红外吸收谱 (FTIR)表明薄膜内的C—N ,CN和CN键的吸收峰分别位于 12 37,16 2 5和2 191cm- 1。利用扫描电子显微镜 (SEM)观测到线度约为 2 μm、横截面为六边形的 β C3N4 晶粒。纳米压痕法测得薄膜的硬度最高可达 72 .6 6GPa。 展开更多
关键词 化学气相沉积 氮化碳薄膜 X射线衍射 扫描电镜 硬度
全文增补中
结晶β-C3N4薄膜的制备和特性研究(英文)
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作者 陈光华 张阳 +1 位作者 朱鹤孙 杨宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期224-228,共页
用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积 (ECRCVD)法 ,在单晶硅 (10 0 )衬底上沉积生长出了具有 { 2 2 1}结构特性的连续的结晶态 β C3N4 薄膜。使用扫描电镜 (SEM)观测了沉积薄膜的形态 ;采用X射线光电子光谱 (XPS) ,X射线衍射 (XRD)和... 用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积 (ECRCVD)法 ,在单晶硅 (10 0 )衬底上沉积生长出了具有 { 2 2 1}结构特性的连续的结晶态 β C3N4 薄膜。使用扫描电镜 (SEM)观测了沉积薄膜的形态 ;采用X射线光电子光谱 (XPS) ,X射线衍射 (XRD)和拉曼散射表征薄膜的结构。研究表明 ,沉积结晶态 β C3N4 薄膜具有 { 2 2 1}结构特性。 展开更多
关键词 β-c3N4薄膜 化学汽相沉积 电子回旋共振等离子体 薄膜结构
全文增补中
微波等离子体化学气相沉积法制备C_3N_4薄膜的结构研究 被引量:5
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作者 张永平 顾有松 +1 位作者 高鸿钧 张秀芳 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第7期1398-1400,共3页
采用微波等离子体化学气相沉积法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶Si(10 0 )基片上沉积C3N4薄膜 .利用扫描电子显微镜观察薄膜形貌 ,表明薄膜由密排的六棱晶棒组成 .X射线衍射和透射电子显微镜结构分析说明该... 采用微波等离子体化学气相沉积法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶Si(10 0 )基片上沉积C3N4薄膜 .利用扫描电子显微镜观察薄膜形貌 ,表明薄膜由密排的六棱晶棒组成 .X射线衍射和透射电子显微镜结构分析说明该薄膜主要由β C3N4和α C3N4组成 ,并且这些结果与α C3N4相符合较好 .由虎克定律近似关系式计算了α 和β C3N4的傅里叶变换红外光谱和Raman光谱 ,实验结果支持C—N共价键的存在 . 展开更多
关键词 微波等离子体 化学气相沉积法 c3n4薄膜 结构研究
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氮化碳涂层刀具干切削性能的研究 被引量:3
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作者 杨海东 张崇高 《工具技术》 北大核心 2004年第9期91-92,141,共3页
采用dc反应磁控溅射法在硬质合金 (YT15 )上沉积氮化碳超硬涂层 ,将其应用于干切削领域 ,通过对硅铝合金和淬火钢的干式切削试验 ,研究了氮化碳涂层刀具的切削加工性能。切削试验表明 ,在干式切削加工硅铝合金时可以达到较高的表面粗糙... 采用dc反应磁控溅射法在硬质合金 (YT15 )上沉积氮化碳超硬涂层 ,将其应用于干切削领域 ,通过对硅铝合金和淬火钢的干式切削试验 ,研究了氮化碳涂层刀具的切削加工性能。切削试验表明 ,在干式切削加工硅铝合金时可以达到较高的表面粗糙度 ,完全能满足生产要求 ;在淬火钢加工中 ,与未涂层的刀具相比 。 展开更多
关键词 涂层刀具 干切削 干式切削 淬火钢 氮化碳 硅铝合金 刀具寿命 研究 性能 沉积
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新型半导体薄膜材料的制备、结构和特性研究
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作者 陈光华 《兰州大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期22-26,共5页
主要介绍了研究所近20 年来在新型薄膜半导体材料的制备、结构及特性研究方面所取得的成就,尤其是对非晶硅碳和非晶硅锗( a  Si C∶ H 和a  Si Ge∶ H)薄膜、金刚石和类金刚石薄膜、立方氮化硼( c  B N)薄... 主要介绍了研究所近20 年来在新型薄膜半导体材料的制备、结构及特性研究方面所取得的成就,尤其是对非晶硅碳和非晶硅锗( a  Si C∶ H 和a  Si Ge∶ H)薄膜、金刚石和类金刚石薄膜、立方氮化硼( c  B N)薄膜、β C3 N4 薄膜和富勒烯薄膜的研究工作取得了重要成果,不少工作已达到国际先进水平,发表论文300 展开更多
关键词 半导体薄膜 立方氮化硼薄膜 非晶硅 制备 结构
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