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C掺杂方式对TiAlSiN膜层组织及性能的影响
被引量:
8
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作者
王彦峰
李争显
+2 位作者
华云峰
王宝云
杜继红
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期32-34,38,共4页
采用电弧离子镀与磁控溅射联合沉积技术,以不同的C掺杂方式在高速钢基体表面制备了C/TiAlSiN多元复合硬质膜层,对膜层的成分、组织结构、显微硬度及摩擦磨损性能进行了表征,并与相同条件下制备的未掺杂TiAlSiN膜进行了对比。结果表明,...
采用电弧离子镀与磁控溅射联合沉积技术,以不同的C掺杂方式在高速钢基体表面制备了C/TiAlSiN多元复合硬质膜层,对膜层的成分、组织结构、显微硬度及摩擦磨损性能进行了表征,并与相同条件下制备的未掺杂TiAlSiN膜进行了对比。结果表明,不同的掺杂方式使得膜层的组织与性能不同,在TiAlSiN硬质膜层的制备过程中实施C掺杂,能够显著优化该膜层体系的组织结构及显微硬度,并大大改善其摩擦磨损性能。
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关键词
c
掺杂
TiAlSiN硬质膜层
显微组织
摩擦性能
下载PDF
职称材料
题名
C掺杂方式对TiAlSiN膜层组织及性能的影响
被引量:
8
1
作者
王彦峰
李争显
华云峰
王宝云
杜继红
机构
西北有色金属研究院
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期32-34,38,共4页
文摘
采用电弧离子镀与磁控溅射联合沉积技术,以不同的C掺杂方式在高速钢基体表面制备了C/TiAlSiN多元复合硬质膜层,对膜层的成分、组织结构、显微硬度及摩擦磨损性能进行了表征,并与相同条件下制备的未掺杂TiAlSiN膜进行了对比。结果表明,不同的掺杂方式使得膜层的组织与性能不同,在TiAlSiN硬质膜层的制备过程中实施C掺杂,能够显著优化该膜层体系的组织结构及显微硬度,并大大改善其摩擦磨损性能。
关键词
c
掺杂
TiAlSiN硬质膜层
显微组织
摩擦性能
Keywords
c incorporatin
TiAlSiN hard
c
oating
mi
c
rostru
c
ture
wearing properties
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
C掺杂方式对TiAlSiN膜层组织及性能的影响
王彦峰
李争显
华云峰
王宝云
杜继红
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
8
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职称材料
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