靶基距对C/Cr复合镀层厚度影响的研究

以四靶闭合场非平衡磁控溅射方法制备C/Cr镀层,用球痕法测量镀层厚度,研究了镀层厚度及均匀性随靶基距的变化规律,并探讨了靶基距影响镀层厚度的机理。结果表明:靶基距对镀层厚度有明显影响;镀层厚度随靶基径向距增大而显著减小,随靶基轴向距的增加变化不大;试样放置位置越靠近真空室中心区域,镀层厚度均匀性越好;磁场空间分布和粒子迁移中的散射碰撞是导致靶基距影响镀层厚度的主要原因。

本底真空度对非平衡磁控溅射C/Cr复合镀层性能的影响

采用非平衡磁控溅射在GW93镁合金表面制备了镀C/Cr复合镀层,分析了不同本底真空度下在GW93镁合金表面进行非平衡磁控溅射镀C/Cr复合镀层的硬度、耐蚀性、膜基结合力,摩擦系数等。结果表明,非平衡磁控溅射镀C/Cr复合膜层,本底真空度在8.8×10-3～1.0×10-1Pa范围内,镀层硬度与本底真空度成反比,当其为8.8×10-3Pa时,镀层硬度最低为1397Hv0.05,镀层使基体自腐蚀电位提高到-0.940V,显著改善镁合金的耐蚀性,结合力最高可达8.11N,镀层的摩擦系数最低达到0.05。本底真空度对C/Cr复合镀层相组成没有显著影响,不同真空度下的C/Cr复合镀层均以非晶为主。

Cr靶电流对磁控溅射C/Cr复合镀层性能和结构的影响

使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了C/Cr复合镀层,并研究了Cr靶电流对C/Cr复合镀层摩擦学性能的影响规律。采用XPS检测了C/Cr复合镀层的化学成分,采用XRD分析了镀层的晶相结构,采用SEM观察了镀层的表面和断口形貌。实验结果表明:使用较小的Cr靶电流能改善镀层表面质量,降低镀层摩擦系数;Cr靶电流过大时,镀层的性能明显下降。

排球收纳车基材表面化学镀Ni-P/Cr3C2复合镀层

在排球收纳车用Q235钢表面制备了化学镀Ni-P/Cr3C2复合镀层,并对化学镀Ni-P/Cr3C2复合镀层的厚度、表面粗糙度、硬度、耐蚀性及表面形貌进行了分析。结果表明:化学镀NiP/Cr3C2复合镀层的厚度和表面粗糙度分别约为8μm和0.835μm,满足中度腐蚀环境的要求。化学镀Ni-P/Cr3C2复合镀层呈现出块状颗粒形貌,颗粒之间夹杂着碳化铬,大大提高了化学镀NiP/Cr3C2复合镀层的硬度和耐蚀性。