C量子点修饰BiVO_4纳米片的制备及可见光裂解水性能的增强

通过在BiVO_4水热合成过程中改变形貌控制剂乙二胺四乙酸(EDTA)或十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),调节BiVO_4的形貌,暴露活性晶面。加入葡萄糖,引入C量子点(CQDs),进一步提高其可见光催化裂解水性能。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)和X线衍射仪(XRD)分别对样品进行形貌与物相结构的表征。结果表明:当形貌控制剂为EDTA时,C量子点修饰的暴露活性晶面的BiVO_4纳米片被成功合成,该纳米片宽度为0.7~10μm,厚度约为100 nm;当葡萄糖的量为1 g时,所制得样品具有很强的可见光催化性能,是没有C量子点修饰样品的7倍。