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离子束溅射制备立方C—N化合物
1
作者
王天生
于栋利
+3 位作者
田永君
何巨龙
李东春
李林
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第11期1201-1204,共4页
用氮离子束分别原位溅射 Ti和石墨靶的方法制备了 CNx/TiNy多层膜用 X射线光电子谱分析 CNx层中 C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和 X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明, CNx层中...
用氮离子束分别原位溅射 Ti和石墨靶的方法制备了 CNx/TiNy多层膜用 X射线光电子谱分析 CNx层中 C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和 X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明, CNx层中主要有 N—sp2C和 N—sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的 C-N化合物尺寸为 10-60nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定.证实了该薄膜中存在立方
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关键词
c-n
化合物
离子束溅射
制备
立方结构
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职称材料
题名
离子束溅射制备立方C—N化合物
1
作者
王天生
于栋利
田永君
何巨龙
李东春
李林
机构
燕山大学材料科学与化学工程学院
中国科学院物理研究所
出处
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第11期1201-1204,共4页
基金
河北省自然科学基金资助项目! 566194
文摘
用氮离子束分别原位溅射 Ti和石墨靶的方法制备了 CNx/TiNy多层膜用 X射线光电子谱分析 CNx层中 C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和 X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明, CNx层中主要有 N—sp2C和 N—sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的 C-N化合物尺寸为 10-60nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定.证实了该薄膜中存在立方
关键词
c-n
化合物
离子束溅射
制备
立方结构
Keywords
c-n compound
,
ion beam sputtering
分类号
TB43 [一般工业技术]
TB321 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
离子束溅射制备立方C—N化合物
王天生
于栋利
田永君
何巨龙
李东春
李林
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
0
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