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离子束溅射制备立方C—N化合物
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作者 王天生 于栋利 +3 位作者 田永君 何巨龙 李东春 李林 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期1201-1204,共4页
用氮离子束分别原位溅射 Ti和石墨靶的方法制备了 CNx/TiNy多层膜用 X射线光电子谱分析 CNx层中 C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和 X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明, CNx层中... 用氮离子束分别原位溅射 Ti和石墨靶的方法制备了 CNx/TiNy多层膜用 X射线光电子谱分析 CNx层中 C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和 X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明, CNx层中主要有 N—sp2C和 N—sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的 C-N化合物尺寸为 10-60nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定.证实了该薄膜中存在立方 展开更多
关键词 c-n化合物 离子束溅射 制备 立方结构
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