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硅MOS结构C-t瞬态分析中产生区宽度的新模型 被引量:1
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作者 丁扣宝 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期303-305,共3页
在分析已有的半导体表面产生区宽度模型的基础上 ,提出了可用于产生寿命直接计算且精度较高的产生区宽度新模型 ,它也可以看作是对 Zerbst模型的一种修正 .新模型的标准偏差小于 Pierret模型的标准偏差 .实验数据的分析表明 ,用该模型... 在分析已有的半导体表面产生区宽度模型的基础上 ,提出了可用于产生寿命直接计算且精度较高的产生区宽度新模型 ,它也可以看作是对 Zerbst模型的一种修正 .新模型的标准偏差小于 Pierret模型的标准偏差 .实验数据的分析表明 ,用该模型得到的产生寿命值与 展开更多
关键词 半导体 产生区宽度模型 MOS结构 c-t瞬态分析
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