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硅MOS结构C-t瞬态分析中产生区宽度的新模型
被引量:
1
1
作者
丁扣宝
《浙江大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第3期303-305,共3页
在分析已有的半导体表面产生区宽度模型的基础上 ,提出了可用于产生寿命直接计算且精度较高的产生区宽度新模型 ,它也可以看作是对 Zerbst模型的一种修正 .新模型的标准偏差小于 Pierret模型的标准偏差 .实验数据的分析表明 ,用该模型...
在分析已有的半导体表面产生区宽度模型的基础上 ,提出了可用于产生寿命直接计算且精度较高的产生区宽度新模型 ,它也可以看作是对 Zerbst模型的一种修正 .新模型的标准偏差小于 Pierret模型的标准偏差 .实验数据的分析表明 ,用该模型得到的产生寿命值与
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关键词
半导体
产生区宽度模型
硅
MOS结构
c-t瞬态分析
下载PDF
职称材料
题名
硅MOS结构C-t瞬态分析中产生区宽度的新模型
被引量:
1
1
作者
丁扣宝
机构
浙江大学信息与电子工程系
出处
《浙江大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第3期303-305,共3页
文摘
在分析已有的半导体表面产生区宽度模型的基础上 ,提出了可用于产生寿命直接计算且精度较高的产生区宽度新模型 ,它也可以看作是对 Zerbst模型的一种修正 .新模型的标准偏差小于 Pierret模型的标准偏差 .实验数据的分析表明 ,用该模型得到的产生寿命值与
关键词
半导体
产生区宽度模型
硅
MOS结构
c-t瞬态分析
Keywords
semiconductor
MOS structure
generation width model
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅MOS结构C-t瞬态分析中产生区宽度的新模型
丁扣宝
《浙江大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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职称材料
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