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d(TC_n)序列形成i-Motif四聚体的电喷雾质谱分析
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作者 秦玉娇 魏士刚 +2 位作者 刘振爽 汪兵 国新华 《分析化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第6期932-935,共4页
富含胞嘧啶(C)的DNA序列d(TCn)能通过C和质子化CH+氢键之间的相互作用形成平行的双链结构,两条质子化双链从头到尾插入,进一步形成反平行i-Motif四链结构。利用电喷雾质谱在乙酸-乙酸铵缓冲溶液中研究了样品浓度、缓冲液的浓度、溶液的p... 富含胞嘧啶(C)的DNA序列d(TCn)能通过C和质子化CH+氢键之间的相互作用形成平行的双链结构,两条质子化双链从头到尾插入,进一步形成反平行i-Motif四链结构。利用电喷雾质谱在乙酸-乙酸铵缓冲溶液中研究了样品浓度、缓冲液的浓度、溶液的pH值及d(TCn)序列中C的长度(n=3,4,5,6)对d(TCn)形成四分子i-Motif结构影响。结果显示:d(TC5)序列在pH 4.0~5.0,甲醇含量为30%,浓度为20mmol/L醋酸-醋酸铵缓冲溶液中形成四聚体准分子离子强度最高。对于所研究的d(TCn)序列,序列长度(n)越大,形成四分子i-Motif离子的相对强度越高。 展开更多
关键词 电喷雾离子阱质谱 四聚体i-Motif结构 d(Tcn)序列 c.ch+碱基对
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