C3N4／Mn多层复合超硬薄膜

该C3N4／Mn多层复合超硬薄膜包括Mn过渡层、C3N4／Mn主耐磨层和Mn表面减磨层，具有很高的显微硬度。

C＊N＊／MN多层复合超硬薄膜及合成装置及方法

本发明公开了一种C3N4／MN多层复合超硬薄膜以及合成此膜的装置和广方法，该膜包括NM过渡层，C3N4／MN主耐磨层和MN表面减磨层，具有很高的显微硬度，采用本发明的装置和方法制备该膜，时间短，效率高，合成成本低，其显微镜硬度高达40－55MPa，因此在高速工具钢和其他耐磨涂层工件上镀制氮化碳超硬薄膜，具有很大的实用价值。

Ti-Si-N复合膜的界面相研究

为了揭示Ti_Si_N复合膜中Si3N4界面相的存在方式及其对薄膜力学性能的影响,采用x射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、俄歇电子能谱仪和显微硬度仪对比研究了磁控溅射Ti_Si_N复合膜和TiN/Si3N4多层膜的微结构和力学性能.实验结果表明,Ti_Si_N复合膜均形成了Si3N4界面相包裹TiN纳米晶粒的微结构.其中低Si含量的Ti_Si_N复合膜中Si3N4界面相的厚度小于1nm,且以晶体态存在,薄膜呈现高硬度.而高Si含量的Ti_Si_N复合膜中的Si3N4界面相以非晶态存在,薄膜的硬度也相应降低.显然,Ti_Si_N复合膜中Si3N4界面相以晶体态形式存在是薄膜获得高硬度的重要微结构特征,其强化机制可能与多层膜的超硬效应是相同的.