CCD成像器件用P型外延材料的工艺研究

CCD成像器件作为大面阵高集成度器件,对外延材料的均匀性,特别是P型材料的电阻率均匀性,提出更高要求。本文主要介绍了CCD成像器件用硅外延片的一种实用生产工艺,利用PE-3061D平板式外延炉在6英寸、<100>晶向、电阻率小于0.02Ω·cm的重掺B硅衬底上化学气相沉积(CVD)所需硅外延层。通过C-V测试方法对外延材料的电阻率均匀性进行测试分析,通过变流量吹扫和提高赶气温度的工艺方法显著提高外延材料的均匀性,最终得到满足CCD成像器件设计要求的P/P+结构硅外延片。

脉冲激光对CCD成像器件的破坏机理研究

针对脉冲激光辐照CCD造成其输出图像出现不可恢复的白色亮线和全场黑屏的破坏现象,通过测量驱动电极与衬底之间的阻值,观察光斑区域不同分层的破坏形貌和检测输出波形等方法,研究了CCD的破坏机理。研究表明:高能量的脉冲激光造成了CCD各分层不同程度的熔融烧蚀,使暗电流和漏电流大幅增加,导致了CCD的破坏。

一种基于工业级CCD器件的高性能制冷CCD成像组件

随着CCD器件的发展,采用工业级CCD器件研制高性能制冷CCD成像系统成为一个重要的发展方向。从高性能CCD成像和高性能微光ICCD成像应用需求出发,研制了一种基于工业级CCD器件的高性能制冷型数字视频CCD成像组件;介绍了成像组件在高性能大面阵CCD器件、低噪声驱动电路、小型化低功耗制冷技术以及特殊的制冷腔结构等方面的设计特点,指出成像组件对进一步发展高性能CCD成像系统具有积极的促进作用,在军事、工业、生物医学和科学研究领域具有广泛的应用前景。

CCD类成像器件的噪声研究

CCD图像传感器的输出信号是空间采样的离散模拟信号,其中夹杂着各种噪声和干扰。对CCD信号进行处理的目的就是在不损失图像细节的前提下,尽可能地消除噪声和干扰,以提高信噪比,获取高质量的图像。为此,必须对CCD的噪声种类和特性有所了解,并针对各种噪声进行相应的去噪处理。所以对CCD成像器件噪声部分的研究,有利于提高CCD成像器件的分辨率,也能提高探测微弱光的能力。

激光热度仪光学系统设计

激光测温具有测量精度高、响应速度快、非接触、远距离测量的特点,在工农业生产、科学实验等领域得到了广泛应用。本文设计了一种三通道激光测温光学系统,系统由激光指示、红外接收和成像光学系统三部分组成,光学转像系统采用三通道斜方棱镜系统具有结构紧凑、重量轻、体积小等优点。光学系统参数为:成像系统入瞳直径D=16mm,焦距f′=35mm,视场角2ω=3°;三通道斜方棱镜转像系统长90mm,宽30mm;激光器工作波段532nm。

焦截距测量仪的数字化改进

本文为了提高镜头和镜片焦截距测量效率和精度，采用了CCD成像器件代替传统焦截距测量仪测微目镜，后端采用软件进行处理，通过校正分析，用CCD成像器件改造后焦截距测量仪满足设计要求，达到预期目的，具有工程应用实际意义。

脉冲激光辐照CCD探测器的热损伤机理

采用扫描电子显微镜和显微拉曼光谱仪研究了受脉冲激光损伤的CCD的形貌和光谱特性。在损伤表面上得到CCD各层的形貌，比较出不同层受激光损伤的先后次序，观察到感光区附近遮光层和多晶硅电极的破坏，研究深入到单个像素尺度；在截面上测得损伤区内部硅材料拉曼光谱特征峰红移，判定内部硅材料发生熔融，并造成表面多晶硅电极和基底短路，解释了CCD受皮秒激光热损伤完全失效的机理。

无心插柳柳成荫——为CCD的发明者获2009年诺贝尔物理学奖而作

诺贝尔物理学奖极少授予技术类发明，而CCD成像器件为何能在2009年获此殊荣？初生牛犊的它当年如何在“哈勃”望远镜图像探测器的竞争中脱颖而出？它又是如何在天文研究领域大显身手？这一切都要从一个“无心插柳柳成荫”的故事说起。

VCC-H30P Ⅰ彩色视频会议摄像机

VCC-H30P Ⅰ彩色视频会议摄像机采用USB接口连接PC可直接观看视频图像，操作控制灵活，1／4“Super HAD CCD成像器件，加上全方位360度手动控制云台，可全方位查看周围环境。

汉锐软视频会议专用摄像机VCC-H30AP全面升级

汉锐的软视频会议专用摄像机VCC—H30AP全面升级，采用USB接口连接PC可直接观看视频采集图像，操作控制灵活,采用1／4”Super HAD CCD成像器件,加上全方位360度手动控制云台，可全方位查看周围环境。