Cu_(2)O/CF电极的制备及其电还原硝酸盐

对比了原位生长法和电沉积法在泡沫铜(CF)上制备的s-Cu_(2)O/CF和e-Cu_(2)O/CF电极应用于电化学还原NO_(3)的性能.在0.05mol/L Cl-和100mg/L NO_(3)-N的初始条件下,s-Cu_(2)O/CF电极对NO_(3)的去除率为92.1%,N2选择性为81.1%.循环伏安法(CV)和线性扫描伏安法(LSV)表明,电化学还原NO_(3)是通过NO_(3)和源自CF的Cu^(0)之间的电子转移实现的.原位生长的Cu_(2)O作为双功能催化剂､电子中介或桥梁,不仅可以促进NO_(3)还原还可以产生还原性氢(H*),进一步促进NO_(2)向NH_(4)^(+)和N_(2)转化.同时,经过8次循环实验,s-Cu_(2)O/CF仍保持其电催化活性.最后,为了评估s-Cu_(2)O/CF阴极的实际应用潜力,采用Ir-Ru/Ti阳极预氧化､s-Cu_(2)O/CF阴极后还原两阶段处理策略,对实际废水化学需氧量(COD)和总氮(TN)的去除率达到了93.6%和75.2%.

CH_3CF_2O_2与HO_2自由基反应机理的理论研究

用密度泛函理论(DFT)的B3LYP方法,在6-311G、6-311+G(d)、6-311++G(d,p)基组水平上研究了CH3CF2O2与HO2自由基反应机理.结果表明,CH3CF2O2与HO2自由基反应存在两条可行的通道.通道CH3CF2O2+HO2邛IM1邛TS1邛CH3CF2OOH+O2的活化能为77.21kJ·mol-1,活化能较低,为主要反应通道,其产物是O2和CH3CF2OOH.这与实验结果是一致的;而通道CH3CF2O2+HO2邛IM2邛TS2邛IM3邛TS3邛IM4+IM5邛IM4+TS4邛IM4+OH+O2邛TS5+OH+O2邛CH3+CF2O+OH+O2邛CH3OH+CF2O+O2的控制步骤活化能为93.42kJ·mol-1,其产物是CH3OH、CF2O和O2.结果表明这条通道也能发生,这与前人的实验结果一致.

低温基质隔离红外光谱和从头算研究CF_2O…IF

在10K Ar和Xe基质中测得CF_2O…IF的两种分子间配合物A和B的红外光谱,观察到A和B之间的异构化反应.采用量子化学从头计算,在MP_2/LANL2DZ水平上计算得到A和B的平衡构型的结构参数和振动频率.IF与CF_2O的相互作用引起CF_2O的C(?)O双键伸长、C—F键缩短,导致v_C=O的红移和V_(CF_2)的蓝移.由势能曲线可看出,A的势能比B高23kJ/mol,表明B比A稳定,升温能够发生A向B的转化.

PMMA人工晶状体表面的CF4/O2等离子体修饰

为了改善聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)人工晶状体的生物相容性和透光性,采用CF4/O2等离子体技术修饰其表面.通过衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、静态接触角(CA)测定、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见近红外光谱(UV-Vis)等方法进行表征,结果表明,经CF4/O2等离子体处理后,PMMA表面的含氟和含氧基团增加,其表面的亲水性增强,生物相容性改善,紫外光的隔离效率增大.因此,通过CF4/O2等离子体修饰能够有效地改善PMMA人工晶状体的性质.

CF_3O_2自由基和NO反应机理的理论研究

用密度泛函理论(DFT)的B3LYP方法,分别在6-31G、6-311G、6-311+G(d)基组水平上研究了CF3O2自由基和NO反应机理.研究结果表明,CF3O2自由基和NO反应存在三条可行的反应通道,优化得到了相应的中间体和过渡态.从活化能看,通道CH3O2+NO→IM1→TS1→IM2→TS2→CF3O+ONO的活化能最低,仅为70.86kJ·mol-1,是主要反应通道,主要产物是CF3O和NO2.而通道CH3O2+NO→IM1→TS3→CF3ONO2和CH3O2+NO→TS4→IM3→TS5→IM4→TS6→CF3O+NOO的活化能较高,故该反应难以进行.

CF表面Al_2O_3涂层及CF/Al_2O_3/HA复合材料的研究

为缓解在制备碳纤维(CF)增强羟基磷灰石(HA)复合材料过程中CF的氧化损坏,采用溶胶-凝胶法配置的浓度为0.4 mol/L的溶胶能在CF表面制备厚度适中、形貌均匀的Al_2O_3抗氧化保护涂层.该涂层将在复合材料烧结过程中对CF起到保护作用,防止CF的氧化损伤,且当复合材料中Al_2O_3-CF的添加量为0.5wt%时其抗弯强度达到最佳7.31±0.05MPa,一定程度上改善了CF/HA复合材料的力学性能.

短纤维取向对Al_2O_(3f)+C_f/ZL109复合材料干滑动摩擦磨损性能的影响

利用挤压铸造法制备了 Al2 O3 f+Cf/ZL10 9短纤维混杂金属基复合材料 ,并利用统计学方法对比研究了在滑动速度 0 .837m/s、载荷 196 N条件下纤维取向对该混杂复合材料干滑动摩擦磨损性能的影响 .结果表明 :在纤维平行取向和垂直取向时 ,该混杂复合材料的磨损率和摩擦系数均服从正态分布 ;平行取向情况下磨损率均值大于垂直取向下的磨损率 ,而摩擦系数均值小于垂直取向 ;纤维垂直取向有利于复合材料耐磨性能的提高 。

碳纤维在复合材料中的作用

利用挤压铸造法制备Al2O3f+Cf/ZL109短纤维混杂筒形金属基复合材料,探讨Al2O3纤维体积分数为10%时,碳纤维在该混杂复合材料中的作用。

SU-8光刻胶去胶工艺研究

SU-8光刻胶因具有良好的机械耐久性、聚合物水密性、介电性能、生物兼容性和抗化学腐蚀性而被广泛用于MEMS器件、生物医学和芯片封装等领域。现有制作工艺中,在不损伤器件的同时完全去除和剥离SU-8光刻胶仍是一个难题。文章研究了一种基于O2/CF4等离子刻蚀配合湿法刻蚀的去除方法,实现了SU-8光刻胶在硅基底、非晶无机非金属材料、电镀金属等材料上的有效去除。

CF4和O2等离子体刻蚀改善氮化硅薄膜形貌研究

探讨PA工艺因介电层高低差发生金属线路内部断裂的改善方案。以不同光刻条件和刻蚀条件为基础,对介电层(Si3N4)进行ICP刻蚀。研究表明,增加曝光焦距,刻蚀完的侧壁倾斜角改变不大;而光刻胶对氮化硅的刻蚀选择比越高,刻蚀完氮化硅侧壁斜角变化越大。当光刻胶对氮化硅的刻蚀选择比为2.4时,刻蚀完氮化硅的侧壁斜角可控制在45°~65°。

磁性Spinel型Fe-Mn氧化物/碳布纤维光催化降解磺胺废水研究

采用一步水热法制备了磁性Spinel型Fe-Mn氧化物/碳布纤维(FeMn2O4/CF)作为光催化剂,在可见光照射下光催化降解制药废水磺胺。考察了催化剂用量、磺胺初始浓度及初始pH值等因素,及催化剂的循环再利用性能,表明FeMn2O4/CF具有良好的催化降解性能。说明Spinel型材料在环境制药废水的处理中具有优异的发展前景。

一类特殊的二氟甲氧基三苯环超级氟液晶合成

合成了1种超氟液晶化合物--[3-氟4-(三氟甲基苯氧基)二氟甲基]-4′-(4-烷基-3,5,2′,6′-四氟联苯),介绍了这些化合物的合成方法与相变现象,特别是3-氟-4-三氟甲基取代基团对液晶化合物的液晶性质的影响,利用热台偏光显微镜及差示扫描量热法测定了液晶相的指定及相变温度。结果表明,制备CF2O关键的一步反应是利用氟化合物与CF2Br2及正丁基锂在-70℃温度下进行。目标化合物在室温时呈流体状态,他们与其他液晶化合物有良好的混溶性。