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新型相变材料Ti_(0.5)Sb_2Te_3刻蚀工艺及其机理研究
1
作者
张徐
刘波
+6 位作者
宋三年
姚栋宁
朱敏
饶峰
吴良才
宋志棠
封松林
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第12期1364-1368,共5页
采用CF4和Ar混合气体研究了新型相变材料Ti0.5Sb2Te3(TST)的刻蚀特性,重点优化和研究了刻蚀气体总流速、CF4/Ar的比例、压力和功率等工艺参数对刻蚀形貌的影响。结果表明,当气体总流量为50 sccm、CF4浓度为26%﹑刻蚀功率为400 W和刻蚀...
采用CF4和Ar混合气体研究了新型相变材料Ti0.5Sb2Te3(TST)的刻蚀特性,重点优化和研究了刻蚀气体总流速、CF4/Ar的比例、压力和功率等工艺参数对刻蚀形貌的影响。结果表明,当气体总流量为50 sccm、CF4浓度为26%﹑刻蚀功率为400 W和刻蚀压力为13.3 Pa时,刻蚀速度达到126 nm/min,TST薄膜刻蚀图形侧壁平整而且垂直度好(接近90°)﹑刻蚀表面平整(RMS为0.82 nm)以及刻蚀的片内均匀性等都非常好。
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关键词
新型相变材料
干法刻蚀
cf
4
+
ar
气体
刻蚀速度
下载PDF
职称材料
题名
新型相变材料Ti_(0.5)Sb_2Te_3刻蚀工艺及其机理研究
1
作者
张徐
刘波
宋三年
姚栋宁
朱敏
饶峰
吴良才
宋志棠
封松林
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中国科学院大学
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第12期1364-1368,共5页
基金
国家重点基础研究发展计划(2010CB934300
2011CBA00607)
+4 种基金
国家自然科学基金(61006087
61076121
61076122
61106001)
上海市科委(12nm0503701)~~
文摘
采用CF4和Ar混合气体研究了新型相变材料Ti0.5Sb2Te3(TST)的刻蚀特性,重点优化和研究了刻蚀气体总流速、CF4/Ar的比例、压力和功率等工艺参数对刻蚀形貌的影响。结果表明,当气体总流量为50 sccm、CF4浓度为26%﹑刻蚀功率为400 W和刻蚀压力为13.3 Pa时,刻蚀速度达到126 nm/min,TST薄膜刻蚀图形侧壁平整而且垂直度好(接近90°)﹑刻蚀表面平整(RMS为0.82 nm)以及刻蚀的片内均匀性等都非常好。
关键词
新型相变材料
干法刻蚀
cf
4
+
ar
气体
刻蚀速度
Keywords
new phase change material
dry etching
cf
4
/
ar
gas mixture
etch rate
分类号
TQ174 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
新型相变材料Ti_(0.5)Sb_2Te_3刻蚀工艺及其机理研究
张徐
刘波
宋三年
姚栋宁
朱敏
饶峰
吴良才
宋志棠
封松林
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
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职称材料
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