非水电解质浓溶液的热力学研究——HCl-CH_3OH体系的汽液平衡

本文提出了计算挥发性强电解质非水浓溶液汽液平衡的方法,并通过与实测HCl-CH_3OH体系数据的比较加以验证.HCl和CH_3OH在298.15K下的活度系数可用Pitzer和李以圭缔合模型关联到HCl浓度达8mol/kg.在建立模型参数及HCl在CH_3OH中亨利常数的温度关系后,预测101.3kPa下约340K时的汽液平衡关系,结果与本文实测之平衡温度和汽相摩尔分率的平均偏差分别为0.73K和0.0014.

同浓度NaHCO3溶液和CH3COONa溶液pH的比较研究

在高中阶段,同浓度的Na HCO3溶液和CH3COONa溶液的p H比较在高中习题和各地高考题中都多次涉及,但笔者经过多方面实验和计算,发现两者比较存在很多问题,教师编制练习题时应审慎处理。

基于热饱和溶液法CH3NH3PbI3单晶的制备及表征

采用热饱和溶液法,通过调控前驱体溶液1,4-丁内酯中PbI2和CH3NH3I的配比,进而对前驱液100℃进行加热,简单易操作地得到单晶CH3NH3PbI3。计算了不同调控条件下单晶CH3NH3PbI3的产率;利用SEM和XRD对其形貌和结晶度进行表征;通过吸收和荧光光谱对单晶的光谱性能进行表征。结果表明,单晶CH3NH3PbI3的最佳摩尔配比为n(PbI2)∶n(CH3NH3I)=2.3∶1,PbI2最佳浓度为1.229 mmol/mL。

CH3COOH溶液与NaOH溶液中和离子浓度大小的比较突破

水溶液中离子浓度大小的比较是很多考生非常头痛的问题之一。由于许多考生在学习“选修四”时没有完全掌握电离和水解的过程,特别是对众多离子存在时提出的浓度大小判断慌乱无措,这类试题成为高考化学的重要障碍。考生要想从容应对这类试题,就需要抓住核心规律,认真分析其过程,方能力克难题。解决这类问题的基本原则：（1）先分析反应完成后溶液的成分;

醇对络合物TpRu(PPh_3)(CH_3CN)H催化氢化二氧化碳生成甲酸的影响

研究了络合物TpRu(PPh3) (CH3CN)H在甲醇溶液中催化氢化CO2 生成甲酸的最佳条件 ,进一步研究了甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、特丁醇为溶剂时对该络合物催化氢化CO2 生成甲酸的影响 ,提出可能的催化反应机理。

甲醇直接还原高锰酸钾制备纳米Mn_3O_4

甲醇作为一种极易被氧化的物质目前在国内产能严重过剩,是一种优良易得的化工原料。基于此,以CH_3OH和KMnO_4为反应物,采用常压水溶液沉淀法滴加甲醇于高锰酸钾水溶液中反应2 h,控制反应温度70~90℃合成了Mn_3O_4.用XRD和SEM对合成的固体产物进行了表征,结果显示为纯度和结晶度很高的Mn_3O_4纳米颗粒,平均粒径约为60nm。采用紫外-可见分光光度仪,FT-IR光谱仪对合成反应后液相进行了分析,结果表明液相中含有大量CO_3^(2-)存在,说明CH_3OH被氧化成为了CO_2(CO_3^(2-)).并在实验的基础上对该反应形成Mn_3O_4的反应机理进行了分析。

且谈AlCl3与CH3COONa两种溶液混合出现浑浊现象的奥秘

通过“试错”实验——将AlCl3溶液和CH3COONa溶液互相倾倒，难有实验现象出现。如果在过量的、热的CH3COONa溶液中滴入少量的AlCl3溶液，生成白色沉淀A1（OH）3的现象就会立即发生。

酸性溶液预浸对酶法亚麻脱胶及纤维性能的影响

为克服亚麻脱胶过程中酶液向麻茎渗透的屏障，并节约酶用量和缩短脱胶时间，采用弱酸对亚麻原茎进行预处理，再经酶法脱胶，以蒸馏水处理为对照，考察了CH3COOH、NaH2PO4/H3PO4、H2SO4和H3PO4溶液预浸处理对亚麻原茎质量损失率及纤维分离程度的影响。

5-硝基水杨酸锌水分测定方法

以CH3OH-NH3溶液为溶剂,用费休氏法测定5硝基水杨酸锌中的水分。方法快速,结果准确,对类似有机金属药物中水分的测定有所借鉴。

磺胺嘧啶锌水分测定方法的改进

以 CH3OH- NH3溶液为溶剂 ,用费休氏法对磺胺嘧啶锌的水分进行测定。方法快速 ,结果准确 ,优于常规费休氏法。为类似有机金属药物中水分的测定提供了新的方法。

5-氨基水杨酸锌水分测定方法的改进

以CH3OH-NH3溶液为溶剂,用费休氏法对5-氨基水杨酸锌的水分进行测定.方法快速,结果准确,优于常规费休氏法.为类似有机金属药物中水分的测定提供了新的方法.

卡尔费休滴定法测定有机锌盐类药物中的水分

以CH3OH-NH3溶液为溶剂,用卡尔-费休滴定法测定有机锌盐类药物中的水分,方法快速,结果准确,对类似有机金属药物和精细石油化工产品中水分的测定有所借鉴。

无水化学沉积法制备Sb_2S_3薄膜

采用无水化学沉积(NCBD)法在玻璃基片上制备了Sb2S3薄膜.先用无水乙醇将4.0 mL浓度为0.1 mol/L的SbCl3乙醇溶液稀释至39.6 mL,再加入0.4 mL浓度为0.5 mol/L的CH3CSNH2乙醇溶液,搅拌均匀后垂直放入玻璃基片,在15～18 ℃温度下沉积72 h后,进行退火处理.利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜在退火前后的结构特性进行了研究,利用光学测试计算了薄膜的光学带隙.结果表明,高温退火使薄膜由退火前的非晶态转变为多晶的Sb2S3结构(正交晶系),薄膜的直接光学带隙从1.86 eV降低为1.75 eV.

面向5 nm CMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究

针对5 nm CMOS技术代亟待解决的纳米线释放难题,通过实验探究了HF(6%)∶H_2O_2(30%)∶CH_3COOH(99.8%)=1∶2∶3的混合溶液放置时间对纳米尺度外延堆叠GeSi/Si/GeSi/Si结构释放影响。混合溶液放置时间在48 h内,GeSi层的腐蚀速率会随着溶液的放置时间的增加而变大,48 h后腐蚀速率趋于稳定。另外,在厚度相同的情况下,Ge Si层的腐蚀速率会随着Ge含量的增加而变大。本文实现了腐蚀纳米尺度GeSi的同时没有对Si造成损伤,对于厚度为31.3 nm的GeSi层,腐蚀的深宽比达到了17∶1,而且没有出现倒塌现象。该湿法腐蚀工艺对于5 nm及以下技术代堆叠纳米线制造、SON结构、新型MEMS和传感器件制造等具有一定的借鉴和指导意义。

苄基胩简便制法

苄基卤、银盐（AgClO4，AgBF4，AgOf）与三甲基氰基硅烷在CH2Cl2中室温反应1h后用NaHCO3水溶液水解得苄基胩，8例收率40％～99％。