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脉冲激光溅射合成八-(甲基硅倍半氧烷) 被引量:1
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作者 周异男 周勇 闫福林 《化学工程师》 CAS 2000年第4期28-29,共2页
以脉冲激光溅射作用于聚甲基硅氧烷 ,经真空升华 ,直接得到了一种产物的单晶。经X -射线晶体衍射测定确定其为具有 (CH3SiO1 5) 8组成的硅氧烷。该种产物具有多环立体空间构型。结果表明 ,在脉冲激光的作用下 ,反应物的链状结构发生解... 以脉冲激光溅射作用于聚甲基硅氧烷 ,经真空升华 ,直接得到了一种产物的单晶。经X -射线晶体衍射测定确定其为具有 (CH3SiO1 5) 8组成的硅氧烷。该种产物具有多环立体空间构型。结果表明 ,在脉冲激光的作用下 ,反应物的链状结构发生解离 ,并在等离子体条件下进行结构重组 。 展开更多
关键词 激光溅射 合成 硅氧烷 脉冲激光 ch3sio1.5
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