CH_4…PH_3体系分子间相互作用的从头算研究

采用MP2方法 ,在不同基组水平上 (3- 2 1G、6 - 31G(d)、6 - 311+G(2d ,2 p) )水平上 ,对CH4…PH3 体系进行了从头算研究 ,给出了复合物的最优构型及其结合能 (BDE) .结果表明该体系有两种稳定构象 ,通过对这两种构象稳定性的分析 ,揭示了空间位阻对构象稳定性的影响 .经计算在MP2 / 6 - 311+G(2d ,2 p)水平上 ,CH4…PH3 体系的结合能为 1.9kJ/mol,考虑基集超位误差校正 (BSSE)后 ,结合能为 1.0kJ/mol.将此结果与其它氢键体系作了比较 ,并分析了产生这种结果的原因 .