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WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET
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作者 刘伟吉 曾庆明 +4 位作者 李献杰 敖金平 赵永林 郭建魁 徐晓春 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第3期190-192,共3页
发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET... 发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET的-3V的阈值基本对称。反向击穿电压为4~5V。 展开更多
关键词 WN/W 难熔栅 chfet HIGFET 场效应晶体管
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