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WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET
1
作者
刘伟吉
曾庆明
+4 位作者
李献杰
敖金平
赵永林
郭建魁
徐晓春
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2000年第3期190-192,共3页
发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET...
发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET的-3V的阈值基本对称。反向击穿电压为4~5V。
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关键词
WN/W
难熔栅
chfet
HIGFET
场效应晶体管
原文传递
题名
WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET
1
作者
刘伟吉
曾庆明
李献杰
敖金平
赵永林
郭建魁
徐晓春
机构
信息产业部电子第十三研究所
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2000年第3期190-192,共3页
基金
国防科技预研基金项目资助!(课题号:98J8.4.3)
文摘
发展了WN/W难熔栅自对准工艺。WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌。在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管。在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V。与p型HFET的-3V的阈值基本对称。反向击穿电压为4~5V。
关键词
WN/W
难熔栅
chfet
HIGFET
场效应晶体管
Keywords
WN/W
Anisotype- gate
chfet
HIGFET
分类号
TN386.6 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET
刘伟吉
曾庆明
李献杰
敖金平
赵永林
郭建魁
徐晓春
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2000
0
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参考文献
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