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Difference in electron-and gamma-irradiation effects on output characteristic of color CMOS digital image sensors
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作者 MENGXiangti KANGAiguo +5 位作者 ZHANGXimin LIJihong HUANGQiang LIFengmei LIUXiaoguang ZHOUHongyu 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2004年第2期165-170,共6页
Changes of the average brightness and non-uniformity of dark output images,and quality of pictures captured under natural lighting for the color CMOS digital image sensorsirradiated at different electron doses have be... Changes of the average brightness and non-uniformity of dark output images,and quality of pictures captured under natural lighting for the color CMOS digital image sensorsirradiated at different electron doses have been studied in comparison to those from theγ-irradiated sensors. For the electron-irradiated sensors, the non-uniformity increases obviouslyand a small bright region on the dark image appears at the dose of 0.4 kGy. The average brightnessincreases at 0.4 kGy, increases sharply at 0.5 kGy. The picture is very blurry only at 0.6 kGy,showing the sensor undergoes severe performance degradation. Electron radiation damage is much moresevere than γ radiation damage for the CMOS image sensors. A possible explanation is presented inthis paper. 展开更多
关键词 semiconductor technology irradiation damage electron and gamma irradiation color cmos image sensor output characteristic SI
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CMOS图像传感器辐射敏感参数测试电路设计及试验验证
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作者 王祖军 聂栩 +4 位作者 唐宁 王兴鸿 尹利元 晏石兴 李传洲 《半导体光电》 CAS 北大核心 2024年第2期216-221,共6页
以航天领域广泛应用的CMV4000型CMOS图像传感器(CIS)为研究对象,通过开展CIS辐射敏感参数测试电路设计,将CIS辐照电路板与测试电路板中FPGA数据采集及传输板分离,辐照电路板与测试电路板通过接插口通信,从而实现开展辐照试验时对FPGA数... 以航天领域广泛应用的CMV4000型CMOS图像传感器(CIS)为研究对象,通过开展CIS辐射敏感参数测试电路设计,将CIS辐照电路板与测试电路板中FPGA数据采集及传输板分离,辐照电路板与测试电路板通过接插口通信,从而实现开展辐照试验时对FPGA数据采集部分进行辐射屏蔽防护,避免FPGA数据采集板受到辐射影响。开展了CIS测试电路中的电源模块、数据采集、存储模块、外围电路等设计及PCB版图的布局布线设计。采用VerilogHDL硬件描述语言对各个功能模块进行驱动时序设计,实现CIS辐射敏感参数测试功能。通过开展CMV4000型CIS ^(60)Coγ射线辐照试验,分析了平均暗信号、暗信号非均匀性、暗信号分布等辐射敏感参数随总剂量增大的退化规律,验证了CIS辐射敏感参数测试系统的可靠性。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 测试电路设计 辐照试验 辐照损伤效应 辐射敏感参数
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A study of radiation effects of 9 and 12 MeV protons on Chinese CMOS image sensor degradation
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作者 孟祥提 黄强 +3 位作者 马艳秀 郑永男 范平 朱升云 《Chinese Physics C》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第6期442-445,共4页
The 9 and 12 MeV proton irradiations of the Chinese CMOS Image Sensor in the fluence range from 1× 10^9 to 4×10^10 cm^-2 and 1 × 10^9 to 2×10^12 cm^-2 have been carried out respectively. The color ... The 9 and 12 MeV proton irradiations of the Chinese CMOS Image Sensor in the fluence range from 1× 10^9 to 4×10^10 cm^-2 and 1 × 10^9 to 2×10^12 cm^-2 have been carried out respectively. The color pictures and dark output images are captured, and the average brightness of dark output images is calculated. The anti-irradiation fluence thresholds for 9 and 12 MeV protons are about 4×10^l0 and 2×10^12 cm^-2, respectively. These can be explained by the change of the concentrations of irradiation-induced electron-hole pairs and vacancies in the various layers of CMOS image sensor calculated by the TRIM simulation program. 展开更多
关键词 semiconductor technology cmos image sensor proton irradiation average brightness TRIM simulation
原文传递
2.79μm中红外激光对CMOS图像传感器的辐照效应研究
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作者 王玺 赵楠翔 +5 位作者 张永宁 王毕艺 董骁 邹岩 雷武虎 胡以华 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2023年第6期386-392,共7页
研究中红外波段激光对CMOS图像传感器的辐照效应,对探索空间态势感知系统光学成像器件的激光干扰和损伤条件具有重要军事意义。开展了不同重频下2.79μm中红外激光对CMOS图像传感器的干扰与损伤实验。观察到CMOS图像传感器的饱和、过饱... 研究中红外波段激光对CMOS图像传感器的辐照效应,对探索空间态势感知系统光学成像器件的激光干扰和损伤条件具有重要军事意义。开展了不同重频下2.79μm中红外激光对CMOS图像传感器的干扰与损伤实验。观察到CMOS图像传感器的饱和、过饱和以及损伤产生的绿屏、彩色条纹、黑屏、亮线等一系列干扰损伤现象。同时测量了传感器各种辐照现象相对应的2.79μm中红外激光干扰损伤阈值,研究了图像传感器辐照效应与激光重频之间的内在关系,分析了2.79μm中红外激光对CMOS图像传感器的干扰损伤机理。研究表明,CMOS图像传感器的激光损伤主要以材料的热熔融为主,热效应明显。在激光重频10 Hz的辐照下,饱和干扰阈值为0.44 J/cm^(2)、过饱和阈值为0.97 J/cm^(2)、损伤阈值为203.71 J/cm^(2)。研究表明CMOS图像传感器具有很好的抗干扰和抗损伤能力,实验测得的相关阈值数据在空间激光攻防领域具有重要的参考价值。 展开更多
关键词 中红外激光 辐照效应 cmos图像传感器 损伤阈值
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激光干扰和损伤CMOS图像传感器研究进展(特邀) 被引量:2
5
作者 温佳起 卞进田 +3 位作者 李欣 孔辉 郭磊 吕国瑞 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2023年第6期371-385,共15页
高能激光是对抗光电成像系统的有效手段。随着互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)图像传感器性能和制作工艺的快速发展,其市场占有率已逐步赶超电荷耦合器件(Charge Coupled Device,CCD),成为当前主... 高能激光是对抗光电成像系统的有效手段。随着互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)图像传感器性能和制作工艺的快速发展,其市场占有率已逐步赶超电荷耦合器件(Charge Coupled Device,CCD),成为当前主流的图像传感器。CMOS图像传感器的激光干扰和损伤也随之成为国内外相关领域的研究热点。文中首先根据CMOS图像传感器的发展历程,对其结构和工作原理进行了介绍,并在此基础上简要分析了CMOS图像传感器在激光辐照过程中的薄弱环节,之后综述了CMOS在激光辐照下受到干扰及损伤现象的研究进展,并对干扰的评价方法和损伤阈值的主要测量方法进行了总结归纳,最后探讨了利用复合激光系统提升损伤CMOS图像传感器能力的发展现状和前景。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 激光辐照 干扰 损伤
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连续激光辐照CMOS相机的像素翻转效应及机理 被引量:6
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作者 盛良 张震 +1 位作者 张检民 左浩毅 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第6期39-42,共4页
为了研究激光对CMOS图像传感器的干扰效果,利用632.8 nm连续激光开展了对CMOS相机的饱和干扰实验。随着入射激光功率的增加,分别观察到未饱和、饱和、全屏饱和等现象,并发现,在全屏饱和前,功率密度达到1.4 W/cm^2后,光斑强区中心区域出... 为了研究激光对CMOS图像传感器的干扰效果,利用632.8 nm连续激光开展了对CMOS相机的饱和干扰实验。随着入射激光功率的增加,分别观察到未饱和、饱和、全屏饱和等现象,并发现,在全屏饱和前,功率密度达到1.4 W/cm^2后,光斑强区中心区域出现了像素翻转效应。进一步加大光敏面激光功率密度到95.1 W/cm2,激光作用停止后相机仍能正常成像,证明像素翻转效应并非源自硬损伤。基于CMOS相机芯片的结构和数据采集处理过程进行了机理分析,认为强光辐照产生的过量光生载流子使得光电二极管电容上原来充满的电荷被快速释放,使得相关双采样中的两次采样所得信号V_(reset)与V_(signal)逐渐接近,是输出像素翻转的一种可能原因。 展开更多
关键词 激光 图像传感器 辐照效应 cmos 像素翻转
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CMOS有源像素传感器的中子辐照位移损伤效应 被引量:4
7
作者 汪波 李豫东 +5 位作者 郭旗 文林 孙静 王帆 张兴尧 玛丽娅 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第9期202-206,共5页
为研究空间高能粒子位移损伤效应引起的星用CMOS图像传感器性能退化,对国产CMOS有源像素传感器进行了中子辐照试验,当辐射注量达到预定注量点时,采用离线的测试方法,定量测试了器件的暗信号、暗信号非均匀性、饱和输出电压、像素单元输... 为研究空间高能粒子位移损伤效应引起的星用CMOS图像传感器性能退化,对国产CMOS有源像素传感器进行了中子辐照试验,当辐射注量达到预定注量点时,采用离线的测试方法,定量测试了器件的暗信号、暗信号非均匀性、饱和输出电压、像素单元输出电压等参数的变化规律。通过对CMOS图像传感器敏感参数退化规律及其与器件工艺、结构的相关性进行分析,并根据半导体器件辐射效应理论,深入研究了器件参数退化机理。试验结果表明,暗信号和暗信号非均匀性随着中子辐照注量的增大而显著增大,饱和输出电压基本保持不变。暗信号的退化是因为位移效应在体硅内引入大量体缺陷增加了耗尽区内热载流子产生率,暗信号非均匀性的退化主要来自于器件受中子辐照后在像素与像素之间产生了大量非均匀性的体缺陷能级。另外,还在样品芯片上引出了独立的像素单元测试管脚,测试了不同积分时间下像素单元输出信号。 展开更多
关键词 cmos有源像素传感器 中子辐照 像素单元 饱和输出电压 位移效应
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CMOS图像传感器西安200MeV质子应用装置H^(-)辐照效应实验研究 被引量:5
8
作者 王祖军 薛院院 +8 位作者 刘卧龙 陈伟 王迪 焦仟丽 贾同轩 杨业 王茂成 王百川 王忠明 《现代应用物理》 2021年第3期126-130,139,共6页
为评估互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器(CIS)的辐照损伤效应,在西安200 MeV质子应用装置上,首次开展了65 nm工艺PPD CIS负氢离子(H^(-))辐照实验,在H^(-)能量为7 MeV,辐照注量分别为1×10^(11),5×10^(11),1×10^(12 ... 为评估互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器(CIS)的辐照损伤效应,在西安200 MeV质子应用装置上,首次开展了65 nm工艺PPD CIS负氢离子(H^(-))辐照实验,在H^(-)能量为7 MeV,辐照注量分别为1×10^(11),5×10^(11),1×10^(12 )cm^(-2)时,得到了H^(-)辐照诱发65 nm工艺PPD CIS性能退化的实验结果,分析了暗信号、暗信号不均匀性、暗信号尖峰及系统总增益等辐射敏感参数退化的实验规律和损伤机理。实验结果表明,H^(-)辐照后,PPD CIS的平均暗信号、DSNU和暗信号尖峰均随辐照注量增大而显著增大,系统总增益在H^(-)辐照后明显减小。辐照后经过168 h常温退火,暗信号分布曲线和光子转移曲线与退火前相比几乎没有变化。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 辐照效应 位移损伤 电离损伤 损伤机理
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CMOS图像传感器光子转移曲线辐照后的退化机理 被引量:10
9
作者 冯婕 李豫东 +2 位作者 文林 周东 马林东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期2676-2681,共6页
针对EMVA 1288标准测试辐照后互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器的重要性能参数(光子转移曲线和转换增益)适用范围受限的问题,提出了针对辐照后CMOS图像传感器光子转移曲线和转换增益的改进的测试方法。该方法通过调整测试条件,限... 针对EMVA 1288标准测试辐照后互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器的重要性能参数(光子转移曲线和转换增益)适用范围受限的问题,提出了针对辐照后CMOS图像传感器光子转移曲线和转换增益的改进的测试方法。该方法通过调整测试条件,限制辐照后CMOS图像传感器的暗电流和暗电流非均匀性噪声,求解出辐照后正确的器件性能参数,从而直观地得知辐照所引起的器件性能变化。利用该方法进行了实验测试,结果显示:辐照导致转换增益比辐照前退化了7.82%。依据此结果分析了辐照导致光子转移曲线和转换增益退化的机理,认为转换增益的退化是由于质子辐射引起的电离效应和位移效应导致暗电流、暗电流非均匀性增大所致。本文为掌握CMOS图像传感器的空间辐射效应提供了理论基础。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 辐照 光子转移曲线 转换增益
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CMOS图像传感器在质子辐照下热像素的产生和变化规律 被引量:2
10
作者 王田珲 李豫东 +5 位作者 文林 冯婕 蔡毓龙 马林东 张翔 郭旗 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1697-1704,共8页
应用于空间的图像传感器在辐射影响下产生的热像素严重影响空间光电探测性能,本文通过质子辐照试验研究了热像素的产生和变化规律。首先,使用3MeV和10MeV两种能量的质子对图像传感器进行辐照,分析不同能量、不同注量的质子辐照产生热像... 应用于空间的图像传感器在辐射影响下产生的热像素严重影响空间光电探测性能,本文通过质子辐照试验研究了热像素的产生和变化规律。首先,使用3MeV和10MeV两种能量的质子对图像传感器进行辐照,分析不同能量、不同注量的质子辐照产生热像素的性质;其次,再对辐照后的器件进行退火试验,分析热像素的退火规律。对于相同注量辐照,3MeV质子辐照下热像素产生率大约是10MeV质子辐照下的2.3倍,但是10MeV质子辐照产生热像素的灰度值高于3MeV质子;辐照过程中热像素的数量都是随着注量的增加线性增加。退火过程中,热像素数量都不断减少,而3MeV质子辐照产生的热像素相比于10MeV质子,退火更为显著。结果表明,质子辐照下每个质子与器件之间的作用过程及产生缺陷的机制是相对独立的,不同质子的作用过程之间没有相关性。不同能量的质子辐照产生缺陷的类型不同,导致热像素具有不同特性。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 热像素 质子辐照 位移损伤 暗信号
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CMOS传感器辐射损伤对视觉位姿测量系统性能的影响机制 被引量:3
11
作者 冯婕 李豫东 +1 位作者 文林 郭旗 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第B12期69-73,共5页
视觉位置姿态测量系统是在轨服务系统的重要组成部分。为了准确测量目标航天器部件的位置和姿态,针对CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)图像传感器在空间带电粒子辐照下光电敏感参数衰降,造成视觉系统性能退化的问题,利用C... 视觉位置姿态测量系统是在轨服务系统的重要组成部分。为了准确测量目标航天器部件的位置和姿态,针对CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)图像传感器在空间带电粒子辐照下光电敏感参数衰降,造成视觉系统性能退化的问题,利用CMOS传感器辐射损伤对视觉系统性能影响的理论与实验相结合的研究方法,结果显示:对CMOS传感器进行3.0 Me V质子辐照后,随着辐照注量增加,位置解算标准差迅速增大,当质子辐照注量为7.36×1010 p/cm2时,标准差为辐照前的4.41~17.86倍。姿态解算标准差随辐照注量增加而降低,姿态解算标准差在质子辐照注量为7.36×1010p/cm2时为辐照前的2.76~5.85倍。姿态解算精度要优于位置解算精度,这说明质子辐照对视觉系统位置解算精度的影响更大。该结果为掌握视觉系统的空间辐射效应奠定了基础。 展开更多
关键词 辐射物理 性能退化机制 辐照 cmos图像传感器 辐射损伤 视觉位置姿态测量
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8T CMOS图像传感器质子辐照效应研究 被引量:1
12
作者 傅婧 李豫东 +2 位作者 冯婕 文林 郭旗 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第12期2128-2134,共7页
本文对新型8T CMOS图像传感器进行了不同能量的质子辐照实验。由于质子辐照后同时引入电离总剂量(TID)效应和位移损伤剂量(DDD)效应,使得器件参数的退化机理复杂。为了具体区分导致不同参数退化的主要因素,采用等效TID法和等效DDD法。... 本文对新型8T CMOS图像传感器进行了不同能量的质子辐照实验。由于质子辐照后同时引入电离总剂量(TID)效应和位移损伤剂量(DDD)效应,使得器件参数的退化机理复杂。为了具体区分导致不同参数退化的主要因素,采用等效TID法和等效DDD法。实验得出DDD效应主要引起暗电流的退化,而TID效应主要导致光谱响应的退化,实验结果为辐射环境下图像传感器的加固设计提供了理论依据。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 钳位光电二极管 质子辐照 电离总剂量 位移损伤剂量
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脉冲激光辐照CMOS相机的图像间断现象及机理 被引量:7
13
作者 周旋风 陈前荣 +3 位作者 王彦斌 朱荣臻 李华 任广森 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第3期82-87,共6页
为了研究脉冲激光辐照CMOS相机时拍摄图像产生间断现象的原因,利用1 064 nm脉冲激光对卷帘快门式CMOS相机进行了辐照实验。在获得的图像中观测到了间断现象,表现为垂直方向上的亮区和暗区,计算表明各帧图像中暗区的行数为固定值。根据C... 为了研究脉冲激光辐照CMOS相机时拍摄图像产生间断现象的原因,利用1 064 nm脉冲激光对卷帘快门式CMOS相机进行了辐照实验。在获得的图像中观测到了间断现象,表现为垂直方向上的亮区和暗区,计算表明各帧图像中暗区的行数为固定值。根据CMOS图像传感器积分方式和扫描机制,分析了图像间断现象的形成机理为卷帘快门式CMOS存储的不同时性。理论计算结果与实验结果一致,并理论分析了完全无暗区图像存在的原因。提出了基于多帧间断图像采用拼接手段获得完整连续图像的方法,得到的图像与直接拍摄图像基本一致。 展开更多
关键词 脉冲激光 cmos 辐照效应 图像传感器
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质子辐照下4T CMOS图像传感器满阱容量退化模拟研究 被引量:5
14
作者 杨勰 王祖军 +4 位作者 尚爱国 霍勇刚 薛院院 贾同轩 焦仟丽 《现代应用物理》 2021年第3期131-139,共9页
以4T CMOS有源像素图像传感器为研究对象,开展了10 MeV不同注量质子辐照导致图像传感器满阱容量性能退化模拟研究,建立了CMOS图像传感器结构模型和质子辐照模型;结合满阱容量计算模型,分析了不同注量质子辐照对光电二极管(PPD)电容、TG... 以4T CMOS有源像素图像传感器为研究对象,开展了10 MeV不同注量质子辐照导致图像传感器满阱容量性能退化模拟研究,建立了CMOS图像传感器结构模型和质子辐照模型;结合满阱容量计算模型,分析了不同注量质子辐照对光电二极管(PPD)电容、TG沟道势垒及浮置节点(FD)与衬底形成的耗尽层的影响,揭示了辐照诱导满阱容量退化机理;在CMOS图像传感器结构设计基础上,提出了抗辐射设计方案。研究结果表明,质子辐照在氧化层中引入大量的氧化物陷阱电荷和界面态,使得PPD耗尽层展宽,导致光电二极管(PPD)电容下降;质子辐照在氧化层中产生正氧化物陷阱电荷,使得TG传输门沟道Si-SiO_(2)界面处产生感应负电荷,造成TG沟道势垒下降,暗电流增加,间接导致满阱容量下降;通过增大耗尽层中的重掺杂浓度和结深,采用非均匀沟道掺杂及在光电二极管与FD节点之间加入P型注入层并增大浓度,可有效提高PPD电容抗质子辐照能力。 展开更多
关键词 4T cmos图像传感器 质子辐照模拟 满阱容量 抗辐射设计
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CMOS图像传感器辐射损伤研究 被引量:2
15
作者 邹旸 黄景昊 《湖南理工学院学报(自然科学版)》 CAS 2017年第3期44-49,共6页
考虑γ射线辐射场对视频监控系统中CMOS图像传感器的辐照失效损伤,通过机理分析与辐照实验,研究图像传感器的辐射损伤效应以及对其性能参数的影响.设计辐照实验,选用同种工艺不同厂商生产的几类CMOS图像传感器,研究γ射线对CMOS图像传... 考虑γ射线辐射场对视频监控系统中CMOS图像传感器的辐照失效损伤,通过机理分析与辐照实验,研究图像传感器的辐射损伤效应以及对其性能参数的影响.设计辐照实验,选用同种工艺不同厂商生产的几类CMOS图像传感器,研究γ射线对CMOS图像传感器的损伤效应.实验结果表明,γ射线总剂量效应导致暗电流增大,从而使像素灰度值增大;γ射线瞬态电离效应在CMOS图像传感器像素阵列中形成雪花状的随机正向脉冲颗粒噪声,噪点的数量与剂量率相关;彩色图像受到入射γ光子的干扰相较于暗图像较弱;并且当累积剂量低于88.4Gy,剂量率低于58.3Gy/h时,不会产生坏点;光照充足时γ射线电离辐射对传感器分辨率、色度及暗电流的影响并不明显. 展开更多
关键词 cmos图像传感器 辐照实验 辐射损伤
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CMOS图像传感器中子位移辐照损伤效应仿真模拟研究 被引量:2
16
作者 王祖军 杨勰 +7 位作者 赖善坤 薛院院 聂栩 黄港 贾同轩 何宝平 马武英 缑石龙 《现代应用物理》 2022年第3期150-157,共8页
以180 nm工艺钳位光电二极管(PPD)像素结构的互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器(CIS)为研究对象,通过开展CIS像素单元的器件物理建模、中子辐照损伤效应建模,分别仿真模拟了不同中子辐照注量、不同积分时间、不同缺陷类型条件下,中... 以180 nm工艺钳位光电二极管(PPD)像素结构的互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器(CIS)为研究对象,通过开展CIS像素单元的器件物理建模、中子辐照损伤效应建模,分别仿真模拟了不同中子辐照注量、不同积分时间、不同缺陷类型条件下,中子位移辐照损伤诱发CIS暗信号和电荷转移损失(CTI)的退化规律。仿真模拟结果表明:暗信号和CTI均随中子辐照注量增大而增大,在达到饱和阈值之前,均呈近似线性关系;在相同的中子辐照注量下,积分时间越长,暗信号越大,CTI越小;多空位中心(E_(c)-0.46 eV)、双空位中心(E_(c)-0.42eV)、C_(i)-O_(i)中心(E_(V)+0.36 eV)3种不同体缺陷对暗信号和CTI退化的影响程度不同,E_(c)-0.46 eV是诱发暗信号和CTI退化的主要因素。仿真模拟的变化趋势与辐照实验测试的变化趋势相吻合。该仿真模拟研究为深入揭示CIS中子位移辐照损伤效应机理及抗辐射加固技术研究提供了理论依据。 展开更多
关键词 PPD cmos图像传感器 位移损伤 中子辐照 暗信号 电荷转移损失 仿真模拟
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脉冲颗粒噪声估计法估算CMOS图像传感器辐照强度
17
作者 林奎成 赵伟 吴柳青 《核电子学与探测技术》 CAS 北大核心 2021年第4期636-640,共5页
提出了一种基于自适应阈值分割和形态学灰度重建的图像脉冲颗粒噪声估计方法,用于CMOS图像传感器辐照噪声强度估计。分析了可由图像脉冲颗粒噪声估计辐照强度的依据;利用自适应國值估计方式,结合形态学膨胀腐蚀等操作,实现辐照图像中的... 提出了一种基于自适应阈值分割和形态学灰度重建的图像脉冲颗粒噪声估计方法,用于CMOS图像传感器辐照噪声强度估计。分析了可由图像脉冲颗粒噪声估计辐照强度的依据;利用自适应國值估计方式,结合形态学膨胀腐蚀等操作,实现辐照图像中的弱光照区域分制;采用形态学灰度重建方法,检测弱光照区域的脉冲颗粒噪声分布,统计脉冲颗粒噪声的数量及面积。实验表明:该方法在降低图像边缘信息干扰方面优于高斯拉普拉斯算子方法,检测结果稳定性优于固定阈值二值化方法。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 形态学灰度重建 自适应分割 辐照强度
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质子辐照对CMOS图像传感器传输栅损伤效应的实验与分析
18
作者 唐宁 王祖军 +2 位作者 晏石兴 李传洲 蒋镕羽 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期267-273,共7页
互补金属氧化物半导体图像传感器(CIS)是一种当前应用非常广泛的光电图像传感器,其应用在空间辐射环境中时遭受的质子辐照损伤问题一直备受关注。为了分析CIS内部重要结构受辐射损伤影响及辐照损失机理,开展了关于CIS传输栅的质子辐照实... 互补金属氧化物半导体图像传感器(CIS)是一种当前应用非常广泛的光电图像传感器,其应用在空间辐射环境中时遭受的质子辐照损伤问题一直备受关注。为了分析CIS内部重要结构受辐射损伤影响及辐照损失机理,开展了关于CIS传输栅的质子辐照实验,通过测试辐照前后转移特性曲线并提取阈值电压和饱和输出电流,总结CIS传输栅的辐照损伤实验规律。对常温下经过辐照后的CIS开展了退火测试,分析相关特征参数的变化情况。应用TCAD(Technology computer aided design)仿真模拟探究了传输栅的辐照损伤规律及损伤机理。辐照实验在西安200 MeV质子应用装置上进行,质子能量为60 MeV,注量分别为1×10^(10)、1×10^(11)、1×10^(12)cm^(−2)。实验结果表明:CIS传输栅的性能参数对质子辐照产生的电离损伤和位移损伤较为敏感,辐照后出现阈值电压正向漂移增加和饱和输出电流下降的现象,经退火后出现不同程度的恢复。分析了质子辐照CIS传输栅单管诱发的电离损伤和位移损伤效应,给出了CIS传输栅退化与质子辐照注量的变化关系曲线,并与TCAD仿真结果对比,总结了质子辐照损伤效应规律。 展开更多
关键词 遥感与传感器 光学器件 cmos图像传感器 质子辐照 辐照注量 退火测试
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激光辐射CCD的破坏机理分析 被引量:44
19
作者 钟海荣 陆启生 +2 位作者 文铁峰 刘泽金 许晓军 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期537-542,共6页
研究了国内外关于激光辐照CCD及其相似材料结构导致的各种效应,特别是软硬破坏效应,给出了各种破坏的阈值及实验方式;对各种破坏机理及理论模型进行了对比分析。
关键词 光电探测器 CCD 激光辐照 破坏机理
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质子辐照下正照式和背照式图像传感器的单粒子瞬态效应 被引量:3
20
作者 傅婧 蔡毓龙 +4 位作者 李豫东 冯婕 文林 周东 郭旗 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第5期176-183,共8页
CMOS图像传感器应用于空间任务时容易受到质子单粒子效应影响.本文采用商用正照式(FSI)和背照式(BSI)CMOS图像传感器开展了不同能量的质子辐照实验,实验中通过在线测试方法分析质子单粒子效应.其中,质子能量最高为200 MeV,总注量为10^(1... CMOS图像传感器应用于空间任务时容易受到质子单粒子效应影响.本文采用商用正照式(FSI)和背照式(BSI)CMOS图像传感器开展了不同能量的质子辐照实验,实验中通过在线测试方法分析质子单粒子效应.其中,质子能量最高为200 MeV,总注量为10^(10) particle/cm^(2),结果未发现外围电路的单粒子效应,但观察到像素阵列出现不同形状的单粒子瞬态亮斑.通过提取瞬态亮斑沉积能量和尺寸大小两个特征参数,比较了不同能量质子对瞬态亮斑特征的影响,以及FSI和BSI中瞬态亮斑特征的差异.最后,结合仿真方法,与实验结果进行比较,预测了质子在CMOS图像传感器像素单元产生瞬态亮斑的能量沉积分布.仿真结果验证了光电二极管耗尽区厚度减小和外延层减薄是导致BSI图像传感器中质子能量沉积分布左移的主要因素. 展开更多
关键词 cmos 图像传感器 质子辐照 单粒子效应 瞬态亮斑
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