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题名封装基板CO_2激光直接钻通孔工艺研究
被引量:2
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作者
孙宏超
王名浩
谢添华
李志东
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机构
广州兴森快捷电路科技有限公司
深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2015年第3期81-86,共6页
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文摘
文章就应用于封装基板的CO2激光直接钻通孔工艺进行了深入的探讨,对制作开口孔径为70 mm的通孔进行流程和参数优化。通过JMP软件设计优化试验,分析了各加工参数(脉宽、能量、枪数、光罩等)对开口孔径和孔真圆度的影响,并得出了最佳加工参数。最佳工艺参数为:脉宽7.1 ms,能量6.9 mj,光罩1.9 mm,枪数2shot,同时微蚀量控制在(0.6~0.8)mm,以此加工所得开口孔径为70.96 mm,真圆度为97.26%。在此基础上,对孔的可靠性能进行验证,验证结果证实了孔的可靠性能良好。
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关键词
封装基板
co2激光直接钻孔
通孔
优化试验设计
JMP
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Keywords
IC Substrate
co2 Laser Direct Drilling
VIP(Via in Pad)
DOE
JMP
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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