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CPU干刻清洗工艺在金属刻蚀去胶腔上的评价及应用
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作者 王倩 《电脑知识与技术》 2006年第10期142-144,共3页
本文以CPU金属刻蚀去胶腔为背景,简述干刻清洗工艺开发和评价过程。针对实际应用中的问题,展开讨论。通过实际案例分析.展示了CPU干刻清洗工艺的应用价值。
关键词 cpu干刻清洗 金属刻蚀 干刻 去胶腔 去胶速率
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