电蚀抛光CVD金刚石膜的实验研究

本文提出了一种新的CVD金刚石膜抛光技术。采用该项技术 ,可以高效率的完成CVD金刚石膜的粗抛光。CVD金刚石膜表面被预先涂覆一层导电金属 ,然后采用电蚀方法对该表面进行加工 ,使金刚石膜突起的尖峰被迅速去除。加工中金刚石表面的石墨化使电蚀加工得以不断延续。通过单脉冲放电试验已经发现涂覆层的材料对金刚石膜的加工效果有很大影响。与普通金属加工相比 ,金刚石膜的电蚀过程有其完全不同的特征。通过试验和分析 。

CVD金刚石膜抛光新技术

提出了一种新的 CVD金刚石膜抛光技术。金刚石膜表面被预先涂覆一层导电金属 ,然后采用电蚀方法对该表面进行加工 ,使金刚石膜突起的尖峰被迅速去除。加工中金刚石表面的石墨化使电蚀加工得以不断延续。采用 CVD金刚石膜抛光新技术 ,可以高效率地完成对

掺B金刚石膜的电火花抛光实验研究

通过化学气沉积过程中掺B,制备的金刚石膜电阻率下降10-19,导致金刚石膜整体导电,可采用电火花抛光。用扫描电镜和Raman分析了金刚石膜电加工表面的形貌和成分。金刚石膜的电火花抛光是多种效应综合作用的结果,即金刚石膜熔化、汽化、碳的氧化和蒸发、爆炸抛出、界面的化学反应以及金刚石的石墨化。通过实验研究了电加工参数对表面粗糙度和加工速度的影响,通过回归分析得到电火花抛光表面粗糙度和加工速度的经验公式,其相关系数的平方分别为0.91和0.99,表明拟合精度高。试验结果表明,放电电流和脉冲宽度对加工面的表面粗糙度和加工速度影响很大。放电电流为5 A、脉冲宽度为380μs时,抛光后表面粗糙度Ra<1μm。