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Dry Etching Characteristics of Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin Films
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作者 郑艳彬 李光 +2 位作者 王文龙 李秀昌 姜志刚 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第10期915-918,共4页
Amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) thin-film transistor (TFT) backplane technology is the best candidate for flat panel displays (FPDs). In this paper, a-IGZO TFT structures are described. The effects ... Amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) thin-film transistor (TFT) backplane technology is the best candidate for flat panel displays (FPDs). In this paper, a-IGZO TFT structures are described. The effects of etch parameters (rf power, dc-bias voltage and gas pressure) on the etch rate and etch profile are discussed. Three kinds of gas mixtures are compared in the dry etching process of a-IGZO thin films. Lastly, three problems are pointed out that need to be addressed in the dry etching process of a-IGZO TFTs. 展开更多
关键词 IGZO TFT dry etch plasma
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氢等离子体在铁催石墨化作用下对CVD金刚石膜的刻蚀 被引量:4
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作者 满卫东 汪建华 +3 位作者 王传新 马志斌 王升高 张宝华 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2006年第5期1-4,9,共5页
在铁薄膜的催石墨化作用下研究了用氢等离子体刻蚀由微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)制备的多晶金刚石厚膜的表面。其工艺为:自支撑的金刚石厚膜浸入饱和的三氯化铁水溶液中,然后平放在大气环境中干燥,将处理过后的金刚石膜放入MPCVD... 在铁薄膜的催石墨化作用下研究了用氢等离子体刻蚀由微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)制备的多晶金刚石厚膜的表面。其工艺为:自支撑的金刚石厚膜浸入饱和的三氯化铁水溶液中,然后平放在大气环境中干燥,将处理过后的金刚石膜放入MPCVD装置中,先用氢等离子体将氯化铁还原成铁,然后在800℃左右的温度下,利用铁对金刚石的催石墨化作用及氢等离子体的刻蚀作用将其表面刻蚀。刻蚀完后的金刚石用酸清洗,在丙酮溶液中漂洗,然后用SEM观察刻蚀效果,用Ram an光谱对表面碳的结构进行了表征。最后用机械研磨法对金刚石样品表面进行研磨,并对研磨结果进行对比。实验结果表明,这种方法能够有选择地快速刻蚀金刚石膜的表面,破坏表面晶粒的完整度,降低表面耐磨性,从而提高对粗糙金刚石膜表面研磨的效率。 展开更多
关键词 cvd 金刚石膜 刻蚀 等离子体
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氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜的影响机理 被引量:3
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作者 潘鑫 马志斌 +3 位作者 李国伟 曹为 王传新 付秋明 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第7期243-247,共5页
采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明:磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、... 采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明:磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、电子温度和等离子体密度都随之增大,刻蚀效果逐渐增强;当工作气压由低气压向高气压变化时,等离子体参数先增大后减小,CVD金刚石膜表面粗糙度降低程度也出现了相同的趋势。 展开更多
关键词 刻蚀 cvd金刚石 等离子体参数 ECR等离子体
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干法刻蚀图形化CVD金刚石膜研究进展 被引量:2
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作者 刘聪 汪建华 熊礼威 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2014年第2期29-35,共7页
CVD金刚石膜因其极高的强度和耐磨特性在微机电系统(MEMS)领域具有极好的应用前景,然而其极高的硬度和化学惰性又使其很难被加工成型,这极大地限制了CVD金刚石膜在MEMS领域的应用。本文主要介绍了近年来干法刻蚀图形化CVD金刚石膜的研... CVD金刚石膜因其极高的强度和耐磨特性在微机电系统(MEMS)领域具有极好的应用前景,然而其极高的硬度和化学惰性又使其很难被加工成型,这极大地限制了CVD金刚石膜在MEMS领域的应用。本文主要介绍了近年来干法刻蚀图形化CVD金刚石膜的研究进展,系统地分析了激光刻蚀,等离子体刻蚀,等离子体辅助固体刻蚀的原理及其各自优缺点,着重论述了国内外采用等离子体刻蚀CVD金刚石膜的研究现状。 展开更多
关键词 cvd金刚石膜 激光刻蚀 等离子体刻蚀 等离子体辅助固体刻蚀
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ECR等离子体刻蚀CVD金刚石膜的研究 被引量:1
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作者 潘鑫 马志斌 吴俊 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2013年第1期23-25,30,共4页
在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降... 在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降低。实际数据显示,刻蚀温度为20℃和150℃时,后者的刻蚀效果更好;工作气压为2×10-3Pa和3×10-2Pa时,前者的刻蚀效果更好;磁场强度为0.2T和0.15 T时,前者的刻蚀效果更强。 展开更多
关键词 ECR等离子体 cvd金刚石膜 刻蚀 基片温度 工作气压 磁场位形
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稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀 被引量:5
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作者 王佳宇 金爱子 +2 位作者 白亦真 纪红 金曾孙 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期172-174,共3页
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对... CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率. 展开更多
关键词 cvd 金刚石厚膜 刻蚀 稀土化合物浆料 表面形貌 生长表面 镜面抛光效率
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ECR等离子体刻蚀增强机械抛光CVD金刚石 被引量:4
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作者 潘鑫 马志斌 +2 位作者 高攀 李国伟 曹为 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期174-178,共5页
采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的... 采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的影响,结果发现:金刚石经ECR等离子体刻蚀后非晶碳含量有一定程度降低,刻蚀过程在金刚石晶面形成的疏松表面有利于机械抛光,金刚石表面平均粗糙度更加快速降低。对比实验表明等离子体刻蚀对机械抛光前期的抛光效率的增强效果更为明显,在ECR等离子体刻蚀后的金刚石样品经10min机械抛光后粗糙度从7.284下降到1.054μm,而直接机械抛光30min时金刚石的表面粗糙度为1.133μm,在机械抛光的初始阶段,等离子体刻蚀后的机械抛光效率是单纯机械抛光效率的3倍。最终,经过三次重复刻蚀后机械抛光,金刚石表面粗糙度降为0.045μm。 展开更多
关键词 刻蚀 机械抛光 电子回旋共振等离子体 化学气相沉积金刚石
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高温高压与CVD金刚石单晶衬底质量对比研究
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作者 杨旖秋 韩晓桐 +8 位作者 胡秀飞 李斌 彭燕 王希玮 胡小波 徐现刚 王笃福 刘长江 冯志红 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第9期1777-1784,共8页
本文通过高分辨X射线衍射(HRXRD)、激光拉曼光谱(Raman)、晶格畸变检测等测试分析方法对多组高温高压(HTHP)Ⅰb、HTHPⅡa和化学气相沉积(CVD)型(100)面金刚石单晶样品进行对比研究。HRXRD和Raman的检测结果均表明HTHPⅡa型金刚石单晶的... 本文通过高分辨X射线衍射(HRXRD)、激光拉曼光谱(Raman)、晶格畸变检测等测试分析方法对多组高温高压(HTHP)Ⅰb、HTHPⅡa和化学气相沉积(CVD)型(100)面金刚石单晶样品进行对比研究。HRXRD和Raman的检测结果均表明HTHPⅡa型金刚石单晶的结晶质量接近天然金刚石,其XRD摇摆曲线半峰全宽和Raman半峰全宽分别为0.015°~0.018°和1.45~1.85 cm^(-1)。晶格畸变检测仪的检测结果表明,HTHPⅡa型金刚石单晶的应力分布主要有两种:一种几乎无明显应力分布,另一种沿<110>方向呈对称的放射状分布,其他区域无晶格畸变。HTHPⅠb和CVD型金刚石单晶应力分布均相对分散,晶格畸变复杂,与其HRXRD和Raman的检测结果相符。进一步利用等离子体刻蚀法对三种类型金刚石单晶(100)面位错缺陷进行对比分析,结果表明,HTHPⅡa型金刚石位错密度为三者中最低,仅为1×10^(3) cm^(-2)。本研究为制备高质量大尺寸CVD金刚石单晶的衬底选择提供了实验依据。 展开更多
关键词 HTHPⅡa金刚石 HTHPⅠb金刚石 cvd金刚石 结晶质量 应力 等离子体刻蚀 位错密度
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CVD金刚石薄膜的抗腐蚀性研究 被引量:1
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作者 张东平 乐德芬 胡一贯 《微细加工技术》 2001年第2期40-43,共4页
用微波等离子体化学气相沉积法在硅衬底上生长了金刚石薄膜 ;通过扫描电子显微镜和喇曼散射光谱对其性质进行了表征。将生成的样品分别放在氢氧化钾 ,四乙基氢氧化铵以及氢氟酸、硝酸和冰醋酸混合液中进行腐蚀研究 ,结果发现在氢氧化钾... 用微波等离子体化学气相沉积法在硅衬底上生长了金刚石薄膜 ;通过扫描电子显微镜和喇曼散射光谱对其性质进行了表征。将生成的样品分别放在氢氧化钾 ,四乙基氢氧化铵以及氢氟酸、硝酸和冰醋酸混合液中进行腐蚀研究 ,结果发现在氢氧化钾腐蚀液中 ,金刚石薄膜出现片状脱落现象 ,而在后两种腐蚀液中却表现出良好的抗腐蚀性。 展开更多
关键词 化学气相沉积 金刚石薄膜 腐蚀
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CVD-SiC阵列结构对ZrB_(2)/SiC涂层抗烧蚀性影响
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作者 高志廷 马壮 柳彦博 《航空学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期261-274,共14页
采用飞秒激光在化学气相沉积(CVD)-SiC中间层表面制备不同尺寸的阵列,研究了阵列结构对ZrB_(2)/SiC涂层性能的影响。结果表明,随着激光刻蚀频次的增大,阵列结构的深度从30μm增大到150μm。采用氧乙炔烧蚀600 s,ZrB_(2)/SiC涂层烧蚀表... 采用飞秒激光在化学气相沉积(CVD)-SiC中间层表面制备不同尺寸的阵列,研究了阵列结构对ZrB_(2)/SiC涂层性能的影响。结果表明,随着激光刻蚀频次的增大,阵列结构的深度从30μm增大到150μm。采用氧乙炔烧蚀600 s,ZrB_(2)/SiC涂层烧蚀表面温度随CVD-SiC微结构深度增大而逐步降低,最低的表面温度达到1700℃,下降了约200℃。烧蚀中心区域的颜色从白色过渡到浅灰色。对于激光刻蚀频次为5的试样,在600 s的单次烧蚀后,质量烧蚀率和线性烧蚀率分别为-7.4×10^(-5)g/s和-13.3μm/s。阵列结构增大了ZrB_(2)/SiC涂层与CVD-SiC中间层的接触面积,从而增强了导热性能,减少了热积聚,进而改善了ZrB_(2)/SiC涂层的抗烧蚀性能。 展开更多
关键词 阵列结构 烧蚀 等离子喷涂 C/C复合材料 cvd-SiC 激光刻蚀
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ICP dry etching ITO to improve the performance of GaN-based LEDs
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作者 孟丽丽 陈依新 +2 位作者 马莉 刘自可 沈光地 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期65-68,共4页
In order to improve the light efficiency of the conventional GaN-based light-emitting diodes (LEDs), the indium tin oxide (ITO) film is introduced as the current spreading layer and the light anti-reflecting layer... In order to improve the light efficiency of the conventional GaN-based light-emitting diodes (LEDs), the indium tin oxide (ITO) film is introduced as the current spreading layer and the light anti-reflecting layer on the p-GaN surface. There is a big problem with the ITO thin film's corrosion during the electrode preparation. In this paper, at least, the edge of the ITO film was lateral corroded 3.5μm width, i.e. 6.43%-1/3 of ITO film's area. An optimized simple process, i.e. inductively couple plasma (ICP), was introduced to solve this problem. The ICP process not only prevented the ITO film from lateral corrosion, but also improved the LED's light intensity and device performance. The edge of the ITO film by ICP dry etching is steep, and the areas of ITO film are whole. Compared with the chip by wet etching, the areas of light emission increase by 6.43% at least and the chip's lop values increase by 45.9% at most. 展开更多
关键词 ITO lateral corrosion dry etching light extraction efficiency
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Dry etching of new phase-change material Al_(1.3)Sb_3Te in CF_4/Ar plasma
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作者 张徐 饶峰 +10 位作者 刘波 彭程 周夕淋 姚栋宁 郭晓慧 宋三年 王良咏 成岩 吴良才 宋志棠 封松林 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第10期10-15,共6页
The dry etching characteristic of AlSbTe film was investigated by using a CF/Ar gas mixture.The experimental control parameters were gas flow rate into the chamber,CF/Ar ratio,the Oaddition,the chamber background pres... The dry etching characteristic of AlSbTe film was investigated by using a CF/Ar gas mixture.The experimental control parameters were gas flow rate into the chamber,CF/Ar ratio,the Oaddition,the chamber background pressure,and the incident RF power applied to the lower electrode.The total flow rate was 50 sccm and the behavior of etch rate of AlSbTe thin films was investigated as a function of the CF/Ar ratio,the Oaddition,the chamber background pressure,and the incident RF power.Then the parameters were optimized.The fast etch rate was up to 70.8 nm/min and a smooth surface was achieved using optimized etching parameters of CFconcentration of 4%,power of 300 W and pressure of 80 mTorr. 展开更多
关键词 Al1.3Sb3Te dry etching CF4/Ar gas mixture etch rate
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High-Power and High-Efficiency 650nm-Band AlGaInP Visible Laser Diodes Fabricated by Ion Beam Etching
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作者 徐云 曹青 +4 位作者 孙永伟 叶晓军 侯识华 郭良 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1079-1083,共5页
High power and high-slope efficiency 650nm band real-refractive-index ridge w aveguide AlGaInP laser diodes with compressive strained MQW active layer are for med by pure Ar ion beam etching process.Symmetric laser me... High power and high-slope efficiency 650nm band real-refractive-index ridge w aveguide AlGaInP laser diodes with compressive strained MQW active layer are for med by pure Ar ion beam etching process.Symmetric laser mesas with high perpendi cularity,which are impossible to obtain by traditional wet etching method due to the use of a 15°-misoriented substrate,are obtained by this dry etching metho d.Laser diodes with 4μm wide,600μm long and 10%/90% coat are fabricated.Th e typical threshold current of these devices is 46mA at room temperature,and a s table fundamental-mode operation over 40mW is obtained.Very high slope efficien cy of 1.4W/A at 10mW and 1.1W/A at 40mW are realized. 展开更多
关键词 AlGaInP visible lasers Ar ion beam dry etching
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Alkali and Plasma-Treated Guadua angustifolia Bamboo Fibers:A Study on Reinforcement Potential for Polymeric Matrices
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作者 Patricia Luna Juan Lizarazo-Marriaga Alvaro Mariño 《Journal of Renewable Materials》 EI CAS 2024年第8期1399-1416,共18页
This study focuses on treating Guadua angustifolia bamboo fibers to enhance their properties for reinforcement applications in composite materials.Chemical(alkali)and physical(dry etching plasma)treatments were used s... This study focuses on treating Guadua angustifolia bamboo fibers to enhance their properties for reinforcement applications in composite materials.Chemical(alkali)and physical(dry etching plasma)treatments were used separately to augment compatibility of Guadua angustifolia fibers with various composite matrices.The influence of these treatments on the fibers’performance,chemical composition,and surface morphology were analyzed.Statistical analysis indicated that alkali treatments reduced the tensile modulus of elasticity and strength of fibers by up to 40%and 20%,respectively,whereas plasma treatments maintain the fibers’mechanical performance.FTIR spectroscopy revealed significant alterations in chemical composition due to alkali treatments,while plasma-treated fibers showed minimal changes.Surface examination through Scanning Electron Microscopy(SEM)revealed post-treatment modifications in both cases;alkali treatments served as a cleanser,eliminating lignin and hemicellulose from the fiber surface,whereas plasma treatments also produce rough surfaces.These results validate the impact of the treatments on the fiber mechanical performance,which opens up possibilities for using Guadua angustifolia fibers as an alternative reinforcement in composite manufacturing. 展开更多
关键词 Bamboo fibers Guadua angustifolia alkali treatment dry etching plasma treatment composite reinforcement
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铁刻蚀CVD金刚石膜辅助机械抛光
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作者 邢文娟 汪建华 +2 位作者 满卫东 严朝辉 谢鹏 《硬质合金》 CAS 北大核心 2007年第4期207-210,共4页
采用直流溅射方法在化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面镀上一层铁薄膜,在氢等离子体条件下利用铁对金刚石膜的快速刻蚀实现初抛光,然后再进行机械抛光,提高抛光效率。
关键词 cvd 金刚石膜 微波等离子体 刻蚀 抛光
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CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀(英文)
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作者 王佳宇 白亦真 +3 位作者 陈宏宇 吕宪义 金曾孙 纪红 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第3期240-243,共4页
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术,是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究,刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果,用扫描电子显微镜给出。实验表... 与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术,是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究,刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果,用扫描电子显微镜给出。实验表明 ,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料,具有简单、安全、高效的特点。 展开更多
关键词 cvd 金刚石厚膜 刻蚀 稀土化合物浆料
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Etching‐assisted femtosecond laser modification of hard materials 被引量:16
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作者 Xue-Qing Liu Ben-Feng Bai +1 位作者 Qi-Dai Chen Hong-Bo Sun 《Opto-Electronic Advances》 2019年第9期1-14,共14页
With high hardness, high thermal and chemical stability and excellent optical performance, hard materials exhibit great potential applications in various fields, especially in harsh conditions. Femtosecond laser ablat... With high hardness, high thermal and chemical stability and excellent optical performance, hard materials exhibit great potential applications in various fields, especially in harsh conditions. Femtosecond laser ablation has the capability to fabricate three-dimensional micro/nanostructures in hard materials. However, the low efficiency, low precision and high surface roughness are the main stumbling blocks for femtosecond laser processing of hard materials. So far, etching- assisted femtosecond laser modification has demonstrated to be the efficient strategy to solve the above problems when processing hard materials, including wet etching and dry etching. In this review, femtosecond laser modification that would influence the etching selectivity is introduced. The fundamental and recent applications of the two kinds of etching assisted femtosecond laser modification technologies are summarized. In addition, the challenges and application prospects of these technologies are discussed. 展开更多
关键词 FEMTOSECOND laser HARD materials WET etchING dry etchING
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微波等离子体刻蚀对WC-Co硬质合金基体金刚石薄膜附着力的影响 被引量:12
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作者 刘学深 孙方宏 +1 位作者 陈明 张志明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2001年第5期5-8,共4页
金刚石薄膜的附着力是影响CVD金刚石涂层刀具切削性能的关键因素。本文采用EACVD法在硬质合金 (YG6 )基体上沉积金刚石涂层 ;用Ar -H2 微波等离子对WC -Co衬底进行刻蚀处理 ,以改变基体表面与金刚石涂层间的界面结构 ,提高金刚石涂层的... 金刚石薄膜的附着力是影响CVD金刚石涂层刀具切削性能的关键因素。本文采用EACVD法在硬质合金 (YG6 )基体上沉积金刚石涂层 ;用Ar -H2 微波等离子对WC -Co衬底进行刻蚀处理 ,以改变基体表面与金刚石涂层间的界面结构 ,提高金刚石涂层的附着力 ;采用压痕法评估涂层附着力 ;借助SEM等观察刻蚀预处理方法对膜基界面的影响 ,并对此进行分析和讨论。 展开更多
关键词 cvd 金刚石涂层 微波等离子刻蚀 硬质合金 金刚石薄膜 附着力 涂层刀具
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Application of ultra-smooth composite diamond film coated WC-Co drawing dies under water-lubricating conditions 被引量:5
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作者 沈彬 孙方宏 +2 位作者 张志明 沈荷生 郭松寿 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期161-169,共9页
A specific revised HFCVD apparatus and a novel process combining HFCVD and polishing technique were presented to deposit the micro-and nano-crystalline multilayered ultra-smooth diamond(USCD) film on the interior-ho... A specific revised HFCVD apparatus and a novel process combining HFCVD and polishing technique were presented to deposit the micro-and nano-crystalline multilayered ultra-smooth diamond(USCD) film on the interior-hole surface of WC-Co drawing dies with aperture ranging from d1.0 mm to 60 mm.Characterization results indicate that the surface roughness values(Ra) in the entry zone,drawing zone and bearing zone of as-fabricated USCD coated drawing die were measured as low as 25.7,23.3 and 25.5 nm,respectively.Furthermore,the friction properties of USCD films were examined in both dry sliding and water-lubricating conditions,and the results show that the USCD film presents much superior friction properties.Its friction coefficients against ball-bearing steel,copper and silicon nitride balls(d4 mm),is always lower than that of microcrystalline diamond(MCD) or WC-Co sample,regardless of the lubricating condition.Meanwhile,it still presents competitive wear resistance with the MCD films.Finally,the working lifetime and performance of as-fabricated USCD coated drawing dies were examined under producing low-carbon steel pipes in dry-sliding and water-lubricating conditions.Under the water-lubricating drawing condition,its production significantly increases by about 20 times compared with the conventional WC-Co drawing dies. 展开更多
关键词 cvd diamond coated drawing die ultra-smooth composite diamond(USCD) film friction properties water-lubricating drawing dry sliding water lubrication
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宽带RF-MEMS开关驱动电压的分析研究 被引量:7
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作者 孙建海 崔大付 +1 位作者 苏波 王海宁 《微纳电子技术》 CAS 2004年第9期37-40,48,共5页
根据国内外发展的经验,从绝缘介质膜的制备、微桥膜内的残余应力到微桥膜的弹性系数这些影响驱动电压的关键因素出发,提出了一些新的微加工工艺和设计方法,为设计性能优良的RF-MEMS开关提供一种有效的方案,也为RF-MEMS开关设计和研制提... 根据国内外发展的经验,从绝缘介质膜的制备、微桥膜内的残余应力到微桥膜的弹性系数这些影响驱动电压的关键因素出发,提出了一些新的微加工工艺和设计方法,为设计性能优良的RF-MEMS开关提供一种有效的方案,也为RF-MEMS开关设计和研制提供了有意义的探讨。 展开更多
关键词 宽带RF-MEMS开关 驱动电压 高密度感应耦合等离子体化学汽相淀积 二氟化氙(XeF2)干法刻蚀
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